磁控溅射TiN薄膜的工艺及电学性能研究 被引量：14

1

作者 胡敏 刘莹 +2 位作者 赖珍荃 刘倩 朱秀榕 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期222-225,共4页

采用反应直流磁控溅射法，在Si基底上制备TiN薄膜。研究了溅射沉积过程申溅射气压和Ar／N2气体流量比对TiN薄膜结构及其电学性能的影响，并对试验结果进行了分析。研究发现，在Ar／N2气体流量比为15：1时，TiN薄膜的表面均方根粗糙度和... 采用反应直流磁控溅射法，在Si基底上制备TiN薄膜。研究了溅射沉积过程申溅射气压和Ar／N2气体流量比对TiN薄膜结构及其电学性能的影响，并对试验结果进行了分析。研究发现，在Ar／N2气体流量比为15：1时，TiN薄膜的表面均方根粗糙度和电阻率都为最小。当溅射气压增大时，薄膜厚度减小。当溅射气压为0．3～0．5Pa时，薄膜表面较光滑，电阻率较小。 展开更多

关键词 TIN薄膜 磁控溅射 氩气/氮气流量比 溅射气压 电学性能

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电弧离子镀沉积工艺参数的影响 被引量：13

2

作者 赵彦辉 史文博 +2 位作者 刘忠海 刘占奇 于宝海 《真空》 CAS 2018年第6期49-59,共11页

电弧离子镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。但是在薄膜沉积过程中的工艺参数如弧电流、沉积气压、沉积温度等对薄膜结构及性能的影响多分散于不同的文献中,不利于对这些参数的认识与深... 电弧离子镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。但是在薄膜沉积过程中的工艺参数如弧电流、沉积气压、沉积温度等对薄膜结构及性能的影响多分散于不同的文献中,不利于对这些参数的认识与深入理解。本文综述了电弧离子镀中的工艺参数的作用,这些参数包括弧电流、弧电压、沉积气压、靶基距、基体偏压、沉积温度及外加磁场等。通过对薄膜沉积过程中工艺参数的总结,可加深这些参数对薄膜结构及性能影响规律的理解,促进真空镀膜技术的工艺开发及技术进步。 展开更多

关键词 电弧离子镀 弧电流 沉积气压 基体偏压 沉积温度

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硬质合金刀具基体沉积低表面粗糙度金刚石薄膜的工艺研究 被引量：6

3

作者 陈明 孙方宏 +2 位作者 张志明 沈荷生 胡德金 《工具技术》 北大核心 2000年第3期9-13,共5页

CVD金刚石薄膜刀具的表面粗糙度是影响刀具切削性能的重要参数。为通过改进CVD沉积工艺减小金刚石薄膜表面粗糙度 ,提出了适当提高碳源浓度和合理控制沉积气压两项新的工艺方法 。

关键词 CVD 金刚石薄膜 表面粗糙度 硬质合金刀具

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Parylene高频电路防护工艺研究进展 被引量：7

4

作者 仝晓刚 《电子工艺技术》 2011年第5期272-276,共5页

从前处理、升华温度、裂解温度、沉积压力、基体温度和膜层厚度等方面讨论了Parylene处理技术在国内外高频电路防护方面的应用概况。重点介绍了这些工艺要素与Parylene膜层性能的相关性,并指出了膜层厚度及均匀度是影响高频电路防护的... 从前处理、升华温度、裂解温度、沉积压力、基体温度和膜层厚度等方面讨论了Parylene处理技术在国内外高频电路防护方面的应用概况。重点介绍了这些工艺要素与Parylene膜层性能的相关性,并指出了膜层厚度及均匀度是影响高频电路防护的关键因素,膜层厚度需要通过试验进行确定,简要论述了Parylene膜层的沉积机理与Parylene处理技术在毫米波电路防护上应用的工艺流程。同时指出了Parylene处理技术在高频电路防护应用中存在的不足之处,为以后的研究指明了方向。 展开更多

关键词 PARYLENE 电路防护 化学气象沉积 沉积压力

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CVD关键工艺参数对(Ni,Pt)Al涂层高温防护性能影响

5

作者 刘玉琢 王鑫 +2 位作者 李娜 甄真 许振华 《真空》 CAS 2024年第3期63-69,共7页

采用化学气相沉积(CVD)工艺,在不同沉积温度和沉积真空度下分别在镍基单晶合金上制备了三种(Ni,Pt)Al涂层,研究了CVD关键工艺参数对(Ni,Pt)Al涂层高温防护性能的影响。借助X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)等表征方... 采用化学气相沉积(CVD)工艺,在不同沉积温度和沉积真空度下分别在镍基单晶合金上制备了三种(Ni,Pt)Al涂层,研究了CVD关键工艺参数对(Ni,Pt)Al涂层高温防护性能的影响。借助X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)等表征方法系统分析了三种(Ni,Pt)Al涂层的相结构、显微组织和化学成分。结果表明:在同一沉积真空度下随着沉积温度升高,涂层衍射峰向大角度方向偏移;在同一沉积温度下随着沉积压力变大,涂层衍射峰向小角度方向偏移;随着沉积温度和沉积压力的同时提升,涂层表面的晶粒尺度呈现增大趋势,涂层厚度也随之增加;经1100℃/250 h静态氧化和900℃/100 h燃气热腐蚀性能评价后,沉积温度为1080℃且沉积真空度为300 mbar的涂层样品,其氧化动力学增重值均小于其他两种涂层样品,该工艺制备的涂层高温防护性能最佳。控制涂层表面局部位置氧化膜内显微裂纹的过早萌生与滋长行为,以及降低燃气热腐蚀诱发的非稳态氧化膜脱落残留的凹坑数量是改善(Ni,Pt)Al涂层高温抗氧化腐蚀性能的CVD工艺优化方向。 展开更多

关键词 化学气相沉积 (Ni Pt)Al涂层 沉积温度 沉积真空度 防护性能

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HFCVD法制备金刚石薄膜影响因素的研究进展 被引量：6

6

作者 向耿辉 邸永江 +1 位作者 杨声平 杨号 《广州化工》 CAS 2016年第3期20-22,共3页

金刚石薄膜由于其独特的性能成为研究热点。本文通过利用热丝气相沉积法(HFCVD)在基片上制备金刚石薄膜,研究对金刚石薄膜产生影响的各个因素,探讨各个影响因素的研究进展。基体表面预处理,可以提高基体的附着力,改善提高膜基结合力。... 金刚石薄膜由于其独特的性能成为研究热点。本文通过利用热丝气相沉积法(HFCVD)在基片上制备金刚石薄膜,研究对金刚石薄膜产生影响的各个因素,探讨各个影响因素的研究进展。基体表面预处理,可以提高基体的附着力,改善提高膜基结合力。通过改变甲烷和氢气浓度、沉积气压、温度等工艺参数,可影响是否能在基片上形成金刚石晶核,生成金刚石薄膜。通过对以上影响因素的研究进展,探讨制备过程各个最适宜的反应条件。 展开更多

关键词 热丝化学气相沉积 金刚石薄膜 表面预处理 基片温度 沉积气压

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沉积气压对杂化离子镀TiCN薄膜结构和性能的影响 被引量：6

7

作者 王宇 黄美东 +3 位作者 李云珂 陈泽昊 张臣 杨明敏 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期24-29,共6页

TiCN薄膜在刀模具领域有着广泛的应用前景,但它的结构和性能往往随制备工艺参数的不同而有较大差异。为了研究沉积气压对杂化离子镀TiCN薄膜结构和性能的影响,找到合适的Ar和N2分压比以优化工艺参数,采用杂化离子镀技术在高速钢、硅片... TiCN薄膜在刀模具领域有着广泛的应用前景,但它的结构和性能往往随制备工艺参数的不同而有较大差异。为了研究沉积气压对杂化离子镀TiCN薄膜结构和性能的影响,找到合适的Ar和N2分压比以优化工艺参数,采用杂化离子镀技术在高速钢、硅片以及不锈钢片表面制备TiCN薄膜,通过改变沉积过程中Ar和N2的分压获得不同的薄膜。用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、维氏硬度计、摩擦磨损仪、XP-2台阶仪对薄膜的物相结构、表面形貌、显微硬度、摩擦因数和沉积速率进行表征。结果表明:TiCN膜层择优生长方向主要表现为TiCN相的(111)晶面;试验中保持Ar分压为0.1Pa不变,增加N2分压,即沉积气压增大,薄膜的显微硬度先升高再降低,对应摩擦因数先降低再升高,沉积速率不断减小最终趋于平缓,而表面形貌受沉积气压变化的影响很小。 展开更多

关键词 杂化离子镀 TiCN薄膜 沉积气压 显微硬度 摩擦磨损性能

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沉积压力对Parylene C膜性能的影响 被引量：6

8

作者 唐贤臣 鲜晓斌 +2 位作者 吉祥波 赵宗峰 陈艳平 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第11期47-48,共2页

采用X射线衍射(XRD),MOCON透湿仪等研究了不同沉积压力下制备Parylene C膜的结晶度、水蒸汽透过性、拉伸强度、雾度、透明度随沉积压力的变化规律。结果表明,随着沉积室压力升高,Parylene C膜相对结晶度、透湿性能、拉伸强度、透明度下... 采用X射线衍射(XRD),MOCON透湿仪等研究了不同沉积压力下制备Parylene C膜的结晶度、水蒸汽透过性、拉伸强度、雾度、透明度随沉积压力的变化规律。结果表明,随着沉积室压力升高,Parylene C膜相对结晶度、透湿性能、拉伸强度、透明度下降,雾度增大。 展开更多

关键词 PARYLENE C 沉积压力 结晶度

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沉积气压对AlCrTiSiN涂层组织结构、力学与抗高温氧化性能的影响

9

作者 管梦雪 范其香 +5 位作者 郭明璐 张硕 郝雪卉 吴正环 曹凤婷 王铁钢 《材料保护》 CAS CSCD 2024年第5期128-136,共9页

沉积气压是涂层制备的重要工艺参数,为研究其对AlCrTiSiN纳米复合涂层组织结构、力学性能与抗高温氧化性能的影响,采用射频磁控溅射和脉冲直流磁控溅射复合技术,改变沉积气压(0.6,0.8 Pa)制备出2种AlCrTiSiN纳米复合涂层,并利用X射线衍... 沉积气压是涂层制备的重要工艺参数,为研究其对AlCrTiSiN纳米复合涂层组织结构、力学性能与抗高温氧化性能的影响,采用射频磁控溅射和脉冲直流磁控溅射复合技术,改变沉积气压(0.6,0.8 Pa)制备出2种AlCrTiSiN纳米复合涂层,并利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)及其附带的能谱仪(EDS)、纳米压痕仪等对比分析了2种涂层的结构与性能。结果表明:2种沉积气压下制备涂层的相结构均为fcc-(Al,Cr,Ti)N,均沿(111)晶面择优生长,但0.8 Pa制备涂层的(111)织构系数更大,表明其择优取向更明显。与沉积气压为0.8 Pa制备的涂层相比,0.6 Pa制备的涂层表面颗粒更细小,涂层更致密,具备更佳的力学性能,拥有更优异的抗弹性变形能力、抗塑性变形能力和膜基结合力。这一方面是因为在低沉积气压下沉积粒子到达基体上的能量更大;另一方面是由于0.8 Pa制备的涂层中可能出现了厚度较大并且较软的Si_(3)N_(4)相。在900℃氧化6 h后,涂层表面均生成了一层连续、致密的Al_(2)O_(3)混合氧化膜,有效阻止了O向涂层内扩散,可对氧化膜下方涂层起到一定的保护作用。随着沉积气压由0.6 Pa增加到0.8 Pa,氧化物颗粒增大,氧化膜厚度增大,抗高温氧化性能下降。 展开更多

关键词 磁控溅射 沉积气压 组织结构 力学性能 抗高温氧化性能

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沉积压力对非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti复合薄膜的结构与性能影响研究 被引量：6

10

作者 周晖 万志华 +2 位作者 郑军 桑瑞鹏 温庆平 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期9-12,41,共5页

采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积压力对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF、轮廓仪和XRD分析测试薄膜的成分、厚度和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机... 采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积压力对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF、轮廓仪和XRD分析测试薄膜的成分、厚度和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明:降低沉积压力使溅射粒子的平均自由程变大,薄膜沉积过程中再溅射作用加强,对薄膜的结构和性能产生较大的影响。沉积压力升高,薄膜中S和Mo原子比和Ti质量分数随之增大,变化范围分别为1.50～1.77和5.8%～8.1%,薄膜沉积厚度先增大后减小,薄膜晶相结构从明显的(002)基面优势取向向准晶态转变;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随沉积压力的升高而降低,薄膜硬度变化范围是5.7～3.5GPa,薄膜与基底间附着力变化范围是100～75mN;薄膜在真空环境中的减摩性能不受工作压力变化影响,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随沉积压力升高依次为9000,21500,28000,18000m,工作压力低时再溅射作用破坏了MoS2分子层间的滑移能力从而使其耐磨寿命降低。 展开更多

关键词 非平衡磁控溅射 MoS2-Ti复合薄膜 沉积压力 结构和性能

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沉积压力对磁控溅射纳米硅薄膜结构和性能影响 被引量：5

11

作者 于军 王晓晶 +2 位作者 雷青松 彭刚 徐玮 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期556-560,共5页

采用射频（RF）磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了氢化纳米硅薄膜,研究了沉积压力（4-9 Pa）对薄膜结构和性能的影响。利用XRD、SEM、紫外-可见光分光光度计、傅立叶红外吸收光谱仪（FT-IR）及四探针电阻测试仪等对薄膜结构和性能进行了... 采用射频（RF）磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了氢化纳米硅薄膜,研究了沉积压力（4-9 Pa）对薄膜结构和性能的影响。利用XRD、SEM、紫外-可见光分光光度计、傅立叶红外吸收光谱仪（FT-IR）及四探针电阻测试仪等对薄膜结构和性能进行了表征。结果表明：随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸降低;薄膜光学带隙在2.04-2.3 eV之间,且随着沉积压力的提高而增加;薄膜具有SiH、SiO、SiH2和SiH3振动吸收峰,随着沉积压力的增加,SiH、SiH2振动吸收峰向高波数移动,薄膜方块电阻在132-96Ω/□,且随着沉积压力的升高而降低。 展开更多

关键词 氢化纳米硅 磁控溅射 沉积压力 光学带隙

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沉积气压对W-S-C复合薄膜结构和摩擦学性能的影响 被引量：5

12

作者 韦春贝 代明江 +2 位作者 侯惠君 林松盛 赵利 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2012年第6期69-73,共5页

采用磁控溅射方法制备W-S-C复合薄膜,研究沉积气压对薄膜结构和摩擦学性能的影响。结果表明,复合膜以非晶或纳米晶结构生长,沉积气压低时薄膜中C含量高,薄膜结构致密;沉积气压高时薄膜中WSx含量高,薄膜致密性下降。复合膜硬度在HV420～... 采用磁控溅射方法制备W-S-C复合薄膜,研究沉积气压对薄膜结构和摩擦学性能的影响。结果表明,复合膜以非晶或纳米晶结构生长,沉积气压低时薄膜中C含量高,薄膜结构致密;沉积气压高时薄膜中WSx含量高,薄膜致密性下降。复合膜硬度在HV420～500之间,并且随着沉积气压的增加,硬度逐渐下降。在潮湿大气中的摩擦磨损实验表明,实验载荷越大摩擦因数越小;随着沉积气压的增加,复合膜的摩擦因数先降低后增加;当沉积气压在0.45～0.55 Pa时,复合膜的摩擦因数最低约为0.1,耐磨性能最好。 展开更多

关键词 W—S—C复合膜 沉积气压 结构 硬度 摩擦学性能

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微波化学气相沉积中气压对金刚石薄膜生长速率和质量的影响 被引量：5

13

作者 李晓红 郭晚土 +5 位作者 陈学康 吴敢 杨建平 王瑞 曹生珠 余荣 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期7183-7187,共5页

研究了微波化学气相沉积中沉积气压对金刚石薄膜生长速率和质量的影响.研究表明,金刚石薄膜的生长速率随沉积气压的提高而增大,生长速率与沉积气压为线性关系.在高沉积气压下生长的金刚石薄膜晶形完整,拉曼谱测量可得到锐利的金刚石相的... 研究了微波化学气相沉积中沉积气压对金刚石薄膜生长速率和质量的影响.研究表明,金刚石薄膜的生长速率随沉积气压的提高而增大,生长速率与沉积气压为线性关系.在高沉积气压下生长的金刚石薄膜晶形完整,拉曼谱测量可得到锐利的金刚石相的峰,但电压-电流测量表明,随着制备时沉积气压的提高,金刚石薄膜的暗电流增大,膜的电学质量下降. 展开更多

关键词 金刚石薄膜 生长速率 沉积气压

原文传递

脉冲激光沉积系统(PLD)的应用——制备GaN薄膜 被引量：4

14

作者 李晓兰 薛琴 王建秋 《现代电子技术》 2008年第22期12-14,共3页

采用脉冲激光沉积技术,在Al2O3衬底上生长GaN薄膜,利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)研究不同沉积温度、不同沉积压强对所生长的GaN薄膜晶体结构特征的影响。研究表明,在750℃的沉积温度时,GaN薄膜的结晶质量较高;在20 Pa以下的沉... 采用脉冲激光沉积技术,在Al2O3衬底上生长GaN薄膜,利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)研究不同沉积温度、不同沉积压强对所生长的GaN薄膜晶体结构特征的影响。研究表明,在750℃的沉积温度时,GaN薄膜的结晶质量较高;在20 Pa以下的沉积气压下,GaN薄膜的晶体质量随着沉积气压的升高而提高。 展开更多

关键词 脉冲激光沉积系统 GAN材料 薄膜材料 沉积温度 沉积气压

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沉积气压对磁控溅射ZrO_(2)薄膜光性能的影响

15

作者 高晟元 孙铁生 +4 位作者 刘豫瑶 郑明昊 刘洋 张雅楠 黄美东 《天津师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2023年第2期23-27,共5页

为了探究沉积气压对ZrO_(2)薄膜光学特性的影响规律,以玻璃和硅片为基底,利用射频磁控溅射的方法在不同沉积气压下制备ZrO_(2)薄膜样品.通过分光光度计测定薄膜在可见光波段的透射光谱,利用椭圆偏振谱仪表征薄膜的折射率、消光系数、厚... 为了探究沉积气压对ZrO_(2)薄膜光学特性的影响规律,以玻璃和硅片为基底,利用射频磁控溅射的方法在不同沉积气压下制备ZrO_(2)薄膜样品.通过分光光度计测定薄膜在可见光波段的透射光谱,利用椭圆偏振谱仪表征薄膜的折射率、消光系数、厚度等光学参量,利用原子力显微镜观测薄膜表面的微观结构等.结果表明:①薄膜的沉积速率随沉积气压的增大而减小,沉积气压为0.4 Pa时沉积速率最大,为0.033 nm/s,沉积气压为1.0 Pa时沉积速率最小,为0.011 nm/s;②当沉积气压为1.0 Pa时,200~1000 nm波段薄膜的平均透射率和折射率均最高,分别为82.71%和2.35,表现出良好的透光性;③沉积气压对薄膜消光系数的影响较小;④不同沉积气压下制备薄膜的表面粗糙度也不同,沉积气压为1.0 Pa时薄膜的粗糙度最低,为5.5 nm,沉积气压为0.6 Pa时薄膜的粗糙度最高,为25.2 nm. 展开更多

关键词 射频磁控溅射 沉积气压 折射率 消光系数 透射率

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不同压力下硬质合金表面微波等离子体化学气相沉积SiC涂层规律性的研究 被引量：4

16

作者 于盛旺 黑鸿君 +4 位作者 胡浩林 范朋伟 张思凯 唐伟忠 吕反修 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期876-881,共6页

以氢气和四甲基硅烷作为先驱气体,采用微波等离子体化学气相沉积法,不同沉积压力条件下、在YG6硬质合金表面制备了的SiC涂层。利用SEM、EDS、XRD、划痕测试法对SiC涂层的表面形貌、相组成和附着力进行了分析。实验结果表明,在较低的压力... 以氢气和四甲基硅烷作为先驱气体,采用微波等离子体化学气相沉积法,不同沉积压力条件下、在YG6硬质合金表面制备了的SiC涂层。利用SEM、EDS、XRD、划痕测试法对SiC涂层的表面形貌、相组成和附着力进行了分析。实验结果表明,在较低的压力下,SiC涂层为胞状的纳米团聚物,且胞团的尺度随压力的升高而变小;随着压力的升高,胞状SiC开始并最终全部转变为片层状SiC,并在此过程中伴随着颗粒状Co2Si的形成与长大;随着压力的继续升高,片层状SiC开始转变为须状SiC。胞状SiC向片层状SiC的转变会使涂层致密度提高,而涂层对硬质合金衬底的附着力也会随之增强;Co催化作用的上升引起的片层状SiC向须状SiC的转变会导致SiC涂层的附着力明显降低。以具有片层状特征的SiC作为过渡层,可在未经去Co酸蚀预处理的硬质合金衬底上制备出具有较好附着力的金刚石涂层。 展开更多

关键词 SIC涂层 硬质合金 沉积压力 金刚石涂层

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沉积真空度对铝化物涂层相结构和高温氧化行为的影响 被引量：2

17

作者 王鑫 甄真 +2 位作者 牟仁德 何利民 许振华 《真空》 CAS 2022年第5期20-27,共8页

采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)工艺,在沉积真空度为150mbar、200mbar和250mbar的条件下分别在镍基单晶高温合金基体上制备了三种铝化物涂层,研究了沉积真空度对铝化物涂层相结构和高温氧化行为的影响。借助X射线衍射... 采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)工艺,在沉积真空度为150mbar、200mbar和250mbar的条件下分别在镍基单晶高温合金基体上制备了三种铝化物涂层,研究了沉积真空度对铝化物涂层相结构和高温氧化行为的影响。借助X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等表征方法系统分析了三种铝化物涂层的相结构、显微形貌和化学组成。结果表明:三种沉积态铝化物涂层的相结构均为β-NiAl相,沉积真空度为200mbar的涂层样品还存在Ni_(1.04)Al_(0.96)和Ni_(1.1)Al_(0.9)双相结构;经1100℃静态氧化后,三种涂层表面均形成了Al_(2)O_(3),β-NiAl相转变为γ′-Ni_(3)Al相,沉积真空度为250mbar的涂层样品中γ′-Ni_(3)Al相的峰强度最低;三种铝化物涂层的氧化增重速率分别为0.037g/(m^(2)·h)、0.022g/(m^(2)·h)和0.018g/(m^(2)·h),沉积真空度为150mbar的涂层样品氧化增重值大于其他两种涂层样品;沉积真空度越低,涂层表面存在的微观孔洞数量越多,高温氧化后涂层表面所形成的氧化膜越易于萌生显微裂纹和出现氧化膜脱落现象。基于本文试验结果,沉积真空度为250mbar所制得的涂层样品,其显微组织、元素含量和高温抗氧化性能最佳。 展开更多

关键词 化学气相沉积 铝化物涂层 沉积真空度 相结构 高温氧化

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工作压强对PECVD法制备DLC薄膜微观结构与力学性能的影响 被引量：3

18

作者 李瑞武 周艳文 +3 位作者 李建伟 范巍 郭媛媛 吴法宇 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期162-167,共6页

采用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法(Pulse-PECVD)于316L不锈钢基体上制备类金刚石(DLC)薄膜,研究不同工作气压对DLC薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结构、纳米硬度、弹性模量以及结合强度的影响规律。结果表明:随沉积气压增大,薄膜... 采用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法(Pulse-PECVD)于316L不锈钢基体上制备类金刚石(DLC)薄膜,研究不同工作气压对DLC薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结构、纳米硬度、弹性模量以及结合强度的影响规律。结果表明:随沉积气压增大,薄膜的沉积速率随之增大,压强在3 Pa时沉积速率可高达1. 4μm/h;不同气压下沉积的DLC薄膜均体现出平整光滑的表面形貌和高于不锈钢基体3倍以上的纳米硬度;沉积气压为2 Pa时,DLC薄膜在拉曼光谱中具有最小的ID/IG值,对应最高的纳米硬度16. 1 GPa和弹性模量152. 7 GPa,以及最低的粗糙度和摩擦因数0. 206。 展开更多

关键词 脉冲等离子体增强化学气相沉积 DLC薄膜 工作压强 拉曼光谱 力学性能

原文传递

MoS_x/MoS_x-Mo纳米多层膜的制备及其环境摩擦学特性 被引量：2

19

作者 郑晓华 居易 +3 位作者 沈霞 王运 涂江平 何丹农 《润滑与密封》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期84-86,共3页

用直流磁控溅射在钢基体上交替溅射制备了MoSx/MoSx-Mo纳米多层膜。采用划痕仪测试薄膜与基体的结合力;采用SEM和XRD分析了纳米多层膜的形貌和显微结构;在球-盘式微摩擦试验机上测试了纳米多层膜在真空和潮湿空气中的摩擦学性能。结果表... 用直流磁控溅射在钢基体上交替溅射制备了MoSx/MoSx-Mo纳米多层膜。采用划痕仪测试薄膜与基体的结合力;采用SEM和XRD分析了纳米多层膜的形貌和显微结构;在球-盘式微摩擦试验机上测试了纳米多层膜在真空和潮湿空气中的摩擦学性能。结果表明,纳米多层膜的结合力优于纯MoS2膜。随着溅射沉积气压的升高,MoSx(002)面择优取向减弱,纳米多层膜的结合力下降。溅射气压0.24 Pa沉积的纳米多层膜在真空和潮湿空气中都呈现出最低的摩擦因数和磨损率,具有优异的环境摩擦磨损特性。 展开更多

关键词 MoSx薄膜 磁控溅射 多层膜 沉积压力 环境

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沉积气压对多弧离子镀MoN涂层结构和性能的影响 被引量：3

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作者 包改磊 张大童 +1 位作者 邱诚 李助军 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2018年第24期119-122,共4页

为了研究沉积气压对多弧离子镀MoN涂层结构和性能的影响,优化涂层的制备工艺参数,现采用多弧离子镀技术通过改变沉积过程中N2的气压在硬质合金表面获得不同的Mo N涂层。分别采用GIXRD、SEM、维氏显微硬度计、UMT摩擦磨损实验机和划痕仪... 为了研究沉积气压对多弧离子镀MoN涂层结构和性能的影响,优化涂层的制备工艺参数,现采用多弧离子镀技术通过改变沉积过程中N2的气压在硬质合金表面获得不同的Mo N涂层。分别采用GIXRD、SEM、维氏显微硬度计、UMT摩擦磨损实验机和划痕仪等对MoN涂层的物相结构、微观形貌、显微硬度、摩擦系数与膜基结合力等进行分析。结果表明:随着沉积气压的增大,涂层的相结构从γ-Mo_2N逐渐转化为δ-MoN,其中δ相(200)晶面衍射峰逐渐增强;膜层表面质量逐渐变好,膜基结合强度、平均摩擦系数均先增大后减小,相对于基体表现出了较好的摩擦性能。 展开更多

关键词 多弧离子镀 MoN涂层 沉积气压 摩擦系数 结合强度

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