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压力、温度复合传感器技术研究 被引量:4
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作者 邹其利 滕纲 +1 位作者 李小换 张世名 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2009年第B11期175-177,共3页
介绍了一种压力、温度复合传感器的主要研制加工技术。通过采用灵敏度温度自补偿技术、激光调阻技术、以及薄膜微电路加工工艺等关键技术和手段,在弹性体上制作薄膜应变电阻和薄膜温敏电阻,实现压力、温度双参数测量的功能。同时通过监... 介绍了一种压力、温度复合传感器的主要研制加工技术。通过采用灵敏度温度自补偿技术、激光调阻技术、以及薄膜微电路加工工艺等关键技术和手段,在弹性体上制作薄膜应变电阻和薄膜温敏电阻,实现压力、温度双参数测量的功能。同时通过监测温度,可以进一步精确修正压力参数测量的特性方程。 展开更多
关键词 压力 温度 薄膜沉积 薄膜微电路
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化学汽相沉积金刚石薄膜的生长 被引量:3
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作者 唐璧玉 靳九成 +5 位作者 靳浩 颜永红 李绍绿 夏金童 陈小华 陈宗璋 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期334-336,共3页
利用热丝化学汽相沉积法生长出优异的金刚石薄膜.研究表明,金刚石的成核依赖于沉积点的尖锐度,薄膜的生长包括晶粒长大和薄膜上的二次成核及其生长,可用分层生长来描述.金刚石晶粒的生长由外延生长和二次成核及其生长组成,也是分... 利用热丝化学汽相沉积法生长出优异的金刚石薄膜.研究表明,金刚石的成核依赖于沉积点的尖锐度,薄膜的生长包括晶粒长大和薄膜上的二次成核及其生长,可用分层生长来描述.金刚石晶粒的生长由外延生长和二次成核及其生长组成,也是分层进行的.结果导致了金刚石晶体和薄膜的层状结构. 展开更多
关键词 化学汽相沉积 金刚石 薄膜 分层生长 层状结构
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IBED Si_3N_4和TiN薄膜的成份、结构与摩擦学性能 被引量:1
3
作者 庄大明 刘家浚 +3 位作者 朱宝亮 李文治 张绪寿 杨生荣 《表面工程》 CSCD 1996年第3期2-7,共6页
本文考察了工艺参数对离子束增强沉积(IBED)氮化硅、氮化钛薄膜的成分和微观组织的影响。测定了薄膜的硬度以及薄膜与基体之间结合力,分析了成分和结构与薄膜的硬度和结合力的关系。考察了在不同载荷和速度条件下St_3N_4、TiN薄膜和5... 本文考察了工艺参数对离子束增强沉积(IBED)氮化硅、氮化钛薄膜的成分和微观组织的影响。测定了薄膜的硬度以及薄膜与基体之间结合力,分析了成分和结构与薄膜的硬度和结合力的关系。考察了在不同载荷和速度条件下St_3N_4、TiN薄膜和52100钢试样的摩擦系数和耐磨性。结果显示,与无膜的52100相比,IBEDSt_3N_4和IBEDTiN的耐磨性成倍提高。探讨了薄膜的磨损机理。 展开更多
关键词 离子束增强沉积 IBED 氮化硅 氮化钛 陶瓷薄膜 摩擦学性能 结构
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PZT溶胶液静电雾化雾场模拟 被引量:12
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作者 吴有金 吴亚雷 +1 位作者 许晓慧 褚家如 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第7期755-760,共6页
通过对商用计算流体力学软件FLUENT进行功能扩展,实现了空气流场、空间电场和离散雾场多场耦合过程的数值模拟.由实验数据确定雾滴的滴径和电量,采用拉格朗日模型计算雾滴在重力、空气阻力、外部电场力及雾滴间相互库伦排斥力作用下的... 通过对商用计算流体力学软件FLUENT进行功能扩展,实现了空气流场、空间电场和离散雾场多场耦合过程的数值模拟.由实验数据确定雾滴的滴径和电量,采用拉格朗日模型计算雾滴在重力、空气阻力、外部电场力及雾滴间相互库伦排斥力作用下的运动轨迹,并得到雾滴的速度与其空间分布密度,由此计算雾滴在衬底上的沉积通量. 展开更多
关键词 静电雾化 PZT薄膜 带电液滴 薄膜沉积
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大气压等离子体射流装置及应用研究进展 被引量:14
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作者 李文浩 田朝 +7 位作者 冯绅绅 宁付鹏 白超 尤江 侯吉磊 孟月东 万树德 方应翠 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期695-707,共13页
大气压等离子体射流(APPJ)能够在开放空间而不是在狭窄放电间隙中产生高活性非平衡低温等离子体,APPJ已经成为国际上等离子体科学与技术领域的研究热点之一。本文首先介绍了4种典型的等离子体射流装置,包括单针、针-环、单双环以及微腔... 大气压等离子体射流(APPJ)能够在开放空间而不是在狭窄放电间隙中产生高活性非平衡低温等离子体,APPJ已经成为国际上等离子体科学与技术领域的研究热点之一。本文首先介绍了4种典型的等离子体射流装置,包括单针、针-环、单双环以及微腔结构,并分析了各自的结构特点。然后介绍了APPJ近几年的研究进展,包括射流装置结构、活性粒子探测方法、射流与外界物质相互作用及应用等方面。最后对APPJ面临的一些关键问题和发展方向进行了展望。 展开更多
关键词 大气压等离子体 等离子体射流 介质阻挡放电 电极结构 纳米薄膜沉积
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纳米粉湿化学沉积制备TiO_2薄膜及电致变色性能研究 被引量:5
6
作者 方吉祥 赵康 谷臣清 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期664-665,668,共3页
利用回流胶溶在液相中一步合成金红石型TiO2 纳米粉体 ,并采用纳米粉液相成膜新方法 ,低温下制备出纳米金红石相TiO2 薄膜 ,通过XRD、TEM及循环伏安法对TiO2 纳米粉及薄膜的性能进行了表征。结果表明 :经 3 0 0℃煅烧制得的TiO2薄膜即... 利用回流胶溶在液相中一步合成金红石型TiO2 纳米粉体 ,并采用纳米粉液相成膜新方法 ,低温下制备出纳米金红石相TiO2 薄膜 ,通过XRD、TEM及循环伏安法对TiO2 纳米粉及薄膜的性能进行了表征。结果表明 :经 3 0 0℃煅烧制得的TiO2薄膜即为金红石相 ,粒径大小较其纳米粉相比 ,无明显长大趋势 ;该薄膜显示较好的电致变色性能及电化学循环稳定性。 展开更多
关键词 化学沉积 制备 电致变色性能 二氧化钛 纳米粉末
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Growth of carbon nanotube arrays on various CtxMey alloy films by chemical vapour deposition method 被引量:2
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作者 Pawel Mierczynski Sergey V.Dubkov +8 位作者 Sergey V.Bulyarskii Alexander A.Pavlov Sergey N.Skorik Alexey Yu Trifonov Agnieszka Mierczynska Eugene P.Kitsyuk Sergey A.Gavrilov Tomasz P.Maniecki Dmitry G.Gromov 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第3期472-480,共9页
Carbon nanotube (CNT) arrays were fabricated on Ct-Me-N-(O) alloys with content of Ct in the range of 6-40 at.% by chemical vapour deposition. The Ct was a catalytic metal from the group of the following elements... Carbon nanotube (CNT) arrays were fabricated on Ct-Me-N-(O) alloys with content of Ct in the range of 6-40 at.% by chemical vapour deposition. The Ct was a catalytic metal from the group of the following elements: Ni, Co, Fe, Pd, while Me was a transition metal from the group of IV-VII of the periodic table (where Me=Ti, V, Cr, Zr, Nb, Mo, Ta, W, Re). Carbon nanotubes were found to grow efficiently on the alloy surface with its composition containing Ti, V, Cr, Zr, Hf, Nb or Ta. The growth of CNTs was not observed when the alloy contained W or Re. Additions of oxygen and nitrogen in the alloy facilitated the formation of oxynitrides and catalyst extrusion on the alloy surface. Replacement of the metals in alloy composition affected the diameter of the resulting CNTs. The obtained results showed that the alloy films of varying thickness (10-500 nm) may be used for the CNTs growth. The resulting CNT material was highly homogenous and its synthesis reproducible. 展开更多
关键词 Carbon nanotubes Amorphous alloys Chemical vapour deposition Catalytic processes thin films
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Optical properties of titanium oxide films obtained by cathodic arc plasma deposition 被引量:1
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作者 Vukoman JOKANOVIC Bozana COLOVIC +5 位作者 Anka TRAJKOVSKA PETKOSKA Ana MRAKOVIC Bojan JOKANOVIC Milo NENADOVIC Manuela FERRARA llija NASOV 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第12期111-118,共8页
Structural and optical properties of nanometric titanium oxide(TixOy) films obtained by cathodic arc plasma deposition were investigated. Phase analysis by x-ray diffraction and Fouriertransform infrared spectroscop... Structural and optical properties of nanometric titanium oxide(TixOy) films obtained by cathodic arc plasma deposition were investigated. Phase analysis by x-ray diffraction and Fouriertransform infrared spectroscopy showed the presence of anatase, rutile, Ti_2O_3, Ti_4O_7 and amorphous phases. Scanning electron microscopy images showed well-developed surface morphology with nano-patterns. Spectroscopic ellipsometry revealed film thicknesses of 53 and50 nm, variable refractive indices dependent on the light wavelength and close to zero extinction coefficients for wavelengths higher than 500 nm. On the basis of ultraviolet–visible spectroscopy data and using the Tauc equation, band gap values for direct and indirect electron transitions were determined. 展开更多
关键词 optical materials plasma deposition thin films ellipsometry
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喷镀热解制备SnO_2:F透明导电热反射膜 被引量:1
9
作者 周光辉 《红外技术》 CSCD 1991年第1期37-40,共4页
SnCl_4·5H_2O和SnF_2的水溶液经超声振荡雾化后喷射到高温平板玻璃衬底上热解形成掺氟二氧化锡(记作SnO_2∶F)透明导电热反射膜。喷镀时的衬底温度对膜的微观结构起决定作用。衬底温度300℃时形成非晶膜,高于400℃时形成多晶膜且... SnCl_4·5H_2O和SnF_2的水溶液经超声振荡雾化后喷射到高温平板玻璃衬底上热解形成掺氟二氧化锡(记作SnO_2∶F)透明导电热反射膜。喷镀时的衬底温度对膜的微观结构起决定作用。衬底温度300℃时形成非晶膜,高于400℃时形成多晶膜且结晶度随衬底温度升高而提高。结晶度高的多晶膜导电率达10~3Ω^(-1)cm^(-1),镀有多晶膜的玻璃对可见光(0.3~0.8μm)的透过率比未镀膜的玻璃仅减少10%左右,而红外(2~10μm)反射率比未镀膜的玻璃提高近4倍。膜的这种电学和光学特性与结晶程度有明显的对应性。 展开更多
关键词 半导体薄膜 热解喷镀 SnO:F 反射膜
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电泳沉积法制备CuO薄膜的微观结构分析 被引量:1
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作者 石锋 李玉国 孙钦军 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期87-89,共3页
在经清洗后的硅(111)衬底上,分别采用电泳过程中氧化制备CuO薄膜和电泳制备Cu膜后退火氧化制备CuO薄膜。用XRD和SEM对薄膜样品进行了组分、表面形貌等微观结构的分析,发现两种方法制备的CuO薄膜的组分基本一致,但形貌完全不同,前者是由... 在经清洗后的硅(111)衬底上,分别采用电泳过程中氧化制备CuO薄膜和电泳制备Cu膜后退火氧化制备CuO薄膜。用XRD和SEM对薄膜样品进行了组分、表面形貌等微观结构的分析,发现两种方法制备的CuO薄膜的组分基本一致,但形貌完全不同,前者是由非常均匀的CuO小颗粒(200nm)相连而成团簇状,后者是由一些大小均匀的半径约为200nm的CuO小颗粒和气孔相互交融紧密连接而成的条状或块状。电泳过程中氧化制备的CuO薄膜结晶质量较好。 展开更多
关键词 电泳沉积法 CuO薄膜 微观结构
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