激光刻蚀聚酰亚胺基底铝薄膜的温度场模拟 被引量：5

1

作者 刘孝丽 熊玉卿 +3 位作者 杨建平 王瑞 吴敢 任妮 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期112-116,共5页

为了研究1064 nm激光刻蚀聚酰亚胺基底镀铝薄膜的作用机理,采用有限元分析软件ANSYS模拟了激光对聚酰亚胺基底上铝薄膜的刻蚀过程,分析了激光脉冲作用于铝薄膜表面时的能量传输及转化过程,获得了铝薄膜及聚酰亚胺基底中的温度场分布,进... 为了研究1064 nm激光刻蚀聚酰亚胺基底镀铝薄膜的作用机理,采用有限元分析软件ANSYS模拟了激光对聚酰亚胺基底上铝薄膜的刻蚀过程,分析了激光脉冲作用于铝薄膜表面时的能量传输及转化过程,获得了铝薄膜及聚酰亚胺基底中的温度场分布,进一步验证了在脉冲激光作用下由于基底材料易分解而产生的薄膜/基底界面分离机制。 展开更多

关键词 薄膜 激光刻蚀 铝薄膜 聚酰亚胺 温度场 分离机制

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移动脉冲激光刻蚀金属/聚酰亚胺数值模拟 被引量：5

2

作者 闫晓东 任妮 +4 位作者 汤富领 薛红涛 张宏伟 杨建平 刘孝丽 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第4期29-35,共7页

为了研究移动脉冲激光刻蚀单/双层金属/聚酰亚胺基复合材料的规律,利用有限元方法建立了移动纳秒脉冲激光刻蚀的通用模型,讨论了移动速度对激光刻蚀深度的影响,分析了金属铝薄膜和双层金属膜在移动脉冲激光作用下的温度变化规律。结果表... 为了研究移动脉冲激光刻蚀单/双层金属/聚酰亚胺基复合材料的规律,利用有限元方法建立了移动纳秒脉冲激光刻蚀的通用模型,讨论了移动速度对激光刻蚀深度的影响,分析了金属铝薄膜和双层金属膜在移动脉冲激光作用下的温度变化规律。结果表明,当激光移动速率一定时,刻蚀深度开始时不断增加,但增加幅度逐渐减小,刻蚀深度逐渐趋于一定值,即达到最大刻蚀深度;金属与基底材料界面处的温度变化相较于金属薄膜靠近光源处的在时间上有一定滞后,基底温度在激光关闭后可继续上升;刻蚀双层金属膜时,下层选用较厚且热导率较大的金属薄膜有利于保护聚酰亚胺基底。 展开更多

关键词 激光技术 脉冲激光 移动速度 铝薄膜 聚酰亚胺 温度场 刻蚀深度

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反应溅射制备AlN薄膜中沉积速率的研究 被引量：26

3

作者 许小红 武海顺 +2 位作者 张富强 张聪杰 李佐宜 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期209-212,共4页

通过对溅射过程中辉光放电现象及薄膜沉积速率的研究 ,发现随着氮浓度的增大 ,靶面上形成一层不稳定的AlN层 ,由于AlN的溅射速率远小于Al,从而使薄膜的沉积速率显著下降。同时还研究了其它溅射参数对薄膜沉积速率的影响。结果表明 :随... 通过对溅射过程中辉光放电现象及薄膜沉积速率的研究 ,发现随着氮浓度的增大 ,靶面上形成一层不稳定的AlN层 ,由于AlN的溅射速率远小于Al,从而使薄膜的沉积速率显著下降。同时还研究了其它溅射参数对薄膜沉积速率的影响。结果表明 :随靶基距的增大和靶功率的减小 ,不同程度引起沉积速率的下降 ;随着溅射气压的增大 ,最初沉积速率不断增大 ,当溅射气压增大到一定程度时 ,沉积速率达到最大值 ,之后随溅射气压的增大 ,又不断减小。 展开更多

关键词 反应溅射 氮化铝薄膜 沉积速率

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溅射沉积AlN薄膜结构与基片种类的关系 被引量：12

4

作者 许小红 武海顺 +1 位作者 张聪杰 金志浩 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2000年第4期256-258,共3页

采用高真空直流磁控反应溅射成功地在５种基片上制备出多晶择优取向的ＡｌＮ薄膜。结果表明，５种基片均可生长（１００）面择优取向的ＡｌＮ薄膜，并且具有良好的纵向组成均匀性，表面粗造度小，晶粒均匀致密。在金属电极和 Ｓｉ片上... 采用高真空直流磁控反应溅射成功地在５种基片上制备出多晶择优取向的ＡｌＮ薄膜。结果表明，５种基片均可生长（１００）面择优取向的ＡｌＮ薄膜，并且具有良好的纵向组成均匀性，表面粗造度小，晶粒均匀致密。在金属电极和 Ｓｉ片上沉积的 ＡｌＮ薄膜结晶度、取向性、衍射强度差别较小，两者的结构均优于在盖玻片上沉积的 ＡｌＮ薄膜。 展开更多

关键词 AIN薄膜 基片 磁控反应溅射

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用AES研究铝薄膜与基体金属铀之间的界面反应 被引量：3

5

作者 周韦 刘柯钊 +3 位作者 杨江荣 肖红 蒋春丽 陆雷 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第B07期151-155,共5页

在俄歇电子能谱(AES)仪超高真空分析室中利用氩离子溅射沉积方法将Al沉积在U基体上。对不同Al沉积量的铀表面实时采集AES和低能电子损失谱(EELS),以研究沉积Al原子与U表面原子间的相互作用以及Al膜的生长过程。将实验样品进行退火处理... 在俄歇电子能谱(AES)仪超高真空分析室中利用氩离子溅射沉积方法将Al沉积在U基体上。对不同Al沉积量的铀表面实时采集AES和低能电子损失谱(EELS),以研究沉积Al原子与U表面原子间的相互作用以及Al膜的生长过程。将实验样品进行退火处理后进行深度剖析。研究结果表明:Al沉积在U基体上是以岛状方式生长的;室温下,沉积Al原子与U表面原子间存在界面作用,两者在界面处相互扩散形成了合金相。退火促使界面扩散速率增大,界面结合力增强,并有可能形成化合物UAlx。 展开更多

关键词 铀 铝薄膜 界面 俄歇电子能谱

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玻璃衬底制备AlN薄膜结构的研究 被引量：2

6

作者 李瑞霞 彭启才 +1 位作者 曾伦 赵广彬 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2010年第2期311-313,共3页

利用中频磁控反应溅射技术在玻璃衬底上制备氮化铝(AlN)薄膜,并经退火处理。利用X-衍射和原子力显微镜分析了AlN薄膜的结构及表面形貌。结果表明,衬底温度和退火工艺对AlN薄膜的结构和表面形貌有重要影响。研究表明,衬底温度为230℃时,... 利用中频磁控反应溅射技术在玻璃衬底上制备氮化铝(AlN)薄膜,并经退火处理。利用X-衍射和原子力显微镜分析了AlN薄膜的结构及表面形貌。结果表明,衬底温度和退火工艺对AlN薄膜的结构和表面形貌有重要影响。研究表明,衬底温度为230℃时,AlN薄膜的表面粗糙度最小,退火能减小AlN薄膜表面粗糙度。 展开更多

关键词 玻璃衬底 衬底温度 氮化铝薄膜 退火

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溶胶-凝胶法制备氧化铝绝缘薄膜及其电性能研究 被引量：2

7

作者 单威 姚曼文 +2 位作者 胡保付 杨鹏飞 姚熹 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期581-584,共4页

以乙二醇乙醚为溶剂,异丙醇铝为前驱物,乙酰丙酮为螯合剂,采用溶胶-凝胶法和旋转涂覆工艺,在不同衬底上制备了氧化铝薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)和金相显微镜等手段对薄膜的微观结构和表面形貌进行了表征... 以乙二醇乙醚为溶剂,异丙醇铝为前驱物,乙酰丙酮为螯合剂,采用溶胶-凝胶法和旋转涂覆工艺,在不同衬底上制备了氧化铝薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)和金相显微镜等手段对薄膜的微观结构和表面形貌进行了表征。结果表明,溶胶-凝胶法制得的薄膜为无定形结构,表面均匀、致密、无裂纹。通过对薄膜电流密度与电场和时间(J-E和J-t)曲线的测量,对薄膜的电学性能进行了研究。薄膜击穿场强约为2.0～3.0MV/cm,在电场强度为0.5MV/cm时,漏电流密度约为9.0×10-6 A/cm2。 展开更多

关键词 氧化铝薄膜 溶胶-凝胶法 无定形 J-E曲线

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气压对离子源增强磁控溅射制备氮化铝薄膜的影响 被引量：1

8

作者 李鹏飞 陈俊芳 符斯列 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期137-143,共7页

目的制备性能优异的氮化铝薄膜。方法采用射频感应耦合离子源辅助直流磁控溅射的方法制备氮化铝薄膜,在不同的气压下,在Si(100)基片和普通玻璃上生长了不同晶面取向的氮化铝薄膜。使用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FESEM)、原子力... 目的制备性能优异的氮化铝薄膜。方法采用射频感应耦合离子源辅助直流磁控溅射的方法制备氮化铝薄膜,在不同的气压下,在Si(100)基片和普通玻璃上生长了不同晶面取向的氮化铝薄膜。使用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)分析氮化铝薄膜的结构、晶面取向、表面形貌及薄膜表面粗糙度,使用紫外可见分光光度计测定薄膜的透过率,并计算薄膜的禁带宽度。研究气压的大小对磁控溅射制备氮化铝薄膜微观结构的影响。结果在各气压下,薄膜生长以(100)面取向为主。在0.7 Pa前,(100)面的衍射峰强度逐渐增强,0.7 Pa之后减弱。(002)面衍射峰强度在0.6 Pa之前较大,0.6 Pa之后变小。各气压下薄膜表面均方根粗糙度均小于3 nm,且随着气压的增大先增大后减小,0.7 Pa时最大达到2.678 nm。各气压下所制备薄膜的透过率均大于60%,0.7 Pa时薄膜的禁带宽度为5.4 e V。结论较高气压有利于(100)晶面的生长,较低气压有利于(002)晶面的生长;(100)面衍射峰强度在0.7 Pa时达到最大;随气压的增大,薄膜表面粗糙度先增大后减小;所制备的薄膜为直接带隙半导体薄膜。 展开更多

关键词 气压 磁控溅射 氮化铝薄膜 离子源 粗糙度 直接带隙

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边缘空气层薄膜体声波谐振器的设计与制备

9

作者 朱宇涵 段兰燕 +4 位作者 陈志鹏 许锴镔 胡晗 衣新燕 李国强 《压电与声光》 CAS 北大核心 2024年第1期11-15,共5页

压电薄膜存在固有的对压电效应的非线性迟滞响应,并且声波有向边缘传播的横波分量,二者都会产生声波的能量损耗。该文设计了一种具有边缘空气层结构的单晶氮化铝薄膜体声波谐振器,可以减小非线性迟滞的机电损耗并阻止横波能量泄露,提高... 压电薄膜存在固有的对压电效应的非线性迟滞响应,并且声波有向边缘传播的横波分量,二者都会产生声波的能量损耗。该文设计了一种具有边缘空气层结构的单晶氮化铝薄膜体声波谐振器,可以减小非线性迟滞的机电损耗并阻止横波能量泄露,提高谐振器的品质因数。使用COMSOL对设计的器件进行有限元模拟仿真,并成功制备出具有边缘空气层结构的谐振器进行测试验证。 展开更多

关键词 单晶氮化铝薄膜体声波谐振器 边缘空气层 有限元仿真 压电非线性效应

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电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜影响因素研究 被引量：2

10

作者 潘俊德 田林海 +1 位作者 莘海维 贺琦 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2000年第6期34-35,64,共3页

研究了 N2 流量、阴极偏压、工作气压等工艺参数对电子浴辅助阴极电弧源法合成 Al N薄膜质量的影响规律及其原因。

关键词 阴极电弧源法 ALN薄膜 电子浴 工艺参数 合成

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基于氮化铝薄膜的新型MEMS振动传感器 被引量：1

11

作者 陈丽洁 雷亚辉 +3 位作者 杨月 于洋 徐兴烨 龚李佳 《传感器与微系统》 CSCD 2020年第12期22-25,共4页

为验证氮化铝薄膜在传感器设计技术方面具有独特的优势,以振动传感器为例开展氮化铝薄膜MEMS振动传感器设计与试验研究,通过在不同敏感位置设计制作不同的电极开展比对测试试验研究工作。在振动台上对设计有多种测试电极的芯片样品进行... 为验证氮化铝薄膜在传感器设计技术方面具有独特的优势,以振动传感器为例开展氮化铝薄膜MEMS振动传感器设计与试验研究,通过在不同敏感位置设计制作不同的电极开展比对测试试验研究工作。在振动台上对设计有多种测试电极的芯片样品进行比对标定测试,验证了氮化铝薄膜MEMS振动传感器可以获得很好的灵敏度特性和频率响应特性;4个Y电极灵敏度响应一致性很好,并可分辨出不同应力分布区域灵敏度响应上的差别;4个X电极同样获得较好的灵敏度频率响应,但由于电极设计与Y电极存在差异,因此响应有所不同,X电极由于面积更小,分布电容的影响不容忽视。 展开更多

关键词 氮化铝薄膜 压电特性 振动传感器 灵敏度 频率响应

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