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HfO_2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅的Piranha溶液清洗 被引量:4
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作者 陈上碧 盛斌 +5 位作者 邱克强 刘正坤 徐向东 刘颖 洪义麟 付绍军 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期2106-2110,共5页
为了提高HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅(PCG)的抗激光损伤性能,使用Piranha溶液(浓硫酸和双氧水的混合液)清洗PCG去除其制作工艺和使用过程中残留在表面的污染物,包括CHF3作为工作气体对HfO2进行反应离子束刻蚀生成的碳氟化合物及金... 为了提高HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅(PCG)的抗激光损伤性能,使用Piranha溶液(浓硫酸和双氧水的混合液)清洗PCG去除其制作工艺和使用过程中残留在表面的污染物,包括CHF3作为工作气体对HfO2进行反应离子束刻蚀生成的碳氟化合物及金属氟化物。对Piranha溶液的清洗温度、组成成分、清洗时间、清洗遍数等参数进行了系统研究,用扫描电子显微镜(SEM)观察清洗前后的PCG表面形貌,用X射线光电子能谱仪(XPS)检测清洗前后PCG表面的元素成分及其原子分数的变化,并分析了各残留污染物的去除机理。实验结果表明:Piranha溶液能有效去除PCG表面污染物,而且清洗温度越高,清洗遍数越多,对PCG表面残留污染物的去除效果越显著。在90℃下60min有效活性时间内,使用浓硫酸和双氧水体积比为2∶1的Piranha溶液清洗3遍以上,PCG表面残留的F元素的原子分数接近0.1%(XPS的分辨极限),达到良好的清洗效果。 展开更多
关键词 多层介质膜脉宽压缩光栅 污染物 piranha溶液 扫描电子显微镜 X射线光电子能谱
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以开孔的二维MFI纳米片为构筑单元制备沸石片膜 被引量:5
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作者 吴云琴 郑璐康 +5 位作者 陈琦 俞梦婷 王金桂 张富民 肖强 朱伟东 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2019年第1期89-94,共6页
以食人鱼溶液(体积比为3∶1的95%~98%(w/w)H_2SO_4和30%(w/w)H_2O_2混合液)处理多层MFI(ML-MFI)除去有机结构导向剂(OSDA),经超声剥离和沉降纯化后得到了开孔的MFI沸石纳米片。采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、N_2... 以食人鱼溶液(体积比为3∶1的95%~98%(w/w)H_2SO_4和30%(w/w)H_2O_2混合液)处理多层MFI(ML-MFI)除去有机结构导向剂(OSDA),经超声剥离和沉降纯化后得到了开孔的MFI沸石纳米片。采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、N_2吸附-脱附、傅立叶变换红外光谱(FT-IR)和热重分析(TGA)等手段对得到的MFI沸石纳米片进行表征,发现食人鱼溶液处理可移除ML-MFI中的OSDA,再经超声剥离得到可分散、开孔的MFI沸石纳米片。将MFI沸石纳米片用简单抽滤的方式沉积到自制Al_2O_3载体上,不经二次生长得到了连续的沸石纳米片膜。单组分气体渗透性能测试结果表明,制备的MFI沸石纳米片膜对正/异丁烷的理想选择性为4.1~5.8,正丁烷的渗透速率为2.2×10^(-7)~4.1×10^(-7) mol·m^(-2)·s^(-1)·Pa^(-1)。 展开更多
关键词 沸石 纳米结构 纳米片 食人鱼溶液 异构体分离
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食人鱼溶液对盖玻片亲水性处理方法研究 被引量:5
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作者 王鹏 杨珊 《应用化工》 CAS CSCD 北大核心 2016年第7期1296-1298,共3页
研究食人鱼溶液对盖玻片表面亲水性处理的方法。通过测试盖玻片对水的动态接触角,研究食人鱼溶液的配比分别为H2SO4∶H2O2=7∶3,5∶5,3∶7(v/v)时,浸泡时间以及片基干燥方式对盖玻片进行表面羟基化处理的亲水性效果。结果表明,与高温... 研究食人鱼溶液对盖玻片表面亲水性处理的方法。通过测试盖玻片对水的动态接触角,研究食人鱼溶液的配比分别为H2SO4∶H2O2=7∶3,5∶5,3∶7(v/v)时,浸泡时间以及片基干燥方式对盖玻片进行表面羟基化处理的亲水性效果。结果表明,与高温干燥相比,冷风吹干对盖玻片的亲水性有利;当食人鱼溶液的组成为H2SO4∶H2O2=3∶7(v/v)时,处理效果最好,盖玻片的亲水性最好,前进角和后退角可分别低至9.4°和7.8°;适宜的浸泡时间为14 h。 展开更多
关键词 盖玻片 亲水性 食人鱼溶液 接触角
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泡沫镍铁合金自支撑NiFeOOH纳米片的制备及析氧性能研究
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作者 武美霞 张有富 +3 位作者 杨肖萌 尚建鹏 郭永 李作鹏 《分子催化》 CAS CSCD 北大核心 2023年第6期528-534,I0001,共8页
电催化析氧反应(OER)是电解水制氢的重要半电池反应.然而,OER的缓慢动力学仍需研究高效的电催化剂.在非贵金属催化剂中,NiFe基材料是OER催化剂研究热点.我们通过食人鱼溶液简单一步浸渍刻蚀法将不同Fe含量的泡沫NiFe合金进行氧化,制备... 电催化析氧反应(OER)是电解水制氢的重要半电池反应.然而,OER的缓慢动力学仍需研究高效的电催化剂.在非贵金属催化剂中,NiFe基材料是OER催化剂研究热点.我们通过食人鱼溶液简单一步浸渍刻蚀法将不同Fe含量的泡沫NiFe合金进行氧化,制备了表面具有纳米片形貌的NiFeOOH自支撑电催化剂,并深入研究其电催化析氧性能.通过SEM、XRD、XPS等对电催化剂的形貌结构及成分进行表征,证实了三维多孔基底上NiFeOOH纳米片结构的形成.由于高价镍、铁物种的存在以及二维纳米片结构的生成,NiFeOOH/NF的析氧性能大幅度提高,在10 mA∙cm^(−2)的电流密度下过电位仅155.68 mV,Tafel斜率为88.2 mV∙dec^(-1).这为研制高效、耐用的自支撑非贵金属电极提供了新思路. 展开更多
关键词 NiFeOOH纳米片 食人鱼溶液 自支撑 析氧反应
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微通道板表面羟基化工艺研究 被引量:1
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作者 刘菊耀 王国政 王蓟 《半导体光电》 CAS 北大核心 2022年第2期353-357,共5页
研究了3种微通道板基底羟基化的方法,测量了羟基化处理后微通道板基底表面水接触角及通道端面的形貌变化,分析了各种方法中微通道板基底的亲水性和腐蚀情况。实验结果表明:氨水双氧水溶液对基体表面的亲水性能提升不大,NaOH溶液对基体... 研究了3种微通道板基底羟基化的方法,测量了羟基化处理后微通道板基底表面水接触角及通道端面的形貌变化,分析了各种方法中微通道板基底的亲水性和腐蚀情况。实验结果表明:氨水双氧水溶液对基体表面的亲水性能提升不大,NaOH溶液对基体有腐蚀作用,经食人鱼溶液处理的基体表面亲水性明显提高且无腐蚀作用。研究了微通道板在食人鱼溶液中的浸泡时间和浸泡温度对表面亲水性的影响。结果表明:随着浸泡温度的增加,微通道板表面水接触角先减小后增大,当温度为80℃时达到极小值,浸泡时间对微通道板表面的亲水性影响不大。最终确定了微通道板表面羟基化工艺:浸泡温度为80℃,静置时间为20~60 min。 展开更多
关键词 微通道板 羟基化 食人鱼溶液 接触角
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基材预处理方式对Cu3(BTC)2成膜的影响
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作者 仇龙云 李力成 +4 位作者 冯新 付双钦 张所瀛 陆小华 杨祝红 《南京工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2014年第1期7-12,共6页
采用原位水热法在不同方式预处理的Ti材上制备Cu3(BTC)2(H3BTC为C9H6O6,均苯三甲酸)膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X线衍射仪(XRD)等表征手段详细考察预处理方式对Cu3(BTC)2成膜的影响。结果表明:紫外光照射能有效提... 采用原位水热法在不同方式预处理的Ti材上制备Cu3(BTC)2(H3BTC为C9H6O6,均苯三甲酸)膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X线衍射仪(XRD)等表征手段详细考察预处理方式对Cu3(BTC)2成膜的影响。结果表明:紫外光照射能有效提高Ti材表面的羟基化程度,从而有利于Cu3(BTC)2晶体在表面生长;相比紫外光预处理,Piranha溶液预处理的表面更适合Cu3(BTC)2晶体的生长;在Piranha溶液结合紫外光照射处理的Ti材表面能制备出较连续的Cu3(BTC)2膜。 展开更多
关键词 Cu3(BTC)2膜 预处理 piranha溶液 UV Ti材
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湿氧化法清除介孔材料中的有机模板剂
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作者 陈琦 吴云琴 +4 位作者 郑璐康 周智慧 涂高美 肖强 朱伟东 《浙江师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第1期45-49,共5页
介孔材料的合成通常以表面活性剂自组装体为有机模板剂,并以高温焙烧法除去形成介孔结构中的有机模板.提出了一种全新的湿氧化去除介孔二氧化硅材料中的有机模板剂的方法,即以食人鱼溶液(3H_2SO_4-H_2O_2)处理含模板剂的MCM-41和SBA-15 ... 介孔材料的合成通常以表面活性剂自组装体为有机模板剂,并以高温焙烧法除去形成介孔结构中的有机模板.提出了一种全新的湿氧化去除介孔二氧化硅材料中的有机模板剂的方法,即以食人鱼溶液(3H_2SO_4-H_2O_2)处理含模板剂的MCM-41和SBA-15 2种典型的介孔材料,并对比研究了高温焙烧法和湿氧化法脱除有机模板剂的效果.通过XRD、FT-IR、N_2吸脱附、SEM、TG等手段对脱除模板剂前后的介孔材料进行表征.结果表明:食人鱼溶液可有效脱除介孔材料中的有机模板剂,且能很好地保留介孔结构;相比于高温焙烧后的样品,湿氧化法脱除模板剂后的样品具有更大的比表面积和更丰富的硅羟基,并克服了高温焙烧脱除模板剂造成的骨架收缩. 展开更多
关键词 介孔材料 湿氧化法 高温焙烧 食人鱼溶液 有机模板剂去除
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清洗工艺对AlN单晶抛光片表面有机沾污的影响 被引量:1
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作者 徐世海 边子夫 +4 位作者 高飞 张丽 程红娟 王健 李晖 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2021年第5期452-457,共6页
研究了化学机械抛光(CMP)后AlN单晶片的清洗。将除蜡剂清洗法、RCA清洗法、食人鱼溶液清洗法以及丙酮和异丙醇(IPA)的混合溶液清洗法等进行组合,对抛光后的AlN单晶片表面进行超声清洗,并通过微分干涉显微镜、原子力显微镜(AFM)及光电子... 研究了化学机械抛光(CMP)后AlN单晶片的清洗。将除蜡剂清洗法、RCA清洗法、食人鱼溶液清洗法以及丙酮和异丙醇(IPA)的混合溶液清洗法等进行组合,对抛光后的AlN单晶片表面进行超声清洗,并通过微分干涉显微镜、原子力显微镜(AFM)及光电子能谱仪(XPS)对清洗效果进行了表征,并分析了不同清洗方法对有机沾污的去除效果。实验结果表明,RCA清洗法清洗后晶片表面残留的有机沾污的含量最低,而食人鱼溶液清洗法可显著减小有机颗粒的尺寸,除蜡剂与丙酮和异丙醇的混合溶液对有机沾污的去除效果相近。优化的清洗工艺以丙酮和异丙醇的混合溶液作为初步清洗溶液,随后依次对晶片进行食人鱼溶液清洗和RCA清洗,应用此优化工艺清洗后的AlN单晶片表面颗粒较少,C—H键、C=O键和C—OH键的百分比分别为75.5%、20.4%和4.1%,表面粗糙度为0.069 2 nm。 展开更多
关键词 氮化铝(AlN)单晶 除蜡剂 食人鱼溶液清洗法 RCA清洗法 化学机械抛光(CMP) 有机沾污
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