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磁控溅射工艺参数对NdFeB薄膜表面形貌及相结构的影响 被引量:6
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作者 傅宇东 闫牧夫 +2 位作者 郭在在 王刚 刘勇 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第B08期66-69,共4页
本文对直流磁控溅射法制备NdFeB薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅为基体材料,在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了SEM、AFM、XRD分析结果表明,NdFeB薄膜沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅... 本文对直流磁控溅射法制备NdFeB薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅为基体材料,在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了SEM、AFM、XRD分析结果表明,NdFeB薄膜沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅射气压、溅射时间密切相关。并根据实验结果给出优化的NdFeB薄膜制备工艺。 展开更多
关键词 磁控溅射 ndfeb薄膜 工艺参数 表面形貌
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NdFeB永磁薄膜的研究进展 被引量:2
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作者 郭在在 刘国玺 +3 位作者 牟晓明 燕东明 傅宇东 高鹏 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第S1期107-112,共6页
综述了NdFeB薄膜的国内外研究进展;介绍并分析NdFeB永磁薄膜的制备方法及溅射功率,溅射气压及靶基距对NdFeB薄膜的影响;概括总结NdFeB永磁薄膜的应用领域;展望NdFeB永磁薄膜的发展趋势和前景。
关键词 ndfeb薄膜 制备 溅射功率 溅射气压 靶基距
原文传递
沉积膜厚度对NdFeB薄膜形貌和磁性能的影响
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作者 张凯 张敏刚 +1 位作者 刘文峰 杨利斌 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期46-48,69,共4页
采用直流磁控溅射法,以P型单晶硅为基体材料,通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜。然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征,结果表明,NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加,不同溅射时间段的沉积速率近似相同。... 采用直流磁控溅射法,以P型单晶硅为基体材料,通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜。然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征,结果表明,NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加,不同溅射时间段的沉积速率近似相同。矫顽力随着薄膜的厚度和Nd含量的增加而增加,薄膜中F的含量由84.01%降至81.65%,Nd含量由10.73%升至13.10%,B含量在5.25%~5.38%范围内浮动。 展开更多
关键词 磁控溅射 ndfeb薄膜 表面形貌 磁性能
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石榴石型直流光学电流互感器及其稳定性研究 被引量:4
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作者 克帕依吐·吐尔逊 李明 +1 位作者 汪齐 廖凯 《电气工程学报》 CSCD 2021年第2期149-158,共10页
随着我国智能电网建设的快速推进,电力系统中电压等级不断提高。针对电力系统中直流电流的检测,设计了基于钕铁硼永磁薄膜矫正的直流光学电流互感器结构。设计了直流光学电流传感器直通式传感头光路结构以及透射式和反射式两种系统光路... 随着我国智能电网建设的快速推进,电力系统中电压等级不断提高。针对电力系统中直流电流的检测,设计了基于钕铁硼永磁薄膜矫正的直流光学电流互感器结构。设计了直流光学电流传感器直通式传感头光路结构以及透射式和反射式两种系统光路结构,分析入射线偏振光的不同偏振分量对其影响。针对石榴石磁光材料中存在的零失散问题,通过磁控溅射法在石榴石材料表面生长一层钕铁硼永磁薄膜来降低零失散带进的测量误差。测量了石榴石材料表面的钕铁硼永磁薄膜磁滞回线,试验证明钕铁硼永磁薄膜具有良好的磁性能。设计并在实验室搭建了直流光学电流传感器的光电测试系统,将永磁薄膜厚度分别为1μm、2μm、4μm、5μm、100 nm和500 nm的石榴石材料作为敏感元件放入测试系统中,通过大电流发生器改变导线中直流电流的大小并采集相关数据进行处理分析。结果表明,该互感器的灵敏度和测量范围可以通过调节敏感元件离导线中心的距离来实现,并且该互感器测量的输出线性度高,方位角改变和电流的大小响应曲线线性度好。多次测量误差小于0.4%,多次测量的拟合曲线的重复性表现良好,表明缩短磁光材料厚度能有效地提高互感器运行的稳定性。 展开更多
关键词 钕铁硼永磁薄膜 直流光学电流互感器 方位角 石榴石材料
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NdFeB永磁薄膜的制备方法及其研究进展 被引量:1
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作者 张海杰 张敏刚 +2 位作者 刘文峰 陈峰华 李敏杰 《山西冶金》 CAS 2013年第2期1-4,11,共5页
综述了NdFeB永磁薄膜的制备方法和原理;介绍了NdFeB永磁薄膜的研究进展;指出了NdFeB永磁薄膜存在的问题;并对NdFeB永磁薄膜未来的发展方向及应用前景进行了展望。
关键词 ndfeb永磁薄膜 制备 进展
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