期刊文献+
共找到593篇文章
< 1 2 30 >
每页显示 20 50 100
980nm高功率垂直腔面发射激光器 被引量:21
1
作者 赵路民 王青 +4 位作者 晏长岭 秦莉 刘云 宁永强 王立军 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期142-144,共3页
研究了 980nm垂直腔面发射激光器 (VCSEL)的结构设计和器件制作 ,实现了室温下的脉冲激射。在脉宽为 5 0 μs,占空比为 5∶10 0 0的脉冲电流下 ,直径 4 0 0 μm的器件输出光功率最高可达 380mW ,发散角小于 10° ,光谱的半高全宽为 ... 研究了 980nm垂直腔面发射激光器 (VCSEL)的结构设计和器件制作 ,实现了室温下的脉冲激射。在脉宽为 5 0 μs,占空比为 5∶10 0 0的脉冲电流下 ,直径 4 0 0 μm的器件输出光功率最高可达 380mW ,发散角小于 10° ,光谱的半高全宽为 0 8nm。 展开更多
关键词 激光技术 半导体激光器 垂直腔面发射激光器 分子束外延 量子阱结构 氧化工艺
原文传递
808nm波长高功率阵列半导体激光器 被引量:12
2
作者 高欣 王玲 +2 位作者 高鼎三 曲轶 薄报学 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期494-496,共3页
报道了采用MBE外延生长方法制备的叠层阵列CW工作型高功率半导体激光器。激光器的生长结构采用经过优化的单量子阱渐变折射率分别限制波导结构 ,激光器芯片结构为标准的CM条 ,注入因子设计为 6 0 %。叠层装配采用了具有高效散热能力的... 报道了采用MBE外延生长方法制备的叠层阵列CW工作型高功率半导体激光器。激光器的生长结构采用经过优化的单量子阱渐变折射率分别限制波导结构 ,激光器芯片结构为标准的CM条 ,注入因子设计为 6 0 %。叠层装配采用了具有高效散热能力的水冷结构。经初步测试 ,叠层器件的阈值电流为 12A ,直流 30A驱动电流下的输出功率达 40W ,斜率效率为 2 2W /A。器件中心激射波长为 810nm ,光谱宽度 (FWHM )为 6nm。 展开更多
关键词 叠层阵列 半导体激光器 MBE外延生长
原文传递
激光分子束外延技术及其在氧化锌薄膜制备中的应用 被引量:9
3
作者 王兆阳 胡礼中 +2 位作者 孙捷 孟庆端 苏英美 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第z1期141-143,共3页
与金属有机物化学气相沉积和磁控溅射相比,激光分子束外延技术(L MBE)是近年来发展的一种先进的薄膜生长技术,在氧化锌薄膜生长的研究中因其独特的优越性显示出越来越强的竞争力。在讨论ZnO薄膜基本特性的基础上,较为详细地论述了激光... 与金属有机物化学气相沉积和磁控溅射相比,激光分子束外延技术(L MBE)是近年来发展的一种先进的薄膜生长技术,在氧化锌薄膜生长的研究中因其独特的优越性显示出越来越强的竞争力。在讨论ZnO薄膜基本特性的基础上,较为详细地论述了激光分子束外延技术及其在氧化锌薄膜制备中的应用和取得的新进展。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 分子束外延 激光分子束外延
下载PDF
单极型量子级联激光器的发明及其进展(邀请论文) 被引量:17
4
作者 李爱珍 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期2213-2220,共8页
1960年发明的固态激光器和气体激光器,1962年发明的双极型半导体激光器和1994年发明的单极型量子级联激光器(QCL)是激光领域的三个重大革命性里程碑。自1994年发明单极型QCL以来,目前已研制出波长覆盖2.63~360μm,室温连续功率达瓦级... 1960年发明的固态激光器和气体激光器,1962年发明的双极型半导体激光器和1994年发明的单极型量子级联激光器(QCL)是激光领域的三个重大革命性里程碑。自1994年发明单极型QCL以来,目前已研制出波长覆盖2.63~360μm,室温连续功率达瓦级的系列中远红外波段单极型QCL。本文对QCL的发明、激射机制、材料与激光器进行了综述性介绍。讨论了QCL及其在环境与气候监测、医学成像和检查及疾病诊断、通信、国土安全等战略新兴应用领域的研究现状和未来发展趋势。 展开更多
关键词 半导体激光 量子级联激光器 分子束外延 中远红外
原文传递
一种新型Si电子束蒸发器的研制及其应用研究 被引量:16
5
作者 王科范 刘金锋 +4 位作者 邹崇文 徐彭寿 潘海滨 张西庚 王文君 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期75-78,共4页
我们成功地设计出一种新型的Si电子束蒸发器 ,并将它应用于Ge/Si(111)量子点的生长。由于采用悬臂式设计 ,它完全克服了高压短路的问题。电子束蒸发器的性能试验表明 ,稳定输出功率可以控制输出稳定的Si束流。应用这种电子束蒸发器可以... 我们成功地设计出一种新型的Si电子束蒸发器 ,并将它应用于Ge/Si(111)量子点的生长。由于采用悬臂式设计 ,它完全克服了高压短路的问题。电子束蒸发器的性能试验表明 ,稳定输出功率可以控制输出稳定的Si束流。应用这种电子束蒸发器可以在 70 0℃ ,成功沉积出平整的单晶Si薄膜。进一步的试验表明 ,在这种缓冲层表面可以自组装生长出Ge量子点。 展开更多
关键词 电子束蒸发 量子点 缓冲层 SI(111) 输出功率 薄膜 束流 自组装 单晶 表面
下载PDF
分子束外延方法生长p型氧化锌薄膜 被引量:6
6
作者 矫淑杰 梁红伟 +5 位作者 吕有明 申德振 颜建锋 张振中 张吉英 范希武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期460-462,共3页
用等离子辅助分子束外延 (P MBE)的方法 ,在蓝宝石c 平面上外延生长了p型氧化锌薄膜。在实验中采用高纯金属锌作为Zn源、NO作为O源和掺杂源 ,通过射频等离子体激活进行生长。在生长温度 30 0℃ ,NO气体流量为 1.0sccm ,射频功率为 30 0... 用等离子辅助分子束外延 (P MBE)的方法 ,在蓝宝石c 平面上外延生长了p型氧化锌薄膜。在实验中采用高纯金属锌作为Zn源、NO作为O源和掺杂源 ,通过射频等离子体激活进行生长。在生长温度 30 0℃ ,NO气体流量为 1.0sccm ,射频功率为 30 0W的条件下 ,获得了重复性很好的p型ZnO ,且载流子浓度最大可达 1.2× 10 19cm-3 ,迁移率为 0 .0 5 35cm2 ·V-1·s-1,电阻率为 9.5Ω·cm。 展开更多
关键词 氧化锌薄膜 P型掺杂 一氧化氮 射频等离子体 分了束外延
下载PDF
在蓝宝石衬底上生长的氧化锌p-n同质结发光二极管 被引量:8
7
作者 矫淑杰 张振中 +5 位作者 吕有明 申德振 赵东旭 张吉英 姚斌 范希武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期542-544,共3页
用等离子体辅助的分子束外延的方法在蓝宝石衬底上生长了氧化锌的p-n同质结发光二极管。在实验中p型ZnO层是采用NO等离子体作为掺杂剂生长的。在低温下,二极管的I-V特性曲线显示了典型的p-n结整流特性,并且具有很低的开启电压(4 V)。在... 用等离子体辅助的分子束外延的方法在蓝宝石衬底上生长了氧化锌的p-n同质结发光二极管。在实验中p型ZnO层是采用NO等离子体作为掺杂剂生长的。在低温下,二极管的I-V特性曲线显示了典型的p-n结整流特性,并且具有很低的开启电压(4 V)。在实验中得到了位于蓝紫区的电致发光。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 P型掺杂 p-n同质结 分子束外延
下载PDF
MBE梯度掺杂GaAs光电阴极激活实验研究 被引量:8
8
作者 邹继军 常本康 杜晓晴 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期401-404,共4页
本文首次利用分子束外延(MBE)生长了多种由体内到表面掺杂浓度由高到低的梯度掺杂反射式GaAs光电阴极材料,并进行了激活实验,结果表明,表面低掺杂浓度适中,外延层厚度2μm^3μm以及衬底为重掺杂p型GaAs的梯度掺杂GaAs光电阴极能够获得... 本文首次利用分子束外延(MBE)生长了多种由体内到表面掺杂浓度由高到低的梯度掺杂反射式GaAs光电阴极材料,并进行了激活实验,结果表明,表面低掺杂浓度适中,外延层厚度2μm^3μm以及衬底为重掺杂p型GaAs的梯度掺杂GaAs光电阴极能够获得较高灵敏度。在优化激活工艺的条件下,梯度掺杂GaAs光电阴极获得了1798μA/lm的最高积分灵敏度,比采用同样方法制备的均匀掺杂GaAs光电阴极高30%以上。梯度掺杂GaAs光电阴极表面掺杂浓度较均匀掺杂的低,第一次给Cs时间较长,第一次Cs、O交替时要调整好Cs/O比,并在整个激活过程中保持不变。一个高量子效率梯度掺杂GaAs光电阴极的获得依赖于梯度掺杂结构和激活工艺两个方面的优化。 展开更多
关键词 分子束外延 梯度掺杂 GAAS光电阴极 量子效率 激活
下载PDF
红外量子级联激光器 被引量:7
9
作者 刘峰奇 王占国 《物理》 CAS 北大核心 2001年第10期596-601,共6页
量子级联激光器是一种基于子带间电子跃迁的新型单极光源 .文章系统地介绍了量子级联激光器全新的工作原理、结构设计思想以及它所固有的特点 ,对其研究现状进行了简略总结 。
关键词 量子阱 能带工程 量子级联激光器 工作原理 结构设计
原文传递
高性能In_(0.53)Ga_(0.47)AsPIN光电探测器的研制 被引量:7
10
作者 刘家洲 陈意桥 +3 位作者 税琼 南矿军 李爱珍 张永刚 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2002年第1期45-48,共4页
报道了采用GSMBE方法研制的In0.53Ga0.47AsPIN光电探测器,器件结构中引入了宽禁带InP窗口层和聚酰亚胺钝化工艺,减小了暗电流,提高了器件性能。在反向偏压为5V时器件的暗电流为640pA,反向偏压为10V时测得器件的上升时间为37.2ps,下降时... 报道了采用GSMBE方法研制的In0.53Ga0.47AsPIN光电探测器,器件结构中引入了宽禁带InP窗口层和聚酰亚胺钝化工艺,减小了暗电流,提高了器件性能。在反向偏压为5V时器件的暗电流为640pA,反向偏压为10V时测得器件的上升时间为37.2ps,下降时间为30.45ps,半高宽为43.9ps。对影响探测器暗电流的因素和提高响应速度的途径进行了讨论。 展开更多
关键词 光电探测器 分子束外延 PIN二极管 光纤通信 GSMBE 宽禁带半导体 镓砷铟化合物
原文传递
Distribution of carriers in gradient-doping transmission-mode GaAs photocathodes grown by molecular beam epitaxy 被引量:7
11
作者 张益军 常本康 +2 位作者 杨智 牛军 邹继军 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第10期4541-4546,共6页
The gradient-doping structure is first applied to prepare the transmission-mode GaAs photocathode and the integral sensitivity of the sealed image tube achieves 1420μA/lm. This paper studies the inner carrier concent... The gradient-doping structure is first applied to prepare the transmission-mode GaAs photocathode and the integral sensitivity of the sealed image tube achieves 1420μA/lm. This paper studies the inner carrier concentration distribution of the gradient-doping transmission-mode GaAs photocathode after molecular beam epitaxy (MBE) growth using the electrochemical capacitance-voltage profiling. The results show that an ideal gradient-doping structure can be obtained by using MBE growth. The total band-bending energy in the gradient-doping GaAs active-layer with doping concentration ranging from 1×10^19 cm-3 to 1×1018 cm-3 is calculated to be 46.3 meV, which helps to improve the photoexcited electrons movement toward surface for the thin epilayer. In addition,by analysis of the band offsets, it is found that the worse carrier concentration discrepancy between GaAs and GaA1As causes a lower back interface electron potential barrier which decreases the amount of high-energy photoelectrons and affects the short-wave response. 展开更多
关键词 GaAs photocathode gradient doping molecular beam epitaxy carrier concentrationdistribution
下载PDF
SiGe/Si异质结双极晶体管研究 被引量:6
12
作者 李开成 刘道广 +1 位作者 张静 易强 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2000年第3期144-146,共3页
介绍了一种 Si Ge/Si分子束外延异质结双极晶体管 ( HBT)的研制。该器件采用 3μm工艺制作 ,测量得其电流放大系数β为 50 ,截止效率 f T 为 5.1 GHz,表明器件的直流特性和交流特性良好。器件的单片成品率在 90 %以上。
关键词 分子束外延 异质结双极晶体管 锗-硅合金
下载PDF
现代外延生长技术 被引量:1
13
作者 黄和鸾 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 1994年第1期30-38,共9页
由于现代外延生长技术的不断完善,使异质结器件、量子阱与超晶格材料的生长与应用得到迅速发展.本文概述了目前半导体材料与器件研究最先进的几种外延生长技术,包括MBE、MOCVD、CBE、ALE和HWE.
关键词 外延生长技术 半导体材料
下载PDF
GSMBE GaN膜的电子输运性质研究 被引量:7
14
作者 王晓亮 孙殿照 +4 位作者 孔梅影 张剑平 曾一平 李晋闽 林兰英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第12期890-895,共6页
用NH3作氮源的GSMBE方法在晶向为(0001)的α-Al2O3衬底上生长了非有意掺杂的单晶GaN外延膜,GaN膜呈N型导电,室温时的最高迁移率约为120cm2/(V·s),相应的非有意掺杂电子浓度为9.1×... 用NH3作氮源的GSMBE方法在晶向为(0001)的α-Al2O3衬底上生长了非有意掺杂的单晶GaN外延膜,GaN膜呈N型导电,室温时的最高迁移率约为120cm2/(V·s),相应的非有意掺杂电子浓度为9.1×1017cm-3.对一些GaN膜进行了变温Hal测试,通过电阻率、背景电子浓度以及Hal迁移率随温度的变化研究了GaN外延膜的导电机理.结果表明,当温度较低时,以电子在施主中心之间的输运导电为主;当温度较高时,以导带中的自由电子导电为主. 展开更多
关键词 氮化镓 GSMBE 电子输动性质
下载PDF
射频等离子体发射光谱分析在分子束外延GaN生长中的应用 被引量:4
15
作者 杨冰 蒲以康 孙殿照 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第2期153-156,共4页
研究了射频等离子体辅助分子束外延生长GaN晶膜中氮等离子体的发射光谱。用非接触式测量方法———光谱法测定了等离子体特性。讨论了分子束外延生长系统参数的变化与等离子体发光光谱变化之间的联系 。
关键词 射频等离子体发射光谱分析 GaN 分子束外延生长 氮化镓 薄膜生长 半导体薄膜
下载PDF
倍增层厚度对In0.53Ga0.47As/InP雪崩二极管器件特性的影响 被引量:7
16
作者 王航 袁正兵 +4 位作者 谭明 顾宇强 吴渊渊 肖清泉 陆书龙 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第18期10-14,共5页
利用Zn扩散方法制备了倍增层厚度为1.5,1.0,0.8μm的In0.53Ga0.47As/InP雪崩光电二极管(APDs),研究了该器件特性。随着倍增层厚度的增加,器件的贯穿电压和击穿电压均呈现增大趋势。基于Silvaco模拟计算了APD器件的倍增层厚度对电场强度... 利用Zn扩散方法制备了倍增层厚度为1.5,1.0,0.8μm的In0.53Ga0.47As/InP雪崩光电二极管(APDs),研究了该器件特性。随着倍增层厚度的增加,器件的贯穿电压和击穿电压均呈现增大趋势。基于Silvaco模拟计算了APD器件的倍增层厚度对电场强度、电流特性、击穿电压与贯穿电压的影响规律,结果表明,随着倍增层厚度的增加,倍增层内电场强度减小,贯穿电压和击穿电压同时增大,与实验结果吻合。进一步研究发现,当倍增层的厚度小于0.8μm时,击穿电压随着倍增层厚度的增加会先减小后增大,贯穿电压则会单调增大。 展开更多
关键词 探测器 雪崩光电二极管 贯穿电压 击穿电压 分子束外延 ZN扩散
原文传递
Si_(1-x)Ge_x/Si多层异质外延结构的研究 被引量:2
17
作者 郭林 李开成 +2 位作者 张静 刘道广 易强 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2000年第4期217-220,共4页
对制作的 Si1-xGex/Si多层异质外延结构进行了研究。并对其做了反射高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)和扩展电阻(SR)等测量,给出了利用这种结构研制出的异质结双极晶体管(HBT)的输出特性曲线。
关键词 Si1-2Gex/Si 异质外延 异质结双极晶体管
下载PDF
中国电科11所碲镉汞薄膜材料制备技术进展
18
作者 折伟林 邢晓帅 +7 位作者 邢伟荣 刘江高 郝斐 杨海燕 王丹 侯晓敏 李振兴 王成刚 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期483-494,共12页
碲镉汞材料具有响应速度快、量子效率高、带隙连续可调等优点,广泛应用于红外探测领域,本文报道了近年来中国电科11所在碲镉汞薄膜材料制备方面的技术进展。在碲锌镉衬底材料制备方面,已突破Φ135mm碲锌镉晶体生长技术,碲锌镉衬底平均... 碲镉汞材料具有响应速度快、量子效率高、带隙连续可调等优点,广泛应用于红外探测领域,本文报道了近年来中国电科11所在碲镉汞薄膜材料制备方面的技术进展。在碲锌镉衬底材料制备方面,已突破Φ135mm碲锌镉晶体生长技术,碲锌镉衬底平均位错腐蚀坑密度(EPD)<1×10^(4)cm^(-2),具备了80mm×80mm规格碲锌镉衬底的批量生产能力。在液相外延碲镉汞薄膜制备方面,富碲水平液相外延碲镉汞薄膜平均位错腐蚀坑密度EPD<4×10^(4)cm^(-2),具备80mm×80mm规格碲镉汞薄膜的制备能力;富汞垂直液相外延实现高质量双层异质结碲镉汞薄膜材料批量化制备,该种材料的半峰宽(FWHM)控制在(20~40)arcsec范围内,碲镉汞薄膜厚度极差≤±06μm。在分子束外延碲镉汞薄膜方面,实现了6 in硅基碲镉汞材料制备,组分标准偏差≤00015,表面宏观缺陷密度≤100cm^(-2);碲锌镉基碲镉汞材料已具备50mm×50mm制备能力,组分标准偏差为0002,厚度标准偏差为0047μm。从探测器验证结果来看,基于富碲水平液相外延碲镉汞薄膜实现了1 k×1 k、2 k×2 k等规格红外焦平面探测器的工程化制备;采用双层异质结碲镉汞薄膜实现了高温工作、长波及甚长波探测器的制备;使用分子束外延制备的碲镉汞薄膜实现了27 k×27 k、54 k×54 k、8 k×8 k等规格红外焦平面探测器研制,在宇航领域有巨大的应用潜力。 展开更多
关键词 碲锌镉 碲镉汞 双层异质结 红外探测 液相外延 分子束外延
下载PDF
Observation of unconventional anomalous Hall effect in epitaxial CrTe thin films 被引量:5
19
作者 Dapeng Zhao Liguo Zhang +11 位作者 Iftikhar Ahmed Malik Menghan Liao Wenqiang Cui Xinqiang Cai Cheng Zheng Luxin Li Xiaopeng Hu Ding Zhang Jinxing Zhang Xi Chen Wanjun Jiang Qikun Xue 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第6期3116-3121,共6页
We have studied the magnetic and electrical transport properties of epitaxial NiAs-type CrTe thin films grown on SrTiO3(111) substrates. Unlike rectangle hysteresis loops obtained from magnetic measurements, we have... We have studied the magnetic and electrical transport properties of epitaxial NiAs-type CrTe thin films grown on SrTiO3(111) substrates. Unlike rectangle hysteresis loops obtained from magnetic measurements, we have identified intriguing extra bump/dip features from anomalous Hall experiments on the films with thicknesses less than 12 nm. This observed Hall anomaly is phenomenologically consistent with the occurrence of a topological Hall effect (THE) in chiral magnets with a skyrmion phase. Furthermore, the THE contribution can be tuned by the film thickness, showing the key contribution of asymmetric interfaces in stabilizing N6el-type skyrmions. Our work demonstrates that a CrTe thin film on SrTiO3(111) substrates is a good material candidate for studying real-space topological transport. 展开更多
关键词 topological Hall effect CrTe films skyrmion phase molecular beam epitaxy
原文传递
Si基SiC薄膜物理制备工艺研究进展
20
作者 苏江滨 朱秀梅 +3 位作者 季雪梅 祁昊 潘鹏 何祖明 《常州大学学报(自然科学版)》 CAS 2024年第1期9-17,共9页
随着微纳电子器件集成化程度不断提高,用Si基SiC薄膜取代SiC体单晶引起了人们极大的兴趣,这种方法不仅有利于降低生产成本,还能与Si基大规模集成电路兼容。文章综述了磁控溅射、分子束外延、离子束溅射、离子注入4种物理制备Si基SiC薄... 随着微纳电子器件集成化程度不断提高,用Si基SiC薄膜取代SiC体单晶引起了人们极大的兴趣,这种方法不仅有利于降低生产成本,还能与Si基大规模集成电路兼容。文章综述了磁控溅射、分子束外延、离子束溅射、离子注入4种物理制备Si基SiC薄膜主要工艺的研究进展,简单阐述了各种工艺对薄膜性能的影响,对各种工艺的优缺点和存在的问题进行了评述,同时指明了Si基SiC薄膜领域未来的发展方向。 展开更多
关键词 SIC薄膜 磁控溅射 分子束外延 离子束溅射 离子注入
下载PDF
上一页 1 2 30 下一页 到第
使用帮助 返回顶部