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高功率脉冲磁控溅射制备非晶碳薄膜研究进展 被引量:17
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作者 左潇 孙丽丽 +1 位作者 汪爱英 柯培玲 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期53-63,共11页
非晶碳薄膜主要由sp^3碳原子和sp^2碳原子相互混杂的三维网络构成,具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损、耐腐蚀以及化学稳定性等优异性能。然而传统制备方法难以实现薄膜结构及其性能的综合调控,高功率脉冲磁控溅射因其离子沉积特性受到领... 非晶碳薄膜主要由sp^3碳原子和sp^2碳原子相互混杂的三维网络构成,具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损、耐腐蚀以及化学稳定性等优异性能。然而传统制备方法难以实现薄膜结构及其性能的综合调控,高功率脉冲磁控溅射因其离子沉积特性受到领域内专家学者的关注。总结了近年来关于高功率脉冲磁控溅射制备非晶碳薄膜材料的研究进展。重点介绍了高功率脉冲磁控溅射石墨靶的放电特性,指出了其在沉积非晶碳薄膜过程中获得高碳原子离化率的条件。针对离化率和沉积速率低,主要从提高碳原子离化率和碳离子传输效率等角度,介绍了几种改进的高功率脉冲磁控溅射方法。并对比了不同高功率脉冲磁控溅射方法中的碳原子离化特征、薄膜沉积速率、结构和力学性能。进一步地,探讨了高功率脉冲磁控溅射在制备含氢非晶碳薄膜和金属掺杂非晶碳薄膜中的优势及其在燃料电池、生物、传感等前沿领域的应用。最后,对高功率脉冲磁控溅射石墨靶的离子沉积特性、非晶碳薄膜制备及其应用研究趋势进行了展望。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 非晶碳薄膜 放电特征 沉积速率 反应性磁控溅射 金属掺杂非晶碳薄膜
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钛合金表面掺金属类金刚石薄膜的摩擦磨损性能研究 被引量:13
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作者 林松盛 代明江 +4 位作者 侯惠君 李洪武 朱霞高 林凯生 牛仕超 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期382-386,共5页
采用阳极层流型矩形气体离子源结合非平衡磁控溅射法在钛合金基体表面制备掺金属类金刚石(Me-DLC)薄膜,通过X射线光电子能谱仪、俄歇微探针、表面形貌仪及扫描电子显微镜等对薄膜结构进行表征,用SRV型摩擦磨损试验机评价其摩擦磨损性能... 采用阳极层流型矩形气体离子源结合非平衡磁控溅射法在钛合金基体表面制备掺金属类金刚石(Me-DLC)薄膜,通过X射线光电子能谱仪、俄歇微探针、表面形貌仪及扫描电子显微镜等对薄膜结构进行表征,用SRV型摩擦磨损试验机评价其摩擦磨损性能.结果表明,类金刚石薄膜可以提高钛合金基体的承载能力和硬度,对基体材料起到有效的耐磨减摩作用,掺钨类金刚石薄膜的硬度及膜/基结合强度较高,具有良好的耐磨减摩性能,且在膜层承载能力范围内,载荷越高,DLC梯度薄膜的摩擦系数越小. 展开更多
关键词 气体离子源 非平衡磁控溅射 掺金属类金刚石膜 钛合金 摩擦磨损性能
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金属-类金刚石薄膜研究进展 被引量:5
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作者 谷坤明 汤皎宁 +1 位作者 李均钦 杨钦鹏 《深圳大学学报(理工版)》 EI CAS 北大核心 2007年第2期159-165,共7页
类金刚石膜中的金属粒子可缓解类金刚石薄膜中由于制备态产生大内应力而导致的膜厚受限这一矛盾,能显著改变薄膜各种性能.述评了金属-类金刚石薄膜的制备工艺、不同金属粒子对DLC薄膜形态、键结构、力学及摩擦磨损性能、物理化学性能等... 类金刚石膜中的金属粒子可缓解类金刚石薄膜中由于制备态产生大内应力而导致的膜厚受限这一矛盾,能显著改变薄膜各种性能.述评了金属-类金刚石薄膜的制备工艺、不同金属粒子对DLC薄膜形态、键结构、力学及摩擦磨损性能、物理化学性能等的影响,指出在金属粒子对DLC膜的力学及摩擦学性能的影响方面还有很多待确定的因素. 展开更多
关键词 dlc 含金属碳膜 medlc 薄膜改性 薄膜应力缓解
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Ti-containing hydrogenated carbon films fabricated by high-power plasma magnetron sputtering 被引量:4
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作者 YANG Peng SUNG Chia-chi +2 位作者 FUH Yiin-Kuen CHU Chun-lin LO Chih-hung 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第6期1381-1386,共6页
To improve the characteristics of a diamond-like carbon (DLC) film, Ti-containing amorphous hydrogenated carbon thin films were deposited on sus304 stainless steel substrates by high-power plasma-sputtering with tit... To improve the characteristics of a diamond-like carbon (DLC) film, Ti-containing amorphous hydrogenated carbon thin films were deposited on sus304 stainless steel substrates by high-power plasma-sputtering with titanium metal as the solid plasma source in a mixed ArC2H2 atmosphere. The films were fabricated to obtain a multilayered structure of Ti/TiC/DLC gradient for improving adhesion and reducing residual stress. The effects of substrate bias and target-substrate distance on the films' properties were studied by glow discharge spectroscope, X-ray diffractometer, Raman spectroscope, nanoindenter, and a pin-on-disk tribometer. The results indicate that the films possess superior adhesive strength and toughness. 展开更多
关键词 high-power plasma-sputtering me-dlc diamond-like carbon
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金属掺杂类金刚石纳米复合涂层的制备、结构与性能 被引量:5
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作者 代伟 《新技术新工艺》 2015年第7期128-131,共4页
金属掺杂类金刚石纳米复合薄膜(Me-DLC膜)具有诸多优异的力学、摩擦学、电学和生物学特性,尤其因其在降低残余应力方面的显著功效,近年来成为新型碳功能材料领域的研究热点和重要分支。主要综述了Me-DLC膜的常用制备技术,对金属掺杂导... 金属掺杂类金刚石纳米复合薄膜(Me-DLC膜)具有诸多优异的力学、摩擦学、电学和生物学特性,尤其因其在降低残余应力方面的显著功效,近年来成为新型碳功能材料领域的研究热点和重要分支。主要综述了Me-DLC膜的常用制备技术,对金属掺杂导致类金刚石(DLC)薄膜的组分、结构和性能的变化规律进行了分析,阐述了金属掺杂导致的薄膜微结构演化与硬度、摩擦因数和残余应力之间的作用关系,最后提出了发展Me-DLC纳米复合薄膜的一些关键研究问题。 展开更多
关键词 medlc纳米复合 合成 微结构 性能
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气源流量对所制备Me-DLC膜性能的影响
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作者 聂君兰 谷坤明 +2 位作者 汤皎宁 麦达宇 樊璠 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 2008年第1期34-37,共4页
介绍了一种新型的DLC膜制备方法——ECR(电子回旋共振)微波等离子体气相沉积结合磁控溅射的方法。采用该法通过溅射石墨靶和金属钛靶在不锈钢基底上制备了具有Ti/TiN/TiN(N,C)中间层结构的碳薄膜。研究了制备时不同气源流量对薄膜的表... 介绍了一种新型的DLC膜制备方法——ECR(电子回旋共振)微波等离子体气相沉积结合磁控溅射的方法。采用该法通过溅射石墨靶和金属钛靶在不锈钢基底上制备了具有Ti/TiN/TiN(N,C)中间层结构的碳薄膜。研究了制备时不同气源流量对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能等的影响。 展开更多
关键词 me-dlc ECR溅射镀膜 磁控溅射 气源流量
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Me-DLC膜的开发 被引量:1
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作者 蔡千华 《国外金属热处理》 2003年第6期44-47,共4页
关键词 me-dlc 表面改性 镀膜 阴极溅镀 成膜工艺
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