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稀薄气体动力学:进展与应用 被引量:37
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作者 樊菁 《力学进展》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期185-201,共17页
简要回顾了稀薄气体动力学的发展历程;重点介绍了该领域最近二三十年的主要进展,这突出表现在分子模拟方法(DSMC方法、信息保存方法等)的迅速发展与成功应用;概述了航天工业、真空技术、微机电系统等尖端技术中的稀薄气流问题,以及最近... 简要回顾了稀薄气体动力学的发展历程;重点介绍了该领域最近二三十年的主要进展,这突出表现在分子模拟方法(DSMC方法、信息保存方法等)的迅速发展与成功应用;概述了航天工业、真空技术、微机电系统等尖端技术中的稀薄气流问题,以及最近几届国际稀薄气体动力学会议的主题.在此基础上指出了学科前沿问题,以及几个与实际应用有关的重大问题,如过渡流区高超声速三维非平衡流场的精细预测和实验验证、热层大气的时空演化规律与探测、以气体为介质的微机电系统设计与优化、真空环境下原子水平的材料制备工艺的定量设计. 展开更多
关键词 稀薄气体动力学 分子模拟方法 高超声速飞行器 微电子机械系统 薄膜沉积
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等离子体射流快速改性促进表面电荷衰减 被引量:29
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作者 林浩凡 王瑞雪 +2 位作者 谢庆 张帅 邵涛 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2017年第16期256-264,共9页
随着高压直流输电迅猛发展,绝缘材料在直流电压下表面电荷积聚现象严重威胁直流输电系统的安全可靠运行。为加快绝缘材料表面电荷的消散,采用大气压等离子体射流,以TEOS为前驱物,在环氧树脂表面沉积SiO_x薄膜。对改性前后材料表面化学... 随着高压直流输电迅猛发展,绝缘材料在直流电压下表面电荷积聚现象严重威胁直流输电系统的安全可靠运行。为加快绝缘材料表面电荷的消散,采用大气压等离子体射流,以TEOS为前驱物,在环氧树脂表面沉积SiO_x薄膜。对改性前后材料表面化学组成、表面电导率、表面电荷特性、表面陷阱分布以及耐压特性进行多参数测量,研究等离子体射流改性前后环氧树脂表面特性。实验结果表明:等离子体处理在环氧树脂表面引入大量以Si-O-Si及Si-OH基团为主的无机基团,且表面电导率提高2个数量级。随着改性时间的延长,表面电荷的初始积聚量减少,消散速度加快,陷阱能级深度变浅;沿面闪络电压呈现先增后降的趋势,在改性180s时闪络电压提高到最高值9.0k V。研究结果表明:通过大气压等离子体射流在聚合物表面沉积薄膜能够提高环氧树脂绝缘性能,为其工程应用提供了有效的改性方法。 展开更多
关键词 等离子体射流 薄膜沉积 表面电荷 环氧树脂 闪络电压
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类金刚石膜的制备技术及应用领域概况 被引量:17
3
作者 张碧云 曲燕青 +1 位作者 谢红梅 聂朝胤 《表面技术》 EI CAS CSCD 2007年第3期70-73,共4页
简要介绍了类金刚石膜的结构,综述了类金刚石膜的传统制备方法以及其制备方法的基本原理和优缺点,同时介绍了几种近年发展起来的新兴制备方法,与传统制备方法相比,它更能提高膜的沉积速率和质量。总结了类金刚石膜在机械、电子、光学、... 简要介绍了类金刚石膜的结构,综述了类金刚石膜的传统制备方法以及其制备方法的基本原理和优缺点,同时介绍了几种近年发展起来的新兴制备方法,与传统制备方法相比,它更能提高膜的沉积速率和质量。总结了类金刚石膜在机械、电子、光学、医学、航空等领域的应用状况。同时指出,随着DLC技术上的成熟,其必将在更多领域发挥越来越大的作用。 展开更多
关键词 类金刚石 薄膜 制备 应用 沉积技术
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氧含量对大气压等离子体薄膜沉积提高环氧树脂沿面耐压的影响 被引量:16
4
作者 王婷婷 章程 +3 位作者 张福增 马翊洋 罗兵 邵涛 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第10期3708-3714,共7页
大气压等离子体改性可以有效提高环氧树脂(Al2O3-ER))表面沿面耐压特性。为了进一步提高放电均匀性和处理效果,研究了氧气(O2)对大气压等离子体射流薄膜沉积效果的影响。实验时氩气(Ar)作为载气,正硅酸四乙酯(TEOS)作为前驱气体。实验... 大气压等离子体改性可以有效提高环氧树脂(Al2O3-ER))表面沿面耐压特性。为了进一步提高放电均匀性和处理效果,研究了氧气(O2)对大气压等离子体射流薄膜沉积效果的影响。实验时氩气(Ar)作为载气,正硅酸四乙酯(TEOS)作为前驱气体。实验中保持通入射流管的Ar/TEOS混合气体含量不变,基底加热温度设为100℃,沉积3min,研究了氧含量对薄膜沉积的影响规律。实验结果表明Ar/TEOS混合气体中通入适量O2后,Al2O3-ER表面的Si—O—Si和Si—OH基团的吸收峰增强,Si元素和O元素的含量增加,这主要与Ar/O2反应中的潘宁电离增强、TEOS充分裂解有关。表面样貌观察结果表明不加氧时的表层出现与薄膜较为融合的纳米颗粒,添加0.8%O2后的表面呈现紧密的絮状结构。此外,表面电位分布测试表明添加1.6%O2后的峰值电位下降约50%,同时闪络电压平均值提高34.2%。实验结果为进一步优化薄膜沉积条件,提高Al2O3-ER沿面闪络性能研究提供了参考。 展开更多
关键词 等离子体 薄膜沉积 氧含量 潘宁电离 闪络电压
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尖晶石型铁氧体薄膜的研究现状 被引量:7
5
作者 陈亚杰 狄国庆 杨莉玲 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 1999年第2期1-9,8,共10页
综述了近十年来国内外有关尖晶石型铁氧体的研究和应用状况,着重介绍了1996~1998年期间国外有关软磁铁氧体多晶薄膜的成膜技术、物性分析、应用领域、发展前景等方面的最新研究成果。
关键词 尖晶石铁氧体 薄膜 成膜技术 铁氧体
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RF磁控溅射制备Al_2O_3薄膜及其介电性能研究 被引量:12
6
作者 刘红飞 程晓农 +2 位作者 徐桂芳 张志萍 付廷波 《材料开发与应用》 CAS 2007年第1期5-8,共4页
以-αAl2O3为靶材,采用射频磁控溅射法制备了非晶Al2O3薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、划痕仪、表面粗糙轮廓仪和阻抗仪研究了不同溅射功率和不同溅射气压对薄膜制备的影响,探索了不同溅射功率下制备的Al2O3薄膜的介电常数和介电损... 以-αAl2O3为靶材,采用射频磁控溅射法制备了非晶Al2O3薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、划痕仪、表面粗糙轮廓仪和阻抗仪研究了不同溅射功率和不同溅射气压对薄膜制备的影响,探索了不同溅射功率下制备的Al2O3薄膜的介电常数和介电损耗与频率的关系。试验结果表明,制备的非晶Al2O3薄膜表面平滑致密;随着工作气压的增加,薄膜沉积速率增加;随着溅射功率的增加,Al2O3薄膜的沉积速率和介电常数逐渐增加、介电损耗逐渐减小;随着频率的增加,Al2O3薄膜的介电常数逐渐减小,高频阶段趋于稳定。 展开更多
关键词 AL2O3薄膜 RF磁控溅射 沉积速率 介电损耗 介电常数
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基片材料与沉积参数对薄膜应力的影响 被引量:12
7
作者 李玉琼 喻志农 +3 位作者 王华清 卢维强 薛唯 丁瞾 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期602-608,共7页
采用哈特曼-夏克传感器的薄膜应力在线测量仪测量了利用离子辅助电子束蒸发的Si O2,Ti O2,Ta2O5,Al2O3与ITO薄膜在不同厚度时的应力值,并深入研究了基片材料与沉积参数对Si O2,Ti O2薄膜应力的影响。研究结果表明,在成膜的初始阶段,薄... 采用哈特曼-夏克传感器的薄膜应力在线测量仪测量了利用离子辅助电子束蒸发的Si O2,Ti O2,Ta2O5,Al2O3与ITO薄膜在不同厚度时的应力值,并深入研究了基片材料与沉积参数对Si O2,Ti O2薄膜应力的影响。研究结果表明,在成膜的初始阶段,薄膜应力与薄膜厚度基本上呈线性函数,当达到一定厚度时薄膜应力基本趋于一个定值;薄膜与基片的热失配将引起薄膜热应力,通过选择合适的基片材料可以使其降低;对Ti O2薄膜而言,当基片温度低于150℃时,热应力起主要作用,当基片温度高于150℃时,薄膜致密引起的压应力占主导地位,但Si O2薄膜其热应力始终占主导地位;当真空室压强低于1.7×10-2Pa时,Si O2薄膜的张应力主要是由离子辅助溅射效应而引起,当真空室压强高于1.7×10-2Pa时,Si O2薄膜的张应力随着压强的增大而增大,但折射率减小。 展开更多
关键词 薄膜光学 薄膜应力 哈特曼-夏克传感器 基片材料 沉积参数 离子辅助沉积
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超重力条件下电沉积金属镍的结构与性能 被引量:12
8
作者 刘婷 郭占成 +1 位作者 王志 王明涌 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1858-1863,共6页
在超重力垂直于电极表面的情况下,研究超重力场对水溶液金属电沉积镍箔的组织结构和性能的影响,利用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)对沉积镍箔的表面形貌和晶体结构进行观察。结果表明:超重力场下的镍箔晶粒细化,表面更平整,当重... 在超重力垂直于电极表面的情况下,研究超重力场对水溶液金属电沉积镍箔的组织结构和性能的影响,利用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)对沉积镍箔的表面形貌和晶体结构进行观察。结果表明:超重力场下的镍箔晶粒细化,表面更平整,当重力系数为354时,表面粗糙度由常重力下的20.9nm降低到4.9nm;并且随着重力系数的增加,沉积镍箔的晶体结构从有择优取向结构转变为无特定的择优取向结构。力学性能测试表明,当重力系数为354时,沉积镍箔的硬度和抗拉强度分别达到HV898和944MPa,比常重力下分别提高了HV604和646MPa。 展开更多
关键词 镍箔 超重力场 重力系数 电沉积 结构 性能
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微波ECR等离子体辅助反应蒸发沉积ITO膜 被引量:9
9
作者 程珊华 宁兆元 +3 位作者 薛青 金宗明 高伟建 李育峰 《功能材料》 EI CAS CSCD 1995年第5期405-408,共4页
发展了一种新型的微波电子回旋共振等离子体(ECR)辅助反应蒸发沉积薄膜的方法,并且使用它成功地在低气压(10 ̄(-2)Pa)、低温基片(30~100℃)上,不作后处理,直接制备出了附着力强,透光率高于85%,方阻低于... 发展了一种新型的微波电子回旋共振等离子体(ECR)辅助反应蒸发沉积薄膜的方法,并且使用它成功地在低气压(10 ̄(-2)Pa)、低温基片(30~100℃)上,不作后处理,直接制备出了附着力强,透光率高于85%,方阻低于100Ω/□的ITO膜。 展开更多
关键词 ITO膜 微波 ECR等离子体 真空蒸发
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薄膜沉积机理的计算机模拟应用和发展 被引量:6
10
作者 宋鹏 陆建生 +2 位作者 瑚琦 赵明娟 杨滨 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第F09期154-157,共4页
薄膜技术作为材料制备的一种新技术,在现代科技领域中有着广泛应用。人们对薄膜的沉积机理通过理论和实验进行了比较深入的研究,其中计算机模拟变得日趋重要。主要阐述目前薄膜沉积机理的计算机模型:LG模型、Eden模型、DLA模型及RLA模型... 薄膜技术作为材料制备的一种新技术,在现代科技领域中有着广泛应用。人们对薄膜的沉积机理通过理论和实验进行了比较深入的研究,其中计算机模拟变得日趋重要。主要阐述目前薄膜沉积机理的计算机模型:LG模型、Eden模型、DLA模型及RLA模型,相应计算机模拟技术的发展以及面临的问题和发展方向。 展开更多
关键词 薄膜技术 沉积机理 计算机模拟技术 物理气相沉积 化学气相沉积 PVD CVD
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半球形基底镀膜膜厚均匀性理论分析 被引量:12
11
作者 吴伟 王济洲 +2 位作者 熊玉卿 王多书 冯煜东 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期320-324,共5页
对特殊的非平面基片-半球表面上镀制薄膜的膜厚均匀性进行了理论分析研究。首先,推导了半球面静止时球面各点的膜厚方程以及此时半球面能够镀膜的区域。然后推算了半球表面沿通过球心竖直方向的轴转动后球面各位置处的膜厚方程,另外当... 对特殊的非平面基片-半球表面上镀制薄膜的膜厚均匀性进行了理论分析研究。首先,推导了半球面静止时球面各点的膜厚方程以及此时半球面能够镀膜的区域。然后推算了半球表面沿通过球心竖直方向的轴转动后球面各位置处的膜厚方程,另外当蒸发源与球心的水平距离小于半球面半径时,存在一定区域无法镀膜,对该区域进行了理论计算。最后通过计算相对膜厚分析了半球表面膜层厚度分布情况。选择合适的蒸发源与基底间的几何配置可获得小范围内相对较为均匀的镀膜区域。该研究工作对半球面这种复杂的非平面基片上镀膜膜厚均匀性研究工作具有理论指导意义,同时对改善此种表面上的膜厚分布研究提供了相关的理论依据。 展开更多
关键词 膜厚均匀性 半球形基底 真空镀膜 理论分析
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等离子体复合薄膜沉积抑制金属微粒启举 被引量:12
12
作者 程显 徐晖 +3 位作者 王瑞雪 高远 章程 邵涛 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2018年第20期4672-4681,共10页
气体绝缘金属封闭线路(GIL)和气体绝缘金属封闭开关设备(GIS)中的金属微粒污染是影响设备绝缘性能的主要因素之一,而电极表面覆膜能够在一定程度上提高直流应力下金属微粒的启举电压。本文探索一种使用等离子体射流对金属电极表面处理... 气体绝缘金属封闭线路(GIL)和气体绝缘金属封闭开关设备(GIS)中的金属微粒污染是影响设备绝缘性能的主要因素之一,而电极表面覆膜能够在一定程度上提高直流应力下金属微粒的启举电压。本文探索一种使用等离子体射流对金属电极表面处理以抑制金属微粒启举的方法。利用高频交流电源激励产生大气压等离子体射流在Cu表面沉积SiO_2-TiO_2复合薄膜,获得由厚度约2μm的TiO_2薄膜和3.5μm的SiO_2薄膜组成的致密复合薄膜,并且在测试频率为1kHz时TiO_2和SiO_2薄膜的相对介电常数分别为24和4左右。此外搭建金属微粒运动观测平台对比电极表面沉积薄膜前后对金属微粒启举的影响,并通过建模仿真计算沉积复合薄膜前后高压电极与金属微粒间的电场畸变程度。结果表明:电极表面沉积薄膜后金属微粒的启举电压提高约18%,在相同条件下表面沉积薄膜后金属微粒启举具有明显的延迟效应,并且沉积薄膜后金属微粒和电极间的最大电场强度由1.98×108V/m下降至1.82×108V/m。因此,通过等离子体增强化学气相沉积法在电极表面沉积薄膜能够提高金属微粒启举电压、降低其运动活性,为工程应用提供了新的解决方式。 展开更多
关键词 等离子体射流 直流气体绝缘金属封闭线路 沉积薄膜 电极表面覆膜 金属微粒启举
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Electrochemical studies of nickel deposition from aqueous solution in super-gravity field 被引量:10
13
作者 GUO ZhanCheng1,2, GONG YingPeng2 & LU WeiChang2 1 Metallurgical & Ecological School, University of Science and Technology, Beijing 100083, China 2 Institute of Process Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080, China 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2007年第1期39-50,共12页
The effect of super-gravity on electrochemical deposition of nickel from aqueous solution was studied. The SEM pictures show that the microstructure of nickel film deposited under the super-gravity condition is finer ... The effect of super-gravity on electrochemical deposition of nickel from aqueous solution was studied. The SEM pictures show that the microstructure of nickel film deposited under the super-gravity condition is finer and more uniform compared with that obtained in normal gravity condition, and the crystal grains diminish with the increase of super-gravity coefficient. The XRD patterns indicate that the arrangement of crystalline grains of nickel film deposited under the super-gravity field is more regular, and the crystalline grain sizes decrease with the increase of super-gravity coefficient. Toughness, tensile stress and hardness of the nickel film are markedly raised with the increase of super-gravity coefficient, and hydrogen content in the nickel film decreases with the increase of super-gravity coefficient. From the polarization curves of hydrogen evolution reaction under the super-gravity condition, a significant reduction of over-potential on electrode was found when current density increased. The process of hydrogen evolution reaction was enhanced under the super-gravity condition. The electro-deposition rate, the microstructure and properties of deposited nickel film under super-gravity condition were still affected by the relative orientation between inertia force and depositing surface. It is favorable to gain the nickel film with better mechanic properties when inertia force orientates vertically towards depositing surface. Keywords super-gravity - electrochemistry - electro-deposition - nickel film Supported by the Notional Natural Science Foundation of China (Grant No. 50674011) 展开更多
关键词 super-gravity ELECTROCHEMISTRY ELECTRO-deposition NICKEL film
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Centimeter-scale growth of two-dimensional layered high-mobility bismuth films by pulsed laser deposition 被引量:11
14
作者 Zhibin Yang Zehan Wu +1 位作者 Yongxin Lyu Jianhua Hao 《InfoMat》 SCIE CAS 2019年第1期98-107,共10页
Ever since discovery of graphene,two-dimensional(2D)materials become a new tool box for information technology.Among the 2D family,ultrathin bismuth(Bi)has attracted a great deal of attention in recent years due to it... Ever since discovery of graphene,two-dimensional(2D)materials become a new tool box for information technology.Among the 2D family,ultrathin bismuth(Bi)has attracted a great deal of attention in recent years due to its unique topological insulating properties and large magnetoresistance.However,the scalable synthesis of layered Bi ultrathin films is rarely been reported,which would greatly restrict further fundamental investigation and practical device development.Here,we demonstrate the direct growth of homogeneous and centimeter-scale layered Bi films by pulsed laser deposition(PLD)technique.The as-grown Bi film exhibits high-purity phase and good crystallinity.In addition,both(111)and(110)-oriented Bi films can be synthesized by precisely controlling the processing temperature.The characterization of optical properties shows a thickness dependent band gaps(0.075-0.2 eV).Moreover,Bi thin-film-based field-effect transistors have been demonstrated,exhibiting a large carrier mobility of 220 cm2 V−1 s−1.Our work suggests that the PLD-grown Bi films would hold the potential to develop spintronic applications,electronic and optoelectronic devices used for information science and technology. 展开更多
关键词 2D materials bismuth film nanoscale information devices pulsed laser deposition wafer scale growth
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CVD金刚石制备方法及其工业化前景分析 被引量:8
15
作者 董长顺 玄真武 +1 位作者 石岩 秦松岩 《超硬材料工程》 CAS 2009年第1期33-39,共7页
文章对多种CVD金刚石膜制备方法进行了介绍,同时对近年来国内外CVD金刚石技术及其产业发展状况、应用领域开发、潜在的市场前景等方面进行了分析讨论。指出:作为21世纪的高新材料,CVD金刚石及其工具产品的产业化发展,必将在科技、军工... 文章对多种CVD金刚石膜制备方法进行了介绍,同时对近年来国内外CVD金刚石技术及其产业发展状况、应用领域开发、潜在的市场前景等方面进行了分析讨论。指出:作为21世纪的高新材料,CVD金刚石及其工具产品的产业化发展,必将在科技、军工及民用工业等技术领域起非常重要的作用。 展开更多
关键词 CVD 金刚石膜 沉积法 综述
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复材表面电弧离子镀镀铝膜性能研究 被引量:9
16
作者 赵栋才 肖更竭 +2 位作者 马占吉 武生虎 任妮 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期510-513,共4页
为了减小复材天线反射器在高频段的反射损耗,利用电弧离子镀膜技术在其表面镀Al膜。用万能拉伸测试仪、表面轮廓仪、SEM、XPS、XRD、Z-82数字式四探针测试仪对其性能进行评价。发现薄膜致密、均匀、形成晶体结构,导电性能接近块体Al材... 为了减小复材天线反射器在高频段的反射损耗,利用电弧离子镀膜技术在其表面镀Al膜。用万能拉伸测试仪、表面轮廓仪、SEM、XPS、XRD、Z-82数字式四探针测试仪对其性能进行评价。发现薄膜致密、均匀、形成晶体结构,导电性能接近块体Al材。通过XPS研究发现,组成薄膜的金属元素和基底中的氧、碳等元素发生了反应。在拉拔试验中,复材基底成分层状脱落,薄膜和复材基底附着完好。说明组成薄膜的Al元素在界面处和基底材料发生反应,形成化学键,提高了附着力。 展开更多
关键词 铝膜 碳纤维复合材料 电弧镀 金属化
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沉积温度及膜厚对离子镀银膜结构及摩擦学性能的影响 被引量:7
17
作者 高晓明 孙嘉奕 +2 位作者 胡明 翁立军 刘维民 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第7期11-14,共4页
采用离子镀在不锈钢和45钢基体表面低温沉积银薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和真空摩擦试验机对低温沉积银膜的晶体结构、表面形貌和摩擦学性能进行了研究。结果表明:银膜的择优取向度随着沉积时间的延长和基体温度的降低... 采用离子镀在不锈钢和45钢基体表面低温沉积银薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和真空摩擦试验机对低温沉积银膜的晶体结构、表面形貌和摩擦学性能进行了研究。结果表明:银膜的择优取向度随着沉积时间的延长和基体温度的降低具有明显变化;在—147℃沉积6min条件下制备的银膜为表层具有(200)择优取向及底层为(111)择优取向的双层结构;银膜在载荷较高时也有较好的摩擦学性能。 展开更多
关键词 银膜 膜厚 基体温度 结构 摩擦磨损
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等离子体增强原子层沉积原理与应用 被引量:7
18
作者 曹燕强 李爱东 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第7期483-490,共8页
等离子体增强原子层沉积(PEALD)是一种低温制备高质量超薄薄膜的有效手段,近年来正受到工业界和学术界广泛的关注。简要介绍了PEALD的发展历史和生长原理。描述了PEALD常见的三种设备构造:自由基增强原子层沉积、直接等离子体沉积和远... 等离子体增强原子层沉积(PEALD)是一种低温制备高质量超薄薄膜的有效手段,近年来正受到工业界和学术界广泛的关注。简要介绍了PEALD的发展历史和生长原理。描述了PEALD常见的三种设备构造:自由基增强原子层沉积、直接等离子体沉积和远程等离子体沉积,比较了它们的优缺点。着重评述了PEALD的特点,主要具有沉积温度低、前驱体和生长材料种类广、工艺控制灵活、薄膜性能优异等优势,但也面临着薄膜三维贴合性下降和等离子体损伤等挑战。列举了PEALD的一些重要应用,如在金属薄膜制备、铜互连阻挡层、高介电常数材料、薄膜封裹等领域的应用。最后展望了PEALD的发展前景。 展开更多
关键词 等离子体 原子层沉积(ALD) 薄膜沉积 金属薄膜 互连阻挡层 高介电材料 薄膜封裹
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上游泵送机械密封润滑膜固体颗粒沉积特性研究 被引量:8
19
作者 陈汇龙 桂铠 +3 位作者 韩婷 谢晓凤 陆俊成 赵斌娟 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期1712-1722,共11页
上游泵送机械密封运行中常因固体颗粒沉积而出现动压槽堵塞失效现象,为了对微间隙润滑膜固体颗粒沉积特性进行研究,建立了密封润滑膜三维几何模型和气液固多相流计算模型,应用Mixture模型和DPM模型模拟研究了不同颗粒直径、转速、介质... 上游泵送机械密封运行中常因固体颗粒沉积而出现动压槽堵塞失效现象,为了对微间隙润滑膜固体颗粒沉积特性进行研究,建立了密封润滑膜三维几何模型和气液固多相流计算模型,应用Mixture模型和DPM模型模拟研究了不同颗粒直径、转速、介质压力、颗粒进口体积分数和润滑膜厚度对固体颗粒沉积特性的影响规律。研究表明:来自润滑膜内径侧固体颗粒的沉积率及沉积区域均与颗粒直径、颗粒进口体积分数、密封工况和润滑膜厚度等参数有关,粒径较小、转速增大、介质压力增大和膜厚减小有利于降低颗粒沉积率;螺旋槽低压区是颗粒沉积的主要部位,且粒径、颗粒进口体积分数、转速和膜厚增大,介质压力降低,使沉积区域明显向外槽根拓展,这是螺旋槽易出现堵塞失效的原因;低转速时易在坝区出现颗粒沉积,非槽区的沉积颗粒呈周向分布。 展开更多
关键词 上游泵送机械密封 润滑膜 固体颗粒 沉积特性 流体力学 多相流 数值模拟
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大气压等离子体制备类二氧化硅薄膜的实验研究 被引量:8
20
作者 程诚 方鹏 +2 位作者 朱晓东 耿松 詹如娟 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期293-296,共4页
本文利用六甲基二硅氧烷(HMDSO)作为硅的先驱粒子,氮或氩气为稀释气体,进行了大气压等离子体化学气相沉积类二氧化硅薄膜的实验研究。运用红外光谱(FTIR)、光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)对沉积的薄膜进行结构和表面分析。实验表明,当... 本文利用六甲基二硅氧烷(HMDSO)作为硅的先驱粒子,氮或氩气为稀释气体,进行了大气压等离子体化学气相沉积类二氧化硅薄膜的实验研究。运用红外光谱(FTIR)、光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)对沉积的薄膜进行结构和表面分析。实验表明,当功率一定时,在低的HMDSO含量下,硅衬底上得到了一层平整、致密、连续的薄膜沉积。红外吸收谱分析呈现出明显的Si-O-Si吸收峰,表明了类二氧化硅结构,其中的[Si]/[O]含量比达到1∶1.56。当HMDSO含量增加时,薄膜中含碳键成分增加,薄膜表面的大颗粒增多。相对地氮气而言,氩气在大气压下更容易获得稳定均匀的等离子体和更大的生长速率/功率比。 展开更多
关键词 大气压等离子体 薄膜沉积
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