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Directed self-assembly of block copolymers for sub-10 nm fabrication 被引量:7
1
作者 Yu Chen Shisheng Xiong 《International Journal of Extreme Manufacturing》 2020年第3期126-159,共34页
Directed self-assembly(DSA)emerges as one of the most promising new patterning techniques for single digit miniaturization and next generation lithography.DSA achieves high-resolution patterning by molecular assembly ... Directed self-assembly(DSA)emerges as one of the most promising new patterning techniques for single digit miniaturization and next generation lithography.DSA achieves high-resolution patterning by molecular assembly that circumvents the diffraction limit of conventional photolithography.Recently,the International Roadmap for Devices and Systems listed DSA as one of the advanced lithography techniques for the fabrication of 3-5 nm technology node devices.DSA can be combined with other lithography techniques,such as extreme ultra violet(EUV)and 193 nm immersion(193i),to further enhance the patterning resolution and the device density.So far,DSA has demonstrated its superior ability for the fabrication of nanoscale devices,such as fin field effect transistor and bit pattern media,offering a variety of configurations for high-density integration and low-cost manufacturing.Over 1 T in-2 device density can be achieved either by direct templating or coupled with nanoimprinting to improve the throughput.The development of high x block copolymer further enhances the patterning resolution of DSA.In addition to its superiority in high-resolution patterning,the implementation ofDSA on a 300 mm pivot line fully demonstrates its potential for large-scale,high-throughput,and cost-effective manufacturing in industrial environment. 展开更多
关键词 directed self-assembly LITHOGRAPHY nanofabrication sub-10 nm block copolymer
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先进光刻技术:导向自组装 被引量:7
2
作者 胡晓华 熊诗圣 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1029-1078,共50页
导向自组装(Directed Self-Assembly,DSA)光刻技术是一种极具发展潜力的新型图形化工艺,已被国际器件与系统路线图(International Roadmap for Devices and Systems,IRDS)列为下一代光刻技术的主要候选方案。DSA光刻技术是基于嵌段共聚... 导向自组装(Directed Self-Assembly,DSA)光刻技术是一种极具发展潜力的新型图形化工艺,已被国际器件与系统路线图(International Roadmap for Devices and Systems,IRDS)列为下一代光刻技术的主要候选方案。DSA光刻技术是基于嵌段共聚物(Block Copolymer,BCP)自组装构建高分辨图案,能够突破传统光学光刻的衍射极限,具有高通量、低成本和延续性好等显著优势,已成为半导体工艺技术中的研发热点。将DSA与其它光刻技术如极紫外(Extreme Ultraviolet,EUV)光刻、深紫外(Deep Ultraviolet,DUV)光刻、紫外光刻和纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography,NIL)等相结合,能极大地提高加工结构的分辨率以及器件的密度。目前,DSA光刻技术已被应用于鳍式场效应晶体管(Fin Field-Effect Transistor,FinFET)、存储器和光电子器件等领域,以期实现高密度集成和高效率低成本制造。本文对DSA光刻技术的原理、材料、工艺、应用以及在工业化进程中所面临的机遇和挑战进行全面的综述。 展开更多
关键词 导向自组装 先进光刻技术 嵌段共聚物
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Engineering Nano/Microscale Chiral Self‑Assembly in 3D Printed Constructs 被引量:1
3
作者 Mohsen Esmaeili Ehsan Akbari +3 位作者 Kyle George Gelareh Rezvan Nader Taheri‑Qazvini Monirosadat Sadati 《Nano-Micro Letters》 SCIE EI CSCD 2024年第3期313-332,共20页
Helical hierarchy found in biomolecules like cellulose,chitin,and collagen underpins the remarkable mechanical strength and vibrant colors observed in living organisms.This study advances the integration of helical/ch... Helical hierarchy found in biomolecules like cellulose,chitin,and collagen underpins the remarkable mechanical strength and vibrant colors observed in living organisms.This study advances the integration of helical/chiral assembly and 3D printing technology,providing precise spatial control over chiral nano/microstructures of rod-shaped colloidal nanoparticles in intricate geometries.We designed reactive chiral inks based on cellulose nanocrystal(CNC)suspensions and acrylamide monomers,enabling the chiral assembly at nano/microscale,beyond the resolution seen in printed materials.We employed a range of complementary techniques including Orthogonal Superposition rheometry and in situ rheo-optic measurements under steady shear rate conditions.These techniques help us to understand the nature of the nonlinear flow behavior of the chiral inks,and directly probe the flow-induced microstructural dynamics and phase transitions at constant shear rates,as well as their post-flow relaxation.Furthermore,we analyzed the photo-curing process to identify key parameters affecting gelation kinetics and structural integrity of the printed object within the supporting bath.These insights into the interplay between the chiral inks self-assembly dynamics,3D printing flow kinematics and photopolymerization kinetics provide a roadmap to direct the out-of-equilibrium arrangement of CNC particles in the 3D printed filaments,ranging from uniform nematic to 3D concentric chiral structures with controlled pitch length,as well as random orientation of chiral domains.Our biomimetic approach can pave the way for the creation of materials with superior mechanical properties or programable photonic responses that arise from 3D nano/microstructure and can be translated into larger scale 3D printed designs. 展开更多
关键词 directed chiral self-assembly Cellulose nanocrystals Bioinspired nanocomposite 3D printing RHEOLOGY
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单一分子量含氟嵌段共聚物的本体及薄膜自组装研究
4
作者 吴海兵 蒋胜喜 +3 位作者 谭睿 刘雨欣 董学会 张正彪 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2024年第2期142-152,共11页
嵌段共聚物导向自组装作为一种自下而上的图案化工艺,受到工业界和学术界的广泛关注.然而,导向自组装中缺陷率与分子参数之间的关系研究尚不清晰.本文工作基于模块化合成策略,利用迭代指数增长法并结合巯基-双键的点击反应成功制备了高... 嵌段共聚物导向自组装作为一种自下而上的图案化工艺,受到工业界和学术界的广泛关注.然而,导向自组装中缺陷率与分子参数之间的关系研究尚不清晰.本文工作基于模块化合成策略,利用迭代指数增长法并结合巯基-双键的点击反应成功制备了高χ低N的单一分子量含氟聚酯嵌段共聚物(oLAn-FPOSS).单一分子量特征可以排除多分散性对自组装行为的影响.本体自组装研究表明聚酯嵌段和含氟嵌段具有强相分离驱动力,可以形成特征尺寸小于10 nm的六方柱状相结构(HEX).在薄膜自组装中,嵌段共聚物经过简单的热退火可以在硅片表面形成平行基底排布的柱状纳米图案.此外,通过对比研究不同链长单一分子量嵌段共聚物的薄膜组装行为,发现随着嵌段共聚物链长的增长薄膜组装图形缺陷率明显下降,初步揭示了薄膜自组装过程中缺陷形成对嵌段共聚物链长的依赖性. 展开更多
关键词 单一分子量高分子 导向自组装 含氟嵌段共聚物 本体及薄膜自组装 光刻
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A Non-parametric Gradient-Based Shape Optimization Approach for Solving Inverse Problems in Directed Self-Assemblyof Block Copolymers
5
作者 Daniil Bochkov Frederic Gibou 《Communications on Applied Mathematics and Computation》 EI 2024年第2期1472-1489,共18页
We consider the inverse problem of finding guiding pattern shapes that result in desired self-assembly morphologies of block copolymer melts.Specifically,we model polymer selfassembly using the self-consistent field t... We consider the inverse problem of finding guiding pattern shapes that result in desired self-assembly morphologies of block copolymer melts.Specifically,we model polymer selfassembly using the self-consistent field theory and derive,in a non-parametric setting,the sensitivity of the dissimilarity between the desired and the actual morphologies to arbitrary perturbations in the guiding pattern shape.The sensitivity is then used for the optimization of the confining pattern shapes such that the dissimilarity between the desired and the actual morphologies is minimized.The efficiency and robustness of the proposed gradient-based algorithm are demonstrated in a number of examples related to templating vertical interconnect accesses(VIA). 展开更多
关键词 Block copolymers directed self-assembly Inverse design Shape optimization Vertical interconnect accesses(VIA)
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导向自组装光刻仿真技术
6
作者 王浩岚 张涛 +1 位作者 熊诗圣 李思坤 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期570-587,共18页
导向自组装(DSA)光刻能够以更低的成本制造集成电路纳米结构,有望将传统光刻拓展应用到更小的工艺节点,是国际器件与系统路线图中列出的主要候选光刻技术之一。嵌段共聚物的导向自组装受引导模板尺寸及形貌、模板对两嵌段亲疏性差异,以... 导向自组装(DSA)光刻能够以更低的成本制造集成电路纳米结构,有望将传统光刻拓展应用到更小的工艺节点,是国际器件与系统路线图中列出的主要候选光刻技术之一。嵌段共聚物的导向自组装受引导模板尺寸及形貌、模板对两嵌段亲疏性差异,以及嵌段共聚物材料化学性质、体积分数等多种参数的影响。通过实验遍历整个参数空间寻找最优工艺条件不仅所需周期长而且成本很高。DSA光刻仿真技术能够预测不同参数条件下的DSA结构,研究缺陷形成的机理,反向设计所需的引导模板和材料,已成为DSA光刻工艺研发与应用过程中不可或缺的关键技术。本文综述了自洽场模型、蒙特卡罗方法、动力学模型、简化模型等常见DSA光刻仿真技术的基本原理及其在DSA光刻中的应用。各仿真技术在计算精度、适用范围和计算速度等方面存在较大不同,需要根据不同的应用场景选择不同的仿真技术。 展开更多
关键词 光刻 导向自组装 嵌段共聚物 仿真技术
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基于卷积运算的嵌段共聚物自组装图像缺陷分析统计方法 被引量:4
7
作者 田昕 赖翰文 +1 位作者 刘亚栋 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1199-1208,共10页
嵌段共聚物引导自组装是制备sub-10 nm尺寸半导体器件的潜在技术方案之一。然而由于缺少高效准确的实验室分析工具,难以对嵌段共聚物自组装/引导自组装的结构进行深入定量分析,特别是对其组装结构的缺陷密度及线边粗糙度等进行定量研究... 嵌段共聚物引导自组装是制备sub-10 nm尺寸半导体器件的潜在技术方案之一。然而由于缺少高效准确的实验室分析工具,难以对嵌段共聚物自组装/引导自组装的结构进行深入定量分析,特别是对其组装结构的缺陷密度及线边粗糙度等进行定量研究。本文参考图形分析中的图像增强算法和模板匹配算法,采用二值化和骨架化算法对嵌段共聚物自组装/引导自组装图像进行处理,构建相应的卷积核并利用卷积运算分析和定位组装结构中的缺陷,并对缺陷密度进行统计。经验证,该算法能够减少噪点对统计结果的影响,区分图像边缘截断所产生的断点和组装缺陷,快速准确地自动统计自组装/引导自组装图像中的端点、分叉和岛缺陷结构。同时对分析所需的图片放大倍率和幅面尺寸极限进行了探索,结果表明嵌段共聚物本征相分离周期与像素尺寸的比值至少为6.69,有效统计嵌段共聚物自组装缺陷所需的视场面积至少为1.5μm^(2)。缺陷分析速度测试表明,本文算法相较于邻近像素判断法快136~147倍。 展开更多
关键词 嵌段共聚物 自组装 引导自组装 卷积 缺陷统计
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Interfacial self-transportation via controlled wettability transition for directed self-assembly
8
作者 Pan Tian Minghui Tan +3 位作者 Guiqiang Zhu Dan Wang Guoxin Lu Mengjiao Cheng 《Chinese Chemical Letters》 SCIE CAS CSCD 2023年第12期491-494,共4页
Wettability transition is a significant responsive mechanism which is widely applied to construct smart materials and systems.The broad-spectrum responsiveness of the wettability transition makes it a promising way to... Wettability transition is a significant responsive mechanism which is widely applied to construct smart materials and systems.The broad-spectrum responsiveness of the wettability transition makes it a promising way to expand innovative applications.Here,we develop a track-guided self-transportation system mediated by sequential wettability transition accompanied with capillary transportation.Alkaline fuel is loaded into polydimethylsiloxane(PDMS)cuboid to trigger the wettability transition of distributed superhydrophobic tracks laid in shallow water.After the wettability transition,the induced capillary force can propel the repetitive track-to-track transportation of PDMS.Importantly,the spacing between adjacent tracks is rationally designed based on multiple factors including threshold of wettability transition,diffusion kinetics and capillary interaction.Furthermore,the track-guided transportation system is applied to realize directed self-assembly of multiple PDMS building blocks for designated configuration,which increases the complexity and intelligence of self-assembly systems. 展开更多
关键词 Wettability transition TRACKS Capillary force self-transportation directed self-assembly
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Unconventional 2D Periodic Nanopatterns Based on Block Molecules
9
作者 Bo Hou Wen-Bin Zhang Yu Shao 《Chinese Journal of Polymer Science》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第10期1508-1524,共17页
This review summarizes the self-assembly of block molecules forming unconventional two-dimensional(2D)periodic nanopatterns.Especially,we emphasize the structural evolution from simple columnar phases to complex 2D ti... This review summarizes the self-assembly of block molecules forming unconventional two-dimensional(2D)periodic nanopatterns.Especially,we emphasize the structural evolution from simple columnar phases to complex 2D tiling morphologies in soft materials including block copolymers,liquid crystals,giant molecules,etc.Then,the state-of-the-art nanofabrication technologies for making sophisticated nanostructures with specific functions via combining both bottom-up assembly and top-down lithography-based methods are discussed,highlighting the use of directed self-assembly processes.Finally,we provide our perspective on this area.By further increasing the complexity of block molecules and the designability of lithography,low-dimensional ordered morphologies will be particularly promising for further application in nanotechnology. 展开更多
关键词 Two-dimensional ordered morphologies Block molecules directed self-assembly Nanofabrication Tilings and patterns
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先进嵌段共聚物光刻胶设计
10
作者 陈蕾蕾 陶永鑫 +3 位作者 胡欣 冯宏博 朱宁 郭凯 《化学进展》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2023年第11期1613-1624,共12页
嵌段共聚物光刻胶引导自组装是先进制程半导体制造的候选方案之一。第一代嵌段共聚物光刻胶的典型代表是聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯二嵌段共聚物,受限于自身较低的相互作用参数(χ),最小半周期(0.5L0)为11 nm。第二代嵌段共聚物光刻胶... 嵌段共聚物光刻胶引导自组装是先进制程半导体制造的候选方案之一。第一代嵌段共聚物光刻胶的典型代表是聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯二嵌段共聚物,受限于自身较低的相互作用参数(χ),最小半周期(0.5L0)为11 nm。第二代嵌段共聚物光刻胶的特征是具有高相互作用参数(实现10 nm以下图案化),但是由于两个嵌段的表面能(γ)差异较大,需要引入额外的溶剂退火或者涂层工艺。为了解决上述问题,国内外学者发展了第三代嵌段共聚物光刻胶,不仅具有较高的相互作用参数,还具有接近的表面能(高χ近γ),适用于工业友好的热退火工艺引导自组装。最近,基于材料基因组计划概念,将多种共变特性赋予单一材料的第四代嵌段共聚物光刻胶问世,可以实现高通量合成建立嵌段共聚物库,通过调控χ和χN满足不同的应用场景(0.5L0=4~10 nm),还可以免除热退火工艺中涂覆中性层步骤,简化了工艺流程。本文总结了第三代和第四代先进嵌段共聚物光刻胶的设计,并且对相关领域存在的挑战与机遇进行了探讨和展望。 展开更多
关键词 嵌段共聚物 引导自组装 光刻 相互作用参数 表面能
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嵌段共聚物的导向自组装 被引量:3
11
作者 王倩倩 吴立萍 +1 位作者 王菁 王力元 《化学进展》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2017年第4期435-442,共8页
嵌段共聚物由于其在纳米尺度的自组装能力,通过在薄膜中的自组装可以得到特征尺寸小于10nm的周期性图形结构,近年来被广泛研究。导向自组装(Directed Self-Assembly,DSA)充分利用了嵌段共聚物在薄膜中进行自组装的优点,将"自下而上... 嵌段共聚物由于其在纳米尺度的自组装能力,通过在薄膜中的自组装可以得到特征尺寸小于10nm的周期性图形结构,近年来被广泛研究。导向自组装(Directed Self-Assembly,DSA)充分利用了嵌段共聚物在薄膜中进行自组装的优点,将"自下而上"的嵌段共聚物薄膜自组装技术和"自上而下"的光学光刻或电子束光刻等制备导向图形的技术结合起来。嵌段共聚物通过分子设计可得到层状、柱状、孔洞状等形貌多样的纳米结构。光刻模板表面的化学不均匀性使得嵌段共聚物和基底表面之间的相互作用可控,从而引导嵌段共聚物薄膜在一定的空间取向上定向排列。目前在导向自组装中常用的两种方法有直接在基底表面通过光刻制得前图形模板的制图外延法(几何控制)和基于对光刻模板表面进行化学修饰比如在模板表面接枝上一层中性层材料,从而通过化学诱导实现嵌段共聚物的定向自组装的化学外延法(化学控制)。导向自组装技术通过对微相结构的裁剪、表面修饰和尺寸控制,可以得到特征尺寸更小、密度更大、有序性更好的纳米图形,正逐渐成为最有前途的先进光刻技术方法之一。 展开更多
关键词 导向自组装 嵌段共聚物 光刻 分辨率 制图外延 化学外延
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基于壳聚糖的生物组装技术及应用研究进展 被引量:2
12
作者 孟范平 张爱静 《生物工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期665-671,共7页
壳聚糖是一种具有良好生物相容性、独特pH值响应性、易改性和易成膜特性的高分子材料。在生物组装技术中,壳聚糖可作为多功能活性介体,与生物组分和微加工装置连接,制成高选择性、高灵敏度的生物微机电系统(BioMEMS)。以下介绍了基于壳... 壳聚糖是一种具有良好生物相容性、独特pH值响应性、易改性和易成膜特性的高分子材料。在生物组装技术中,壳聚糖可作为多功能活性介体,与生物组分和微加工装置连接,制成高选择性、高灵敏度的生物微机电系统(BioMEMS)。以下介绍了基于壳聚糖的3种生物组装技术——定向组装、酶促组装、自组装的制备原理和过程,评述了基于壳聚糖的BioMEMS在生物、医学、环境领域中的应用现状,并展望了今后的研究方向。 展开更多
关键词 定向组装 酶促组装 自组装 生物微机电系统 界面材料
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From a mononuclear FeL_(2)complex to a Fe_(4)L_(4)molecular square:Designed assembly and spin-crossover property 被引量:2
13
作者 Zhuo Wang Li-Peng Zhou +2 位作者 Li-Xuan Cai Chong-Bin Tian Qing-Fu Sun 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第2期398-403,共6页
By introduction of a new Fe(L^(1))_(2)spin-crossover(SCO)unit into the polynuclear system,a nano-scale Fe4(L^(2))_(4)molecular square architecture is designed through coordination-directed self-assembly strategy.Both ... By introduction of a new Fe(L^(1))_(2)spin-crossover(SCO)unit into the polynuclear system,a nano-scale Fe4(L^(2))_(4)molecular square architecture is designed through coordination-directed self-assembly strategy.Both the mononuclear Fe(L^(1))_(2)and tetranuclear Fe4(L^(2))_(4)complexes have bee门structurally confirmed by 1H nuclear magnetic resonance(NMR),electrospray ionization time-of-flight mass spectrometry(ESI-TOF-MS),and temperature-dependent single crystal X-ray diffraction studies.Variable-temperature magnetic susceptibility measurements reveal the presence of an abrupt SCO behavior with a thermal hysteresis width of 4K for Fe(L^(1))_(2).By clear contrast,Fe4(L^(2))_(4)undergoes a gradual spin transition behavior with enlarged thermal hysteresis width and higher spin transition temperature. 展开更多
关键词 spin-crossover compound molecular square iron coordination-directed self-assembly supram olecular chem istry
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Preparation of Long-range Ordered Nanostructures in Semicrystalline Diblock Copolymer Thin Films Using Micromolding
14
作者 Peng Zhang Hai-ying Huang +5 位作者 Yu Chen Shun Yu Christina Krywka Sarathlal K.Vayalil Stephan V.Roth 何天白 《Chinese Journal of Polymer Science》 SCIE CAS CSCD 2014年第9期1188-1198,共11页
Long-range ordered nanostructures are prepared in the poly(styrene)-block-poly(e-caprolactone) diblock copolymer thin films using micromolding. We evaluated the change in crystallinity based on grazing-incidence X... Long-range ordered nanostructures are prepared in the poly(styrene)-block-poly(e-caprolactone) diblock copolymer thin films using micromolding. We evaluated the change in crystallinity based on grazing-incidence X-ray diffraction and proved that the crystallinity increased with the decrease of the mold size. This means that ordered nanostructures with atomic length scale order can be adjusted by tuning the mesoscale confinement. The inherent mechanism was the cooperation of geometric confinement, microphase structure and surface-induced ordering of PS-b-PCL in the melt, which paved the way for the subsequent crystal growth. These findings establish a route to promote the cost-effective nanofabrication by combining the mature microfabrication technique with the emerging directed self-assembly of block copolymers. 展开更多
关键词 Long-range ordered nanostructure directed self-assembly Surface-induced ordering X-ray.
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柱状相聚苯乙烯-b-聚乳酸的合成及引导组装 被引量:1
15
作者 张潇飒 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2018年第12期1420-1426,共7页
设计并合成了2种柱状相结构的聚苯乙烯-b-聚乳酸(PS-b-PLA)两嵌段共聚物,并表征了它们在化学图案上的引导自组装行为。在辛酸亚锡(Sn(Oct)_2)催化下,采用羟基官能化的聚苯乙烯(PS-OH)大分子引发剂分别引发外消旋丙交酯(rac-LA)和左旋丙... 设计并合成了2种柱状相结构的聚苯乙烯-b-聚乳酸(PS-b-PLA)两嵌段共聚物,并表征了它们在化学图案上的引导自组装行为。在辛酸亚锡(Sn(Oct)_2)催化下,采用羟基官能化的聚苯乙烯(PS-OH)大分子引发剂分别引发外消旋丙交酯(rac-LA)和左旋丙交酯(L-LA)开环聚合,制备了两个相对分子质量相近但构型不同的PS-b-PLA:PS-b-PDLLA和PS-b-PLLA。通过核磁共振波谱仪(NMR)、凝胶渗透色谱仪(GPC)、示差扫描量热仪(DSC)、热重分析仪(TGA)、小角X射线衍射仪(SAXS)等测试手段对两个嵌段共聚物的性质进行了表征。然后,将PS-b-PDLLA和PS-b-PLLA薄膜在六方点阵化学图案模板上加热引导自组装,得到长程有序排列的六方柱状相结构。相对于柱状相的PS-b-PLLA,柱状相的PS-b-PDLLA具有较大的拉伸比例,可以在更大的周期范围内组装出规整的六方结构。这一结果与层状相PS-b-PDLLA和PS-b-PLLA薄膜在线性化学图案上组装的结果相似。 展开更多
关键词 聚苯乙烯-b-聚乳酸 两嵌段共聚物 引导组装 化学图案
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杂多酸离子电荷导向的银(Ⅰ)与含桥式配位的2,2′-联吡啶配合物的自组装 被引量:1
16
作者 周景茹 任艳平 +3 位作者 孔祥建 龙腊生 黄荣彬 郑兰荪 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期802-812,共11页
水热条件下合成了2,2′-联吡啶(2,2′-bipyridine=2,2′-bipy)与Ag(I)及PW12O403-,SiW12O404-形成的配合物{[Ag3(2,2′-bipy)4(PW12O40)]·2H2O}n(1),{[Ag4(2,2′-bipy)6](SiW12O40)}n(2)和{[Ag2(2,2′-bipy)3]2(SiW12O40)}n(3).通... 水热条件下合成了2,2′-联吡啶(2,2′-bipyridine=2,2′-bipy)与Ag(I)及PW12O403-,SiW12O404-形成的配合物{[Ag3(2,2′-bipy)4(PW12O40)]·2H2O}n(1),{[Ag4(2,2′-bipy)6](SiW12O40)}n(2)和{[Ag2(2,2′-bipy)3]2(SiW12O40)}n(3).通过元素分析和红外光谱、X-射线单晶衍射对其组成和结构进行了表征.晶体结构分析结果表明:产物的结构是由多酸离子的电荷调控的;并发现这3种配合物中都存在2,2′-bipy的桥式配位模式;本研究详细总结和探讨了2,2′-bipy的桥式配位模式存在的体系及其可能原因. 展开更多
关键词 2 2'-联吡啶 桥式配位 多酸离子电荷导向 自组装 晶体结构
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图案化金属铜膜的SIAD法自组装制备 被引量:1
17
作者 李星星 蒋美萍 +1 位作者 朱贤方 苏江滨 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第18期1764-1768,共5页
利用新发展的小入射角沉积(SIAD)技术在玻璃衬底上自组装制备了图案化金属铜膜.利用金相显微镜(MM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)/选区电子衍射(SAED)/能量弥散X射线光谱仪(EDX)以及X射线衍射仪(XRD)等技术对所制备的图... 利用新发展的小入射角沉积(SIAD)技术在玻璃衬底上自组装制备了图案化金属铜膜.利用金相显微镜(MM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)/选区电子衍射(SAED)/能量弥散X射线光谱仪(EDX)以及X射线衍射仪(XRD)等技术对所制备的图案化金属铜膜进行了表征.通过分析对比SIAD和垂直入射沉积(NID)铜沉积物的形貌和结构差异,揭示了图案化金属铜膜的形成机理. 展开更多
关键词 图案化金属铜膜 小入射角沉积(SIAD) 定向压应力 层-线状生长 自组装制备
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一种具有定向自组装功能的拟蛛丝蛋白在大肠杆菌中的表达 被引量:1
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作者 李光燊 王涛 +2 位作者 肖丽艳 李云 刘斌 《中国医药工业杂志》 CAS CSCD 北大核心 2018年第10期1404-1410,共7页
蛛丝蛋白具有良好的生物相容性和生物可降解性,令其在生物医学材料如药物控释载体、手术缝合线、细胞培养支架、器官移植等方面的应用研究越来越广,但采用传统基因重组技术表达的重组蛛丝蛋白存在相对分子质量偏小、不具有分子取向等缺... 蛛丝蛋白具有良好的生物相容性和生物可降解性,令其在生物医学材料如药物控释载体、手术缝合线、细胞培养支架、器官移植等方面的应用研究越来越广,但采用传统基因重组技术表达的重组蛛丝蛋白存在相对分子质量偏小、不具有分子取向等缺陷,使得用这种重组蛛丝蛋白纺制的丝纤维的力学性能不能令人满意。本研究利用大肠杆菌表达一种由蛛丝蛋白和类胶原蛋白融合构成的拟蛛丝蛋白,其为"ABA"型三嵌段共聚物,两端(A段)为(Pro-Gly-Pro)n同聚体延伸段,可定向形成胶原三螺旋结构,中间(B段)为优化设计的蛛丝蛋白。利用三嵌段共聚物定向自组装形成超分子的特性,确保人工蛛丝纤维对相对分子质量的要求,也赋予拟蛛丝蛋白确定的分子取向,促进丝纤维的形成。本研究利用一对同尾酶,对拟蛛丝蛋白单体基因及类胶原蛋白基因进行同向重复串联,构建含拟蛛丝蛋白基因载体,最终在大肠杆菌中实现成功表达。 展开更多
关键词 拟蛛丝蛋白 定向自组装 大肠杆菌 类胶原蛋白
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三重图样光刻与定向自组装技术下通孔层的分解
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作者 李兴权 吴莉莉 朱文兴 《福州大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2019年第4期441-446,共6页
针对三重图样光刻和定向自组装技术下通孔层的掩模版和引导槽分配问题,首先为给定版图构造一个加权冲突分组图;然后,基于加权冲突分组图提出一个整数线性规划模型.同时,为了加快整数规划的求解速度,引入一些有效的不等式将一些不好的结... 针对三重图样光刻和定向自组装技术下通孔层的掩模版和引导槽分配问题,首先为给定版图构造一个加权冲突分组图;然后,基于加权冲突分组图提出一个整数线性规划模型.同时,为了加快整数规划的求解速度,引入一些有效的不等式将一些不好的结果剪枝掉.对比当前相关工作,基于整数规划的方法可以减少42倍的冲突数目和78%的总成本. 展开更多
关键词 掩模版 引导槽 分配 定向自组装 三重图样光刻 冲突 成本
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先进光刻材料 被引量:5
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作者 李自力 徐兴冉 +3 位作者 湛江浩 胡晓华 张子英 熊诗圣 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期859-870,共12页
随着半导体产业的技术发展与进步,芯片制造在摩尔定律的推动下也在不断向先进工艺节点推进。与此同时,我们迫切需要开发与之相匹配的光刻材料来满足光刻图形化的快速发展需求。本文从光刻材料的成分和性能出发,介绍了光刻图形化技术所... 随着半导体产业的技术发展与进步,芯片制造在摩尔定律的推动下也在不断向先进工艺节点推进。与此同时,我们迫切需要开发与之相匹配的光刻材料来满足光刻图形化的快速发展需求。本文从光刻材料的成分和性能出发,介绍了光刻图形化技术所用的从紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光胶、共轭聚合物光刻材料到导向自组装光刻材料,分析了光刻材料的发展现状,最后总结全文并对国内光刻材料的未来发展趋势进行展望。 展开更多
关键词 先进光刻技术 导向自组装光刻 光刻胶 共轭聚合物光刻材料 化学放大胶
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