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多弧离子镀(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜的制备及力学性能研究 被引量:10
1
作者 崔贯英 张钧 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期329-333,共5页
采用多弧离子镀技术并使用合金靶Ti-Al-Zr制备(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜。利用扫描电镜、X衍射仪对(Ti,Al,Zr)N膜层表面、断面形貌、成分、结构进行观察测定;系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Zr)N膜层质量、膜/基附着力和硬度的影响;并对... 采用多弧离子镀技术并使用合金靶Ti-Al-Zr制备(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜。利用扫描电镜、X衍射仪对(Ti,Al,Zr)N膜层表面、断面形貌、成分、结构进行观察测定;系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Zr)N膜层质量、膜/基附着力和硬度的影响;并对膜层抗热震性进行了研究。通过与TiN,(Ti,Al)N,(Ti,Zr)N等硬质膜进行比较,发现采用Ti-Al-Zr合金靶制备的(Ti,Al,Zr)N多元梯度膜有更高的硬度和膜/基附着力,硬度可达4000 HV,实现了从硬质膜到超硬膜的转变;膜/基附着力大于200 N,同时对沉积工艺有较强的适应性。 展开更多
关键词 (Ti al Zr)N梯度膜 多弧离子镀 显微硬度 热震 合金靶
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采用EBSD方法研究高纯Al溅射靶材的微观结构 被引量:6
2
作者 张皓琨 刘丹敏 +2 位作者 李洪宾 段丹青 江轩 《电子显微学报》 CAS CSCD 2008年第6期491-494,共4页
高纯Al溅射靶材在电子信息产品制造业有着广泛应用。微观结构与组织的均匀性、晶粒尺寸和取向分布对高纯Al溅射靶材的性能有很大的影响。本文采用EBSD技术对高纯Al溅射靶材的晶粒取向分布进行了分析,探索了晶粒取向与溅射速率关系,并采... 高纯Al溅射靶材在电子信息产品制造业有着广泛应用。微观结构与组织的均匀性、晶粒尺寸和取向分布对高纯Al溅射靶材的性能有很大的影响。本文采用EBSD技术对高纯Al溅射靶材的晶粒取向分布进行了分析,探索了晶粒取向与溅射速率关系,并采用EBSD大面积扫描对高纯Al溅射靶材的晶粒尺寸及微观结构与组织均匀性进行了研究。 展开更多
关键词 高纯al 靶材 晶粒取向 EBSD
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多弧离子镀(Ti,Al,Cr)N硬质膜的沉积工艺与力学性能 被引量:5
3
作者 王闯 张钧 《微细加工技术》 2008年第5期16-18,34,共4页
采用多弧离子镀技术并使用合金靶制备(Ti,Al,Cr)N多组元硬质膜。利用扫描电镜、X射线衍射仪对(Ti,Al,Cr)N膜层表面及断面形貌、成分、结构等进行观察测定,系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Cr)N膜层质量、硬度、膜/基结合力的影响,通过与Ti N... 采用多弧离子镀技术并使用合金靶制备(Ti,Al,Cr)N多组元硬质膜。利用扫描电镜、X射线衍射仪对(Ti,Al,Cr)N膜层表面及断面形貌、成分、结构等进行观察测定,系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Cr)N膜层质量、硬度、膜/基结合力的影响,通过与Ti N,(Ti,Al)N和(Ti,Cr)N等硬质膜进行比较,发现采用Ti-Al-Cr合金靶所制备的(Ti,Al,Cr)N硬质膜具有更高的硬度和更好的附着力,同时对沉积工艺有较强的适应性。 展开更多
关键词 (Ti al Cr)N硬质膜 多弧离子镀 显微硬度 附着力 合金靶
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Finite-temperature ductility-brittleness and electronic structures of Al_(n)Sc(n=1,2 and 3)
4
作者 Xue-Qian Wang Ying Zhao +9 位作者 Hao-Xuan Liu Shu-Chen Sun Hong-Bo Yang Jia-Min Zhong Gan-Feng Tu Song Li Yu-Dong Zhang Claude Esling Hai-Le Yan Liang Zuo 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第8期3974-3989,共16页
Finite-temperature ductility-brittleness and electronic structures of Al_(3)Sc,Al_(2)Sc and AlSc are studied comparatively by first-principles calculations and ab initio molecular dynamics.Results show that Al_(3)Sc a... Finite-temperature ductility-brittleness and electronic structures of Al_(3)Sc,Al_(2)Sc and AlSc are studied comparatively by first-principles calculations and ab initio molecular dynamics.Results show that Al_(3)Sc and Al_(2)Sc are brittle at both ground state and finite temperatures,while AlSc possesses a significantly superior ductility.At ground state,AlSc is ductile from Pugh's and Poisson's criteria,while it is brittle in Pettifor's model.The ductility of all Al_(3)Sc,Al_(2)Sc and AISc improves greatly with the elevated temperature.Especially,the Cauchy pressure of AlSc undergoes a transition from negative to positive.At T>600 K,AlSc is unequivocally classified as ductile from all criteria considered.In all compounds,the Al-Al bond originated from s-p and p-p orbital hybridizations,and the Al-Sc bond dominated by p-d covalent hybridization,are the first and second strongest chemical bonds,respectively.To explain the difference in mechanical properties,the mean bond strength(MBS)is introduced in this work.The weaker Al-Al bond in AlSc,leading to a smaller MBS,could be the origin of the softer elastic stiffness and superior intrinsic ductility.The longer length of the Al-Al bond in AlSc is responsible for its weaker bond strength.Furthermore,the enhanced metallicity of the Al-Al bond in AlSc would also contribute to its exceptional ductility.The longer length of the Al-Al bond in AISc is responsible for its weaker bond strength.Furthermore,the enhanced metallicity of the Al-Al bond in AlSc would also contribute to its exceptional ductility. 展开更多
关键词 al-Sc target materials Intrinsic ductility Finite-temperature elastic constant First-principles calculation
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Al中间层和Ni(V)过渡层对Co/Al/Cu三明治结构靶材背板组件焊接残余应力的影响 被引量:1
5
作者 姜霖 张亮 刘志权 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第10期1433-1440,共8页
针对靶材背板扩散焊Co/Al/Cu三明治结构,采用有限元法研究了Al中间层和Ni(V)过渡层对其焊接残余应力的影响。结果表明,Al中间层的存在,不仅能使扩散焊过程更容易进行,降低扩散焊温度,同时也能缓解焊接残余应力,使靶材背板扩散焊组件最... 针对靶材背板扩散焊Co/Al/Cu三明治结构,采用有限元法研究了Al中间层和Ni(V)过渡层对其焊接残余应力的影响。结果表明,Al中间层的存在,不仅能使扩散焊过程更容易进行,降低扩散焊温度,同时也能缓解焊接残余应力,使靶材背板扩散焊组件最大残余应力从142 MPa降低到126 MPa,最大残余应力的位置也从靶材外边缘和背板的界面处变为靠近靶材中心和Co/Al界面处,并且存在厚度为7 mm的最优中间层。Ni(V)过渡层的存在虽然能够抑制Co/Al和Cu/Al界面处脆性金属间化合物的生成,但同时也使焊接残余应力增大,并且只在Co/Al界面处添加Ni(V)过渡层时残余应力的增大程度小于在Co/Al和Cu/Al界面处都添加Ni(V)过渡层时的残余应力的增大程度。 展开更多
关键词 扩散焊 al中间层 Ni(V)过渡层 焊接残余应力 Co靶材 有限元模拟
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高钪含量铝钪合金的组织与性能 被引量:1
6
作者 文康 刘华 +4 位作者 黄美松 周煌 樊玉川 刘维 张闻扬 《湖南有色金属》 2021年第6期45-48,共4页
采用真空悬浮感应熔炼炉制备含钪20%的铝钪二元合金,并对比浇注和水冷铜坩埚中随炉冷却两种成型方法所制得铸锭的成分均匀性,从而确定合金铸锭的最佳成型方式。采用金相显微镜、X射线衍射(XRD)仪对Al-20%Sc合金铸锭的物相组成和晶粒组... 采用真空悬浮感应熔炼炉制备含钪20%的铝钪二元合金,并对比浇注和水冷铜坩埚中随炉冷却两种成型方法所制得铸锭的成分均匀性,从而确定合金铸锭的最佳成型方式。采用金相显微镜、X射线衍射(XRD)仪对Al-20%Sc合金铸锭的物相组成和晶粒组织进行分析,并通过扫描电子显微镜(SEM),结合能谱,对热锻后Al-20%Sc合金中第二相的分布情况及成分进行表征和分析。 展开更多
关键词 铝合金 铝钪合金 al3 Sc 靶材
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脉冲紫外激光和X射线辐照Al靶冲量耦合的异同性 被引量:1
7
作者 王玉恒 赵学庆 +2 位作者 谭晓莉 刘峰 丁升 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期463-469,共7页
为了探索不同脉冲束辐照热-力学效应的相似性关系,同时为实验室开展激光模拟X射线热力学效应研究提供参考,分析了脉冲紫外激光(0.308μm)和X射线辐照Al靶喷射冲量的异同性。首先,对二者辐照热-力学效应机理的异同性进行了比较;其次,理... 为了探索不同脉冲束辐照热-力学效应的相似性关系,同时为实验室开展激光模拟X射线热力学效应研究提供参考,分析了脉冲紫外激光(0.308μm)和X射线辐照Al靶喷射冲量的异同性。首先,对二者辐照热-力学效应机理的异同性进行了比较;其次,理论和实验研究了两种脉冲束辐照Al靶引起的喷射冲量,对较低能注量(小于100 J/cm2)条件下两种脉冲束产生喷射冲量的大小进行了对比。研究结果表明,在低能量密度条件下(小于100 J/cm2)由于没有等离子体屏蔽现象,两种脉冲束辐照靶材产生喷射冲量的机理近似。相同能注量条件下,激光与X射线辐照Al靶产生的喷射冲量具有相同的数量级,均小于102。两种脉冲束在一定范围内具有一定的可比性。 展开更多
关键词 脉冲紫外激光 X射线 铝靶 热-力学效应 喷射冲量 异同性
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飞秒激光辐照铝靶产生快电子发射的实验和模拟研究 被引量:1
8
作者 蔡达锋 谷渝秋 +2 位作者 郑志坚 周维民 王剑 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期488-493,共6页
采用实验和数值模拟研究了飞秒激光辐照铝靶产生的快电子发射.实验中,在主脉冲前加上一个预脉冲产生预等离子体,然后主脉冲与预等离子体作用产生快电子.在激光反射方向附近,实验测量的快电子束发射与数值模拟的结果高度地一致;在靶背面... 采用实验和数值模拟研究了飞秒激光辐照铝靶产生的快电子发射.实验中,在主脉冲前加上一个预脉冲产生预等离子体,然后主脉冲与预等离子体作用产生快电子.在激光反射方向附近,实验测量的快电子束发射与数值模拟的结果高度地一致;在靶背面,发射的快电子的数目小于数值模拟的结果,原因在于快电子在靶内输运受到电荷分离场和碰撞的影响;在数值模拟中未出现的,沿靶表面发射的快电子束,是由表面准静态电磁场的禁闭效应产生. 展开更多
关键词 飞秒激光 铝靶 快电子 发射 研究
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射流圆孔靶的制备和靶参数测量
9
作者 叶君建 何钜华 +2 位作者 谢志勇 王琛 傅思祖 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期999-1002,共4页
介绍了X射线激光射流实验中Al和CH两种射流圆孔靶的制备方法。分别采用精密机械和皮秒激光加工工艺在Al和CH薄膜上制备精密、微小的圆孔,再通过精密装配的方法获得射流圆孔靶。使用白光干涉仪和小型量测仪对射流圆孔靶进行靶参数测量,... 介绍了X射线激光射流实验中Al和CH两种射流圆孔靶的制备方法。分别采用精密机械和皮秒激光加工工艺在Al和CH薄膜上制备精密、微小的圆孔,再通过精密装配的方法获得射流圆孔靶。使用白光干涉仪和小型量测仪对射流圆孔靶进行靶参数测量,测量图像和数据表明,Al和CH薄膜圆孔的孔径较圆且两面大小一致性较好,靶的两层薄膜分界面清晰且连接紧密。 展开更多
关键词 射流 al 圆孔靶
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靶电流对氮化硅陶瓷刀具表面(Ti,Al,Zr)N涂层微观结构和性能的影响
10
作者 李安琼 伍尚华 +2 位作者 曾俊杰 蒋强国 古尚贤 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第S1期697-701,共5页
采用多弧离子镀工艺,以Al Ti合金靶和Zr单质靶为组合,通过改变AlTi靶电流,在氮化硅陶瓷刀具表面制备了一组(Ti,Al,Zr)N涂层。分别采用扫描电镜(SEM)、纳米压痕和纳米划痕研究AlTi靶电流对(Ti,Al,Zr)N涂层形貌和结构、硬度和涂层/氮化硅... 采用多弧离子镀工艺,以Al Ti合金靶和Zr单质靶为组合,通过改变AlTi靶电流,在氮化硅陶瓷刀具表面制备了一组(Ti,Al,Zr)N涂层。分别采用扫描电镜(SEM)、纳米压痕和纳米划痕研究AlTi靶电流对(Ti,Al,Zr)N涂层形貌和结构、硬度和涂层/氮化硅陶瓷刀具基体结合力的影响。实验结果表明,随着涂层沉积过程中Al Ti靶电流的增加,(Ti,Al,Zr)N涂层表面大颗粒数量先增加后减少;涂层厚度增加;涂层硬度和膜基结合力先升高后降低。最后,对涂层氮化硅陶瓷刀具进行高速干车削铸铁实验,研究Al Ti靶电流对(Ti,Al,Zr)N涂层氮化硅陶瓷刀具切削性能、磨损机理和切削寿命的影响,评估涂层刀具切削性能。 展开更多
关键词 靶电流 氮化硅陶瓷刀具 (Ti al Zr)N涂层 微观结构 力学性能
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激光烧蚀Al靶产生的等离子体中辐射粒子的速度及激波 被引量:21
11
作者 张树东 张为俊 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期1512-1516,共5页
在低真空条件下 (5Pa) ,通过测量脉冲激光烧蚀平面Al靶产生的等离子体辐射谱的时间分辨特征 ,得到辐射粒子速度的空间分布 .在激光脉冲宽度为 10ns,烧蚀斑直径为 2 0 0 μm ,靶面上功率密度分别为 1.91× 10 1 0 ,5 .10×10 1 0... 在低真空条件下 (5Pa) ,通过测量脉冲激光烧蚀平面Al靶产生的等离子体辐射谱的时间分辨特征 ,得到辐射粒子速度的空间分布 .在激光脉冲宽度为 10ns,烧蚀斑直径为 2 0 0 μm ,靶面上功率密度分别为 1.91× 10 1 0 ,5 .10×10 1 0 和 7.6 4× 10 1 0 W cm2 时 ,测得辐射粒子Al的速度均在 10 6 cm s量级 ,且随着靶面径向距离的增大而近似呈指数衰减 .在距靶面的相同距离处 ,激光功率密度的增大反而使速度减小 .利用激波模型 (shockwavemodel)较好地解释了实验结果 。 展开更多
关键词 激光等离子体 平面al 粒子速度分布 激波 激光烧蚀
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射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究 被引量:14
12
作者 何欣 杨会生 +4 位作者 王燕斌 熊小涛 乔利杰 瞿春燕 杨建军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期142-146,共5页
采用射频磁控溅射,用Al靶和Ti靶同时溅射沉积(Ti,Al)N薄膜。研究表明:不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构(B1型),当Al靶功率大于250 W薄膜中面心立方结构(B1型)和六方结构(B4型)共存。随Al成分的增加,B1型结构晶格常数减小,... 采用射频磁控溅射,用Al靶和Ti靶同时溅射沉积(Ti,Al)N薄膜。研究表明:不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构(B1型),当Al靶功率大于250 W薄膜中面心立方结构(B1型)和六方结构(B4型)共存。随Al成分的增加,B1型结构晶格常数减小,薄膜择优取向由B1型(111)向B4型(002)转变。薄膜表面随Al靶功率增加分别呈岛状、纤维状和柱状增长。(Ti,Al)N薄膜的硬度随Al靶功率的增加呈上升趋势。等离子体发射光谱分析显示,在相同工艺条件下Al靶比Ti靶先进入非金属态溅射模式,导致在相同功率下Al溅射速率低于Ti溅射速率。 展开更多
关键词 磁控溅射 (Ti al)N薄膜 硬度 等离子体发射光谱
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用纳米Al_2O_3制备超高致密度ZAO靶材 被引量:8
13
作者 范锦鹏 赵大庆 +1 位作者 吴敏生 董民超 《粉末冶金技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期44-47,共4页
将ZAO原料粉体中的Al2 O3 粒子的粒径降低到纳米级别后 ,通过无压烧结即可获得超高致密度的ZAO陶瓷靶材 (相对密度高于 99 0 % )。致密度大大提高的原因在于 ,Al2 O3 粒子粒径降到纳米级后 ,比表面积和粒子数目都大大增加 ,从而实现坯... 将ZAO原料粉体中的Al2 O3 粒子的粒径降低到纳米级别后 ,通过无压烧结即可获得超高致密度的ZAO陶瓷靶材 (相对密度高于 99 0 % )。致密度大大提高的原因在于 ,Al2 O3 粒子粒径降到纳米级后 ,比表面积和粒子数目都大大增加 ,从而实现坯体同步均匀的烧结 ,避免了大气孔的产生。 展开更多
关键词 纳米级 致密度 无压烧结 粒径 纳米al2O3 靶材 制备 气孔 粒子 比表面积
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纳米金属间化合物Cu_4Al的制备及其结构表征 被引量:8
14
作者 韦建军 唐永建 +2 位作者 李朝阳 吴卫东 杨向东 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2003年第4期381-384,共4页
采用自悬浮定向流法制备了Cu-Al合金纳米复合微粒,对样品进行TEM和XRD分析表明该纳米复合微粒主要由纳米金属间化合物Cu_4Al构成,粒径分布在30-50nm之间,并结合自悬浮定向流技术的基本原理对制备过程和形成机理进行了初步研究。同时,对... 采用自悬浮定向流法制备了Cu-Al合金纳米复合微粒,对样品进行TEM和XRD分析表明该纳米复合微粒主要由纳米金属间化合物Cu_4Al构成,粒径分布在30-50nm之间,并结合自悬浮定向流技术的基本原理对制备过程和形成机理进行了初步研究。同时,对自悬浮定向流法制备纳米复合微粒的一般规律进行了预测。 展开更多
关键词 CU-al合金 纳米复合微粒 自悬浮定向流法 ICF靶材料 TEM XRD 制备 结构表征 金属间化合物
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铝铜合金靶材的微观结构对溅射沉积性能的影响 被引量:8
15
作者 李洪宾 江轩 王欣平 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期442-445,共4页
磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜,节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数目的晶圆。通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的晶粒取向和晶粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响。实验结果显示,溅射速率与... 磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜,节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数目的晶圆。通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的晶粒取向和晶粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响。实验结果显示,溅射速率与靶材的原子密排度成正比关系,靶材的原子密排度受晶粒取向和晶粒尺寸的影响,有特定的变化范围,因此溅射速率也只在一个范围内变化。沉积速率和沉积效率受靶材表面空间内原子密排方向分布的影响,原子密排方向分布则由靶材的晶粒取向和晶粒尺寸决定。 展开更多
关键词 铝铜合金靶材 微观结构 沉积速率 沉积效率
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气压对激光烧蚀Al等离子体中粒子速度的影响 被引量:6
16
作者 张树东 陈冠英 +1 位作者 刘亚楠 董晨钟 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期206-208,共3页
在背景气压为 8× 10 - 3 — 10 0Pa范围内 ,通过测量脉冲激光烧蚀平面Al靶产生的等离子体辐射谱的时间分辨特征 ,比较空间不同点辐射的飞行时间轮廓的相对延迟 ,从而得到辐射粒子速度及其空间分布 .利用绝热膨胀的理论和激波模型... 在背景气压为 8× 10 - 3 — 10 0Pa范围内 ,通过测量脉冲激光烧蚀平面Al靶产生的等离子体辐射谱的时间分辨特征 ,比较空间不同点辐射的飞行时间轮廓的相对延迟 ,从而得到辐射粒子速度及其空间分布 .利用绝热膨胀的理论和激波模型分别对背景气压小于 0 .6Pa的结果和 5Pa时的结果作了分析 ,并得出激波的波面基本上为柱对称 . 展开更多
关键词 激光烧蚀 al 激光等离子体 平面铝靶 粒子速度分布 激波模型 背景气压 铝原子
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不同Al粒径的PTFE/Al活性射流作用双层间隔靶的实验研究 被引量:7
17
作者 叶胜 毛亮 +3 位作者 胡榕 蔡尚晔 姜春兰 卢士伟 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第7期625-633,共9页
为了获得采用不同铝(Al)粒径制备而成的聚四氟乙烯/铝(PTFE/Al)活性药型罩作用双层间隔靶的毁伤威力特性,采用模压烧结成型法制备了5种不同Al粒径(10,30,70,200μm,50/70μm)的PTFE/Al活性药型罩,并开展了相应的静爆威力实验。研究结果... 为了获得采用不同铝(Al)粒径制备而成的聚四氟乙烯/铝(PTFE/Al)活性药型罩作用双层间隔靶的毁伤威力特性,采用模压烧结成型法制备了5种不同Al粒径(10,30,70,200μm,50/70μm)的PTFE/Al活性药型罩,并开展了相应的静爆威力实验。研究结果表明:随着Al粒径从10μm增加到200μm时,活性射流对钢靶和铝靶的破孔面积、等效破裂孔直径、破孔隆起高度以及形成的破坏区域体积均呈现减小趋势,当Al粒径为10μm时破坏钢靶的毁伤参量为S_(Steel)=0.4 CD(装药直径)、hAl=0.48 CD、V_(Steel)=420 cm3,破坏铝靶的毁伤参量为SAl=3.8 CD、hAl=1.72 CD、VAl=2280 cm^(3)。采用50 nm/70μm级配Al粒径的PTFE/Al活性射流对钢靶的穿孔效果显著提高,等效破裂孔直径d_(Steel)=0.59 CD。结合实验相关数据拟合得到了活性射流对后效铝靶的爆裂毁伤效应分析模型。 展开更多
关键词 PTFE/al活性射流 双层间隔靶 al粒径 侵爆耦合毁伤
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三靶共溅射纳米复合Cr-Al-Si-N涂层的制备及摩擦学性能研究 被引量:7
18
作者 王铁钢 蒙德强 +3 位作者 李柏松 赵彦辉 刘艳梅 姜肃猛 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期78-86,共9页
目的利用高功率脉冲磁控溅射技术离化率高、溅射离子能量高等优点,在Cr-Al-N涂层中添加Si元素研制a-Si3N4包裹nc-(Cr,Al)N的纳米复合涂层,通过改变反应沉积时的N2/Ar比来调控涂层成分与结构,实现纳米复合Cr-Al-Si-N涂层性能优化。方法... 目的利用高功率脉冲磁控溅射技术离化率高、溅射离子能量高等优点,在Cr-Al-N涂层中添加Si元素研制a-Si3N4包裹nc-(Cr,Al)N的纳米复合涂层,通过改变反应沉积时的N2/Ar比来调控涂层成分与结构,实现纳米复合Cr-Al-Si-N涂层性能优化。方法采用高功率脉冲与脉冲直流复合磁控溅射技术制备Cr-Al-Si-N涂层。利用扫描电镜、X射线衍射仪、能谱仪、应力仪、纳米压痕仪、划痕测试仪和摩擦试验机,研究N2/Ar比对涂层成分、结构、力学性能以及摩擦学行为的影响。结果涂层主要由面心立方结构的CrN与AlN相组成,且沿(200)晶面择优生长。当N2/Ar流量比为3∶1时,涂层与基体结合最好,临界载荷约为36.5N;摩擦系数和内应力较低,分别为0.5和-0.48GPa。当N2/Ar流量比为4∶1时,H/E值和H^3/E^*2值升至最高,分别为0.11和0.24GPa,磨损率最低,约为1.9×10^-4μm^3/(N·μm)。结论当N2/Ar流量比为4∶1时,三靶共溅射制备的Cr-Al-Si-N涂层硬度较高,耐磨性能最好。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 脉冲直流磁控溅射 三靶共溅射 纳米复合涂层 Cr-al-Si-N涂层 N2/Ar流量比 临界载荷 摩擦系数 磨损率
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厚度和层间界面对Ti6Al4V钛合金抗弹性能的影响 被引量:7
19
作者 郑超 朱秀荣 +5 位作者 辛海鹰 邵志文 王欢 彭华新 程兴旺 王富耻 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期242-248,共7页
开展了Ti6Al4V钛合金的抗弹性能研究,通过对厚度为10~30 mm的均质Ti6Al4V钛合金靶板和总厚度为30 mm的(15+15)mm双层Ti6Al4V钛合金靶板的终点弹道侵彻实验,研究了厚度和层间界面对Ti6Al4V钛合金抗弹性能的影响规律。结果表明:Ti6Al4V... 开展了Ti6Al4V钛合金的抗弹性能研究,通过对厚度为10~30 mm的均质Ti6Al4V钛合金靶板和总厚度为30 mm的(15+15)mm双层Ti6Al4V钛合金靶板的终点弹道侵彻实验,研究了厚度和层间界面对Ti6Al4V钛合金抗弹性能的影响规律。结果表明:Ti6Al4V钛合金的抗弹性能随着厚度的增加逐渐提高;在靶板厚度由15 mm增加到20 mm时,其抗弹性能出现了陡增,这与其损伤模式由脆性冲塞破坏转变为塑性扩孔破坏有关;层间界面不利于Ti6Al4V钛合金抗弹性能的提高,厚度为30mm的单层均质Ti6Al4V钛合金靶板的抗弹性能优于总厚度为30mm的(15+15)mm双层Ti6Al4V钛合金靶板,这与双层靶板的层间界面几乎无剪切强度有关。 展开更多
关键词 TI6al4V钛合金 抗弹性能 厚度效应 界面效应
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Fabrication and properties of ZAO powder,sputtering target materials and the related films 被引量:6
20
作者 Wei Shao Ruixin Ma Bin Liu 《Journal of University of Science and Technology Beijing》 CSCD 2006年第4期346-349,共4页
Aluminum-doped zinc oxide (ZnO:Al), abbreviated as ZAO, is a novel and widely used transparent conductive material. The ZAO powder was synthesized by chemical coprecipitation. The ZAO ceramic sputtering target mate... Aluminum-doped zinc oxide (ZnO:Al), abbreviated as ZAO, is a novel and widely used transparent conductive material. The ZAO powder was synthesized by chemical coprecipitation. The ZAO ceramic sputtering target materials were fabricated by sintering in air, and ZAO transparent conductive films were prepared by RF magnetron sputtering on glass substrates. XRD proved that such films had an orientation of (002) crystal panel paralleled to the surface of the glass substrate. The average transmittance of the films in the visible region exceeded 80%. 展开更多
关键词 transparent conductive film al-doped zinc oxide chemical coprecipitation sputtering target materials
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