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KOH溶液中(110)硅片腐蚀特性的研究 被引量：3
1
作者 贾翠萍 董玮 +3 位作者 徐宝琨 潘建旋 周敬然 陈维友 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期52-55,共4页
研究了在KOH溶液中(110)硅片的腐蚀特性,在保证(110)面的平整和｛111｝面的光滑的腐蚀实验条件下,利用(110)面和｛111｝面腐蚀选择比大,采用湿法腐蚀技术可以制作高深宽比结构的方式,在(110)硅片上设计制作出光开关用微反射镜。在腐蚀... 研究了在KOH溶液中(110)硅片的腐蚀特性,在保证(110)面的平整和｛111｝面的光滑的腐蚀实验条件下,利用(110)面和｛111｝面腐蚀选择比大,采用湿法腐蚀技术可以制作高深宽比结构的方式,在(110)硅片上设计制作出光开关用微反射镜。在腐蚀过程中光开关悬臂的凸角处产生了削角现象,利用表面硅原子悬挂键的分布特征对产生削角的原因作了合理解释,这为以后研究凸角补偿提供了理论依据。 展开更多
关键词 KOH溶液 (110)硅片 凸角 悬挂键
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(110)硅基光纤定位槽的研究 被引量：1
2
作者 贾翠萍 董玮 +3 位作者 徐宝琨 周敬然 王丹 陈维友 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期34-36,共3页
利用(110)硅片在KOH溶液中各向异性腐蚀制作出两个互相垂直的光纤定位槽。由于在该方位腐蚀出的不标准的V型槽,难以对此精确设计来固定光纤。设计了利用KOH溶液定向腐蚀制作出的平行四边形蚀坑串,所形成的锯齿状沟槽结构来固定光纤。依... 利用(110)硅片在KOH溶液中各向异性腐蚀制作出两个互相垂直的光纤定位槽。由于在该方位腐蚀出的不标准的V型槽,难以对此精确设计来固定光纤。设计了利用KOH溶液定向腐蚀制作出的平行四边形蚀坑串,所形成的锯齿状沟槽结构来固定光纤。依据硅的各向异性腐蚀特性对平行四边形蚀坑尺寸进行了分析设计。由于腐蚀过程中锐角凸角和钝角凸角产生的削角面不一致,致使锯齿状沟槽精确固定光纤产生偏差,设计采用菱形凸角补偿结构进行完善,从而达到精确固定光纤的目的。 展开更多
关键词 KOH (110)硅片 锯齿状沟槽 凸角
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(110)硅基MEMS光开关光纤定位槽的设计 被引量：1
3
作者 贾翠萍 董玮 +4 位作者 周敬然 王丹 臧会东 徐宝琨 陈维友 《微细加工技术》 EI 2006年第2期45-48,共4页
利用KOH溶液腐蚀在(110)硅片上制作2×2 MEMS光开关,微反射镜表面光滑且垂直度较好,其质量高于用同样方法在(100)硅片上制作的反射镜,但是却存在自对准V型槽难以实现的问题。依据(110)硅片的结晶学特点,设计并制作了夹角为38.94... 利用KOH溶液腐蚀在(110)硅片上制作2×2 MEMS光开关,微反射镜表面光滑且垂直度较好,其质量高于用同样方法在(100)硅片上制作的反射镜,但是却存在自对准V型槽难以实现的问题。依据(110)硅片的结晶学特点,设计并制作了夹角为38.94°的两个光纤定位槽:一个为U型槽,两侧面均为{111}面;另一个是呈锯齿状的光纤槽,它是由腐蚀出的平行四边形蚀坑串组成。介绍了锯齿状沟槽的实现原理,对平行四边形蚀坑尺寸进行了分析设计,并采用菱形凸角补偿结构实现凸角补偿。这两种光纤定位槽结构都能够很好地固定光纤,并实现了光纤的自对准,且制作方法简单。 展开更多
关键词 光开关 (110)硅片 耦合 锯齿状沟槽
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8×8 MEMS光开关阵列的制作
4
作者 贾翠萍 董玮 +5 位作者 周敬然 刘彩霞 臧会东 玄伟 徐宝琨 陈维友 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期343-346,共4页
采用MEMS技术制作了静电驱动的扭臂结构8×8光开关阵列,主要包括上下电极的制作.利用硅在KOH溶液中各向异性腐蚀特性及(110)硅的结晶学特点,在(110)硅片上制作出8×8光开关微反射镜上电极阵列,考虑到在腐蚀时微反射镜有很大的侧... 采用MEMS技术制作了静电驱动的扭臂结构8×8光开关阵列,主要包括上下电极的制作.利用硅在KOH溶液中各向异性腐蚀特性及(110)硅的结晶学特点,在(110)硅片上制作出8×8光开关微反射镜上电极阵列,考虑到在腐蚀时微反射镜有很大的侧蚀,对开关结构进行了调整.在偏一定角度的(111)硅片上制作了倾斜的下电极.整个开关制作工艺简单,成本低.开关寿命大于1000万次,开关时间小于10ms. 展开更多
关键词 光开关 (110)硅片 微反射镜 开关时间
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