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涂层基结合强度测定方法研究进展 被引量:18
1
作者 郑森林 张平余 薄膜科学技术 1993年第2期85-92,共8页
关键词 膜基 结合强 划痕法 测定 涂层
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离子镀技术的发展和现状 被引量:13
2
作者 遇衍澄 薄膜科学技术 1995年第3期240-249,共10页
本文分析研究了国内外离子镀技术的动态,阐述了离子镀的特点,介绍了离子镀设备及工艺的发展和现状以及实用的离子镀膜检测方法。
关键词 离子镀 镀层 抗腐蚀 发展 现状
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CVD金刚石薄膜的应用和市场前景 被引量:8
3
作者 蒋翔六 薄膜科学技术 1991年第3期9-14,共6页
关键词 金刚石 薄膜 市场 化学气相沉积
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用热丝法生长大面积高质量金刚石膜 被引量:7
4
作者 庞国锋 石岩 薄膜科学技术 1995年第2期141-146,共6页
关键词 金刚石薄膜 薄膜 生长 热丝法
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高频溅射ZnO:Al透明导电薄膜的研究 被引量:7
5
作者 赵伟明 张志林 薄膜科学技术 1995年第2期153-157,共5页
关键词 ZNO:AL薄膜 透明导电薄膜 高频溅射 薄膜
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SrS:Ce蓝色薄膜电致发光 被引量:6
6
作者 陈建荣 蔡昆 薄膜科学技术 1995年第1期25-31,共7页
用H2还原法制备了SrS:Ce蓝色发光材料,研究了它的光谱特性,并用不同掺杂浓度比较了H2还原法和CS2还原法,得到了掺杂的浓度范围,研究了H2气氛下处理温度对器件发光的影响。制得了最高亮度为220cd/m^2,流明... 用H2还原法制备了SrS:Ce蓝色发光材料,研究了它的光谱特性,并用不同掺杂浓度比较了H2还原法和CS2还原法,得到了掺杂的浓度范围,研究了H2气氛下处理温度对器件发光的影响。制得了最高亮度为220cd/m^2,流明效率为0.181m/W的蓝色发光器件。 展开更多
关键词 蓝色薄膜 电致发光器件 掺杂 电致发光
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薄膜应力的测量 被引量:5
7
作者 范玉殿 周志峰 薄膜科学技术 1992年第3期1-9,共9页
关键词 薄膜 应力 测量
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离子能量对薄膜附着力及界面原子混合的影响 被引量:5
8
作者 罗广南 李文治 薄膜科学技术 1994年第1期41-46,共6页
关键词 薄膜 附着力 离子束 界面
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稀土—过渡金属薄膜光学常数和磁光常数的椭圆偏振测量 被引量:4
9
作者 顾培夫 薄膜科学技术 1990年第3期48-58,共11页
关键词 薄膜 金属 光学 磁光 偏振 稀土
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聚酰亚胺LB绝缘薄膜的制备及表征 被引量:4
10
作者 陆祖宏 张佐兰 薄膜科学技术 1991年第2期31-36,共6页
关键词 聚酰亚胺薄膜 LB薄膜 绝缘薄膜
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平面磁控溅射成膜生长速率及厚度均匀性计算 被引量:4
11
作者 孟宪权 范湘军 薄膜科学技术 1994年第4期318-323,共6页
关键词 薄膜生长 平面磁控溅射 生长速率 厚度 均匀性
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离子束薄膜合成及材料表面优化 被引量:3
12
作者 杨根庆 柳襄怀 薄膜科学技术 1995年第3期232-239,共8页
本文简略地回顾了离子束材料表面优化研究领域的发展及现状,着重介绍上海冶金研究所离子束开放研究实验室近年来在离子束薄膜合成及材料表面改性方面的研究工作。同时对离子束技术在工业中的应用进行了探讨。
关键词 离子束 薄膜合成 材料表面改性 掺杂
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TiN薄膜压入过程的开裂方式及其影响因素 被引量:3
13
作者 徐可为 郑森林 薄膜科学技术 1993年第4期263-270,共8页
关键词 薄膜 压入法 氮化钛
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氧化铟锡薄膜的气敏特性研究 被引量:3
14
作者 陈烈敏 章壮健 薄膜科学技术 1992年第4期41-48,共8页
关键词 气体传感器 氧化铟锡 薄膜
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短波段光学薄膜 被引量:3
15
作者 李懋廉 卢春光 薄膜科学技术 1995年第1期1-12,共12页
本文对真空紫外-软X光短波段区域的多种极为重要的光学元件如高反射膜镜、光谱色散器件和光谱滤光片等作了较全面地介绍。除较详细的介绍了他们的制备技术外,对于他们光谱透射与反射性能的测量方法与结果也作了较全面地叙述。
关键词 光学薄膜 真空紫外薄膜 薄膜 光学元件
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硬质薄膜附着力的研究 被引量:2
16
作者 王家祥 黄燕清 薄膜科学技术 1990年第2期12-19,共8页
关键词 硬质薄膜 附着力 薄膜
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射频反应溅射沉积透明导电CdIn2O4薄膜 被引量:3
17
作者 彭栋梁 蒋生蕊 薄膜科学技术 1993年第1期28-32,共5页
关键词 沉积 CdIn2O4 薄膜 射频 溅射
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Ar—H2—液化石油气系统中金刚石薄膜的快速沉积 被引量:2
18
作者 钟国仿 吕反修 薄膜科学技术 1994年第2期109-116,共8页
关键词 金刚石薄膜 液化石油气 沉积
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射频磁控溅射沉积ZrO2—8%(wt)Y2O3薄膜XPS分析 被引量:3
19
作者 黄宁康 蒋锦江 薄膜科学技术 1993年第2期164-169,共6页
关键词 射频 磁控溅射 ZRO2-Y2O3 XPS 薄膜
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Ti—N薄膜/钢基界面的若干微观特征 被引量:3
20
作者 郭丽萍 黄荣芳 薄膜科学技术 1993年第3期179-186,共8页
关键词 Ti-N薄膜 钢基体 界面 结构
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