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N^+缓冲层对PT-IGBT通态压降影响的研究
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作者 关艳霞 凌宇 《电子设计工程》 2013年第7期191-193,共3页
N+缓冲层设计对PT-IGBT器件特性的影响至关重要。文中利用Silvaco软件对PT-IGBT的I-V特性进行仿真。提取相同电流密度下,不同N+缓冲层掺杂浓度PT-IGBT的通态压降,得到了通态压降随N+缓冲层掺杂浓度变化的曲线,该仿真结果与理论分析一致... N+缓冲层设计对PT-IGBT器件特性的影响至关重要。文中利用Silvaco软件对PT-IGBT的I-V特性进行仿真。提取相同电流密度下,不同N+缓冲层掺杂浓度PT-IGBT的通态压降,得到了通态压降随N+缓冲层掺杂浓度变化的曲线,该仿真结果与理论分析一致。对于PT-IGBT结构,N+缓冲层浓度及厚度存在最优值,只要合理的选取可以有效地降低通态压降。 展开更多
关键词 Silvaco PT-IGBT N+缓冲层 通态压降 仿真
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电力电子器件绝缘栅─双极晶体管及其应用 被引量:2
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作者 李萌金 《电测与仪表》 北大核心 1997年第10期45-48,共4页
IGBT(绝缘栅-双极晶体管)是种新型的大功率复合开关器件。本文介绍了IGBT的特性及其在安全性能测试仪中的具体应用。
关键词 IGBT 绝缘栅 双极晶体管 安全性能测试 SPWM
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绝缘栅场效应管的机理研究 被引量:1
3
作者 孔令彬 《电子器件》 CAS 1997年第1期15-19,共5页
本文论述了绝缘栅场效应管的导电机理和特性,提出了新的观点和看法.
关键词 耗尽层 单一负离子层 绝缘栅 场效应管
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3.3kV IGBT模块驱动设计分析 被引量:3
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作者 郑姿清 《大功率变流技术》 2011年第2期17-21,共5页
英飞凌公司生产的3.3kV IGBT模块已被客户广泛使用,其驱动电路的设计在许多方面都有别于1.7 kV和1.2kV IGBT模块,文章对该驱动电路的设计细节进行分析,以助于更好地应用该款IGBT模块。
关键词 3.3kV IGBT 驱动设计 安全隔离 短路
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基于Simplorer驱动电阻对IGBT特性影响研究 被引量:1
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作者 邓坚 汪正 +1 位作者 谢长君 全书海 《湖北工业大学学报》 2016年第4期53-56,共4页
驱动电阻对IGBT特性有直接关系,针对大多数仿真软件对IGBT模型的建立不够准确,采用Ansys公司的Simplorer对IGBT进行参数化建模,并用双脉冲测试方法来对IGBT搭建外围电路。重点分析栅极驱动电阻对IGBT的电压变化率和通断延时的关系,分析... 驱动电阻对IGBT特性有直接关系,针对大多数仿真软件对IGBT模型的建立不够准确,采用Ansys公司的Simplorer对IGBT进行参数化建模,并用双脉冲测试方法来对IGBT搭建外围电路。重点分析栅极驱动电阻对IGBT的电压变化率和通断延时的关系,分析表明驱动电阻与IGBT电压变化率和开通延时时间的关系成线性关系。对驱动电阻阻值不同的驱动电路对IGBT进行仿真,仿真结果符合理论推导。因此,选择大小恰当的驱动电阻对IGBT使用具有一定工程意义。 展开更多
关键词 绝缘栅双极晶体管 双脉冲测试 驱动电阻
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分析传导EMI的功率MOSFET建模 被引量:22
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作者 袁义生 钱照明 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期198-201,204,共5页
基于集总电荷原理,分析了功率垂直双扩散MOS(VDMOS)开关过程各阶段极间电容CGS和CGD的变化,建立了连续的CGS和CGD的模型,利用产品数据手册的数据,采用曲线拟合技术可以提取模型方程中所有未知参数.在Saber仿真软件中,利用现有的LDMOS模... 基于集总电荷原理,分析了功率垂直双扩散MOS(VDMOS)开关过程各阶段极间电容CGS和CGD的变化,建立了连续的CGS和CGD的模型,利用产品数据手册的数据,采用曲线拟合技术可以提取模型方程中所有未知参数.在Saber仿真软件中,利用现有的LDMOS模型为核心,构筑功率VDMOS的子电路模型,作为精确的瞬态和传导电磁干扰(ElectromagneticInterference,EMI)仿真使用.最后的开关实验和仿真结果的比较证明了该模型的准确性和有效性. 展开更多
关键词 VDMOS 传导EMI 建模技术
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IGBT的抗动态雪崩设计
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作者 李兴鲁 《环境技术》 2018年第5期66-69,共4页
IGBT关断时容易在过压、过流条件下出现动态雪崩电流丝化问题,若发展为二度动态雪崩则会把器件引入具有失效危险的工作区。本文利用器件仿真工具,研究IGBT抗二度动态雪崩的漂移区设计极限,以及背面设计对这种临界线的影响,为着眼于改善... IGBT关断时容易在过压、过流条件下出现动态雪崩电流丝化问题,若发展为二度动态雪崩则会把器件引入具有失效危险的工作区。本文利用器件仿真工具,研究IGBT抗二度动态雪崩的漂移区设计极限,以及背面设计对这种临界线的影响,为着眼于改善静态—动态损耗折中关系的可靠性设计提供抗动态雪崩方面的数据界定、参照指标和方向指导。 展开更多
关键词 IGBT 动态雪崩 电流丝化 二度动态雪崩临界线
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IGBT模块热特性测量与内部结构热特性分析 被引量:2
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作者 李炘 周望君 +1 位作者 奉琴 王贤元 《大功率变流技术》 2016年第2期26-29,67,共5页
IGBT模块内部各层结构的热学特性容易受到外界条件(如封装工艺或封装原材料性能的变化等)的影响。文章利用结构函数的特性,经过对IGBT实际测量和计算,获得模块内部的结壳热阻,并根据不同材料的热阻和热容值对IGBT模块内部每层结构进行... IGBT模块内部各层结构的热学特性容易受到外界条件(如封装工艺或封装原材料性能的变化等)的影响。文章利用结构函数的特性,经过对IGBT实际测量和计算,获得模块内部的结壳热阻,并根据不同材料的热阻和热容值对IGBT模块内部每层结构进行热特性分析。 展开更多
关键词 IGBT 热特性 瞬态双界面测试法 结构函数
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IGBT-中国动车核心中的核芯
9
《集成电路应用》 2013年第11期26-27,共2页
IGBT-绝缘栅双极型晶体管是由双极型三极管BJT和绝缘栅型场效应管MOS组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件。此前我国在这种高端芯片上基本依赖进口。上海制造的大功率IGBT芯片替代进口,将广泛应用在轨道交通、电力系统、绿色能源... IGBT-绝缘栅双极型晶体管是由双极型三极管BJT和绝缘栅型场效应管MOS组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件。此前我国在这种高端芯片上基本依赖进口。上海制造的大功率IGBT芯片替代进口,将广泛应用在轨道交通、电力系统、绿色能源、电动汽车等领域。 展开更多
关键词 功率 半导体 IGBT
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IGBT载流子增强技术发展概述 被引量:2
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作者 沈千行 张须坤 +5 位作者 张广银 杨飞 谭骥 田晓丽 卢烁今 朱阳军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第10期751-758,778,共9页
发射极载流子增强技术作为绝缘栅双极型晶体管(IGBT)器件所特有的技术手段,是进一步改善IGBT导通饱和压降和关断损耗折中性能的关键所在。在经历了20多年的发展之后,发射极载流子浓度增强的技术无论从结构和性能上都得到了巨大的提升。... 发射极载流子增强技术作为绝缘栅双极型晶体管(IGBT)器件所特有的技术手段,是进一步改善IGBT导通饱和压降和关断损耗折中性能的关键所在。在经历了20多年的发展之后,发射极载流子浓度增强的技术无论从结构和性能上都得到了巨大的提升。概述了IGBT载流子增强技术的发展过程,针对IGBT中的载流子分布,分析了载流子增强技术的物理机制,介绍了传统载流子增强技术所采用的器件结构及实现方法,包括注入增强型绝缘栅双极型晶体管(IEGT),载流子存储层结构的沟槽型双极型晶体管(CSTBT),高导电率IGBT(Hi GT),平面增强结构IGBT,以及最近几年较新型的介质阻挡层IGBT,局部窄台面IGBT,p型埋层CSTBT等。着重讨论了每种器件的结构特点以及性能上的改善。载流子增强技术将是新一代IGBT器件设计的一个主要技术手段。 展开更多
关键词 绝缘栅双极型晶体管(IGBT) 载流子 增强技术 空穴积累 通态压降
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Application of artificial neural network for switching loss modeling in power IGBTs 被引量:2
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作者 Yan DENG Xiang-ning HE Jing ZHAO Yan XIONG Yan-qun SHEN Jian JIANG 《Journal of Zhejiang University-Science C(Computers and Electronics)》 SCIE EI 2010年第6期435-443,共9页
The modeling of switching loss in semiconductor power devices is important in practice for the prediction and evaluation of thermal safety and system reliability.Both simulation-based behavioral models and data proces... The modeling of switching loss in semiconductor power devices is important in practice for the prediction and evaluation of thermal safety and system reliability.Both simulation-based behavioral models and data processing-based empirical models are difficult and have limited applications.Although the artificial neural network(ANN) algorithm has often been used for modeling, it has never been used for modeling insulated gate bipolar transistor(IGBT) transient loss.In this paper, we attempt to use the ANN method for this purpose, using a customized switching loss test bench.We compare its performance with two conventional curve-fitting models and verify the results by experiment.Our model is generally superior in calculation speed, accuracy, and data requirement, and is also able to be extended to loss modeling for all kinds of semiconductor power devices. 展开更多
关键词 Insulated gate bipolar transistor(IGBT) Switching loss MODELING Artificial neural network(ANN)
原文传递
SOI-LIGBT寄生晶体管电流增益的研究 被引量:2
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作者 陈越政 钱钦松 孙伟锋 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期54-57,共4页
采用二维器件模拟仿真软件Tsuprem4和Medici模拟了SOI-LIGBT的n型缓冲层掺杂剂量、阳极p+阱区长度、漂移区长度以及阳极所加电压对SOI-LIGBT寄生晶体管电流增益β的影响,通过理论分析定性的解释了产生上述现象的原因和机理,并且通过实... 采用二维器件模拟仿真软件Tsuprem4和Medici模拟了SOI-LIGBT的n型缓冲层掺杂剂量、阳极p+阱区长度、漂移区长度以及阳极所加电压对SOI-LIGBT寄生晶体管电流增益β的影响,通过理论分析定性的解释了产生上述现象的原因和机理,并且通过实验测试结果进一步验证了分析结论的正确性。其中,n型缓冲层掺杂剂量对电流增益β的影响最为明显,漂移区长度的影响最弱。基本完成了对SOI-LIGBT寄生晶体管电流增益β主要工艺影响因素的定性分析,对于SOI-LIGBT的设计有一定的借鉴意义。 展开更多
关键词 绝缘体上硅横向绝缘栅双极型晶体管 电流增益β n型缓冲层 漂移区长度
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优质高阻异型厚层硅外延IGBT材料n^—/n^+/p^+
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作者 杨谟华 黎展荣 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第6期388-392,共5页
我们的实验研究结果表明,已经在n^-/n^+/p^+的纵向电气与几何参数的最佳理论设计、关键的工艺生长技术和缺陷控制诸主要方面取得了进展,并因此制备了2''-3''100μm厚度的高阻异型镜面硅外延片,且将其成功应用... 我们的实验研究结果表明,已经在n^-/n^+/p^+的纵向电气与几何参数的最佳理论设计、关键的工艺生长技术和缺陷控制诸主要方面取得了进展,并因此制备了2''-3''100μm厚度的高阻异型镜面硅外延片,且将其成功应用于1300V/20A高性能IGBT的研制。 展开更多
关键词 IGBT 外延生长 半导体材料 缺隐
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Bi_2Ti_2O_7薄膜制备及 Bi_2Ti_2O_7绝缘栅场效应管研制 被引量:1
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作者 肖卓炳 吴显明 +4 位作者 王少伟 王弘 王卓 尚淑霞 王民 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第2期171-174,共4页
采用化学溶液沉积法,以硝酸铋和钛酸四丁酯为原料成功地制备了 Bi_2Ti_2O_7介质膜。 制膜过程简单,成本低廉,得到的薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数, 用其制备的绝缘栅场效应管与相同尺寸的 SiO2绝缘栅场效应管相比,具有较... 采用化学溶液沉积法,以硝酸铋和钛酸四丁酯为原料成功地制备了 Bi_2Ti_2O_7介质膜。 制膜过程简单,成本低廉,得到的薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数, 用其制备的绝缘栅场效应管与相同尺寸的 SiO2绝缘栅场效应管相比,具有较高的跨导和较低的开启电压。 展开更多
关键词 化学溶液沉积法 Bi2Ti2O7薄膜 介电常数 绝缘栅场效应管 制备
原文传递
半绝缘非掺GaAs材料制备的MESFETs背栅效应
15
作者 刘汝萍 夏冠群 +3 位作者 赵建龙 翁建华 张美圣 郝幼申 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期64-68,共5页
设计了一套适用于二种工艺(离子注入隔离工艺和半绝缘衬底自隔离工艺)的背栅效应测试版图,用选择离子注入形成有源层和欧姆接触区,在非掺杂的半绝缘GaAs 衬底上制备GaAs MESFETs 器件.研究了这二种不同工艺制备的... 设计了一套适用于二种工艺(离子注入隔离工艺和半绝缘衬底自隔离工艺)的背栅效应测试版图,用选择离子注入形成有源层和欧姆接触区,在非掺杂的半绝缘GaAs 衬底上制备GaAs MESFETs 器件.研究了这二种不同工艺制备的MESFETs 器件的背栅效应以及不同距离背栅电极的背栅效应大小.结果表明,采用离子注入隔离工艺制备的MESFETs 器件的背栅效应要比采用半绝缘衬底自隔离工艺制备MESFETs器件的背栅效应小,背栅效应的大小与距离近似成反比,采用隔离注入的背栅阈值电压随距离变化的趋势比采用衬底自隔离的更大. 展开更多
关键词 MESFET 背栅效应 砷化镓 半绝缘
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基于高压IGBT暂态机理模型的分析与研究
16
作者 王瑞 《信息技术》 2014年第5期28-30,共3页
随着绝缘栅双极性晶体管(IGBT)使用的电压等级越来越高,关于绝缘栅双极性晶体管(IGBT)开关暂态的研究显得尤为重要。在机理模型的基础上能细划分为MOSFET与BJT,即金属氧化层半导体场效晶体管与双极结型晶体管两个部分,对其进行建模,列... 随着绝缘栅双极性晶体管(IGBT)使用的电压等级越来越高,关于绝缘栅双极性晶体管(IGBT)开关暂态的研究显得尤为重要。在机理模型的基础上能细划分为MOSFET与BJT,即金属氧化层半导体场效晶体管与双极结型晶体管两个部分,对其进行建模,列举出模型参数提取方法。该模型可在Matlab中实现,把IGBT作为案例列出模型参数数值,分析比较高压开通暂态、关闭暂态与开关损耗仿真结果,以此检验机理模型对高压IGBT是否适用。 展开更多
关键词 IGBT 机理模型 高压 MOSFET BJT
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栅极电阻对GaN MOSFET瞬态特性的影响研究
17
作者 蒋丽华 罗霞 +2 位作者 廖勇 罗海军 龙兴明 《微电子学》 CAS 北大核心 2020年第5期726-731,共6页
为了研究栅极电阻对GaN MOSFET的开关速率和输出特性中出现振荡的影响,首先利用MOSFET的基本公式对其导通和关断时的输出瞬态电流进行了理论推导,然后通过实验平台测试GaN MOSFET的瞬态电流值,且与理论值对比,验证栅极电阻带来的影响。... 为了研究栅极电阻对GaN MOSFET的开关速率和输出特性中出现振荡的影响,首先利用MOSFET的基本公式对其导通和关断时的输出瞬态电流进行了理论推导,然后通过实验平台测试GaN MOSFET的瞬态电流值,且与理论值对比,验证栅极电阻带来的影响。实验结果表明,GaN MOSFET的瞬态电流值实验值与理论值基本吻合,在导通和关断时,GaN MOSFET的输出瞬态电流和输出电流的高频震荡均随栅极电阻的增加而减小。栅极电阻从10Ω变化到100Ω时,导通时开关速率上升率占总开关速率上升率的84.7%,关断时开关速率下降率占总开关速率下降率的54.06%。在栅极电阻为10~100Ω范围内,GaN MOSFET具有较快的开关速度。 展开更多
关键词 GaN MOSFET 栅极电阻 瞬态电流
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Al_2O_3/SiN_X 双层绝缘栅 a-Si : H TFT 的研究
18
作者 陈斌 徐重阳 +1 位作者 王长安 赵伯芳 《华中理工大学学报》 CSCD 北大核心 1998年第3期8-9,共2页
研究Al2O3/SiNX双层绝缘栅对a-Si∶HTFT性能的影响,介绍Al2O3/SiNX双层绝缘栅的制作方法.双层绝缘栅结构有效地抑制了单层绝缘栅的针孔效应,改善了短接现象,提高了有效介电常数,从而可减小膜厚,提高... 研究Al2O3/SiNX双层绝缘栅对a-Si∶HTFT性能的影响,介绍Al2O3/SiNX双层绝缘栅的制作方法.双层绝缘栅结构有效地抑制了单层绝缘栅的针孔效应,改善了短接现象,提高了有效介电常数,从而可减小膜厚,提高栅电容,使得阈值电压降低、开态电流上升,获得了107的开关电流比. 展开更多
关键词 绝缘膜 栅电容 阈值电压 氢化非晶硅 薄膜晶体管
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Au纳米颗粒结构参数优化制备高性能纳米晶存储器
19
作者 许怡红 陈松岩 李成 《半导体技术》 CAS 北大核心 2022年第6期448-454,共7页
高性能纳米晶存储器是下一代非易失性存储器的潜在候选者,而纳米颗粒结构参数严重影响纳米晶存储器的性能。结合射频磁控溅射和快速热退火技术制备了四组不同平均尺寸和数密度的Au纳米颗粒,颗粒平均尺寸为4.6~17.3 nm,数密度为1.4×... 高性能纳米晶存储器是下一代非易失性存储器的潜在候选者,而纳米颗粒结构参数严重影响纳米晶存储器的性能。结合射频磁控溅射和快速热退火技术制备了四组不同平均尺寸和数密度的Au纳米颗粒,颗粒平均尺寸为4.6~17.3 nm,数密度为1.4×10^(11)~1×10^(12)cm^(-2)。而后在此基础上以Au纳米颗粒作为器件的存储层,制备了四组Al/TaN/HfO_(2)/Au-纳米晶(NC)/SiO_(2)/Si结构的纳米晶存储器,研究并分析了不同结构参数Au纳米颗粒对器件存储性能的影响。结果表明,当Au纳米颗粒平均尺寸约为8 nm、数密度约为6.3×10^(11)cm^(-2)时,纳米晶存储器在±12 V的扫描电压范围内获得了高达11.8 V的存储窗口,存储容量最大,且预计器件在10年后的电荷损失率约为24%,具有较好的电荷保持特性。 展开更多
关键词 金纳米颗粒 结构参数 存储窗口 高性能纳米晶存储器 存储层
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铜纳米颗粒有机浮栅存储器的制备与性能表征
20
作者 白宇杰 尹晋超 杨建红 《半导体技术》 CAS 北大核心 2022年第6期455-459,467,共6页
为了降低有机浮栅存储器功能层材料的制作成本,简化器件制备工艺和提高器件存储稳定性,通过多元醇法制取了分散的铜纳米颗粒。基于底栅顶接触型(BGTC)结构,将铜纳米颗粒通过低温旋涂工艺形成薄膜作为电荷俘获层,聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)... 为了降低有机浮栅存储器功能层材料的制作成本,简化器件制备工艺和提高器件存储稳定性,通过多元醇法制取了分散的铜纳米颗粒。基于底栅顶接触型(BGTC)结构,将铜纳米颗粒通过低温旋涂工艺形成薄膜作为电荷俘获层,聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜作为隧穿层制备了有机非易失性浮栅存储器。由透射电子显微镜测试结果可知,制得的铜纳米颗粒平均直径约为25 nm。电学性能测试结果显示,制备的存储器有明显的场效应特性和存储特性,在±80 V的编程/擦除电压下可获得24.42 V的存储窗口和10^(4)s以上的电荷保持性能。实验结果表明,铜纳米颗粒可作为金、银、铂等贵金属纳米颗粒的高性能、低成本替代材料,在有机浮栅存储器中具有较好的应用前景。 展开更多
关键词 铜纳米颗粒 有机浮栅存储器 器件特性 并五苯 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)
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