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φ300mm/0.18μm的光刻工艺及设备
被引量：
2
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作者
翁寿松
《电子工业专用设备》
1999年第1期1-5,共5页
综述了３００ｍｍ／０１８μｍＣＤ对光刻工艺的要求以及光刻设备的发展。
关键词
圆片
CD
光刻工艺
设备
芯片
晶体管
下载PDF
职称材料
题名
φ300mm/0.18μm的光刻工艺及设备
被引量：
2
1
作者
翁寿松
机构
无锡市无线电元件四厂
出处
《电子工业专用设备》
1999年第1期1-5,共5页
文摘
综述了３００ｍｍ／０１８μｍＣＤ对光刻工艺的要求以及光刻设备的发展。
关键词
圆片
CD
光刻工艺
设备
芯片
晶体管
分类号
TN320.57 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
φ300mm/0.18μm的光刻工艺及设备
翁寿松
《电子工业专用设备》
1999
2
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职称材料
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