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铸态和锻造态Mg-5Y-7Gd-1Nd-0.5Zr合金腐蚀行为对比研究 被引量：10
1
作者 刘金辉 宋影伟 +1 位作者 单大勇 韩恩厚 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期1141-1149,共9页
采用SEM、XRD和EDS等手段观察对比了铸态和锻造态稀土镁合金Mg-5Y-7Gd-1Nd-0.5Zr(EW75)的显微组织,分析了2种状态合金中的相组成及第二相的化学成分,采用腐蚀形貌观察、失重率和电化学测试对比了2个样品的耐蚀性。结果表明,铸态EW75合... 采用SEM、XRD和EDS等手段观察对比了铸态和锻造态稀土镁合金Mg-5Y-7Gd-1Nd-0.5Zr(EW75)的显微组织,分析了2种状态合金中的相组成及第二相的化学成分,采用腐蚀形貌观察、失重率和电化学测试对比了2个样品的耐蚀性。结果表明,铸态EW75合金中晶粒较大,大尺寸的骨骼状第二相沿晶界分布;锻造态EW75合金中晶粒较小,细小的颗粒状第二相弥散分布在晶界上。与铸态EW75合金相比,锻造态EW75合金中的微电偶腐蚀较弱,表面膜更均匀致密,耐蚀性更好。 展开更多
关键词 镁合金 铸态 锻造态 第二相 表面膜 微电偶腐蚀
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镁合金点蚀的研究进展 被引量：8
2
作者 樊志民 于锦 +2 位作者 宋影伟 单大勇 韩恩厚 《中国腐蚀与防护学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期317-325,共9页
总结了国内外针对镁合金点蚀的最新研究成果,特别是腐蚀环境和微观结构对镁合金点蚀的萌生和发展的影响规律;介绍了新型微区原位技术在镁合金点蚀研究上的应用,并指出将微区原位技术与传统腐蚀研究方法相结合是揭示镁合金点蚀机理的重... 总结了国内外针对镁合金点蚀的最新研究成果,特别是腐蚀环境和微观结构对镁合金点蚀的萌生和发展的影响规律;介绍了新型微区原位技术在镁合金点蚀研究上的应用,并指出将微区原位技术与传统腐蚀研究方法相结合是揭示镁合金点蚀机理的重要手段。同时,提出了可减缓镁合金点蚀的方法。最后,对未来镁合金点蚀的研究重点和方向进行了分析和展望,以期对解决镁合金点蚀问题起到一定的指导意义。 展开更多
关键词 点蚀 镁合金 腐蚀环境 微观结构 微区原位技术
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终电压对铝合金Mo和V黑色微弧氧化膜形成过程的影响
3
作者 刘圆敬 刘丹 +1 位作者 单大勇 韩恩厚 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第9期34-42,共9页
目的以钼酸盐和钒酸盐为着色剂,探究终电压对黑色微弧氧化膜形成过程的影响。方法在六偏磷酸钠和硅酸钠的微弧氧化体系中,添加NH4VO_(3)和Na2MoO4作为着色剂,在清洁的6063铝合金表面获得不同终电压下的微弧氧化膜,通过SEM、XRD、XPS分... 目的以钼酸盐和钒酸盐为着色剂,探究终电压对黑色微弧氧化膜形成过程的影响。方法在六偏磷酸钠和硅酸钠的微弧氧化体系中,添加NH4VO_(3)和Na2MoO4作为着色剂,在清洁的6063铝合金表面获得不同终电压下的微弧氧化膜,通过SEM、XRD、XPS分析膜层的形貌、结构和成分,通过色差仪和紫外可见分光光度计表征膜层的颜色特性和吸光率,通过极化曲线和电化学阻抗谱分析膜层的电化学性能。结果膜层的主要成分为O、Al、P、Si、Mo、V,其中Mo、V以MoO_(3)、MoO_(2)、V_(2)O_(5)、V_(2)O_(3)的形式存在。当终电压从350 V提高至550 V时,微弧氧化膜层的微孔变得少而大,颜色由褐色逐渐变为黑色,L从65.01减小到22.63,对可见光(波长250~800 nm)的吸收率从69.4%增至96.5%以上,膜层厚度和粗糙度从4.00、0.55μm分别增至35.00、2.41μm,自腐蚀电流密度降至1.48×10^(−6) A/cm^(2),自腐蚀电位(vs.SCE)正移至−0.07 V,阻抗值大幅提高,达到2.48×10^(5)Ω·cm^(2)。结论NH_(4)VO_(3)、Na2MoO4是铝合金黑色微弧氧化的有效着色剂,反应生成的V_(2)O_(5)、V_(2)O_(3)、MoO_(3)、MoO_(2)是膜层呈现黑色的根本原因,随着终电压的升高,膜层吸光率和耐蚀性均提高,氧化膜的完整性对膜层性能的影响显著。 展开更多
关键词 铝合金 黑色微弧氧化 耐蚀性 着色机理 吸光率 电化学
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神经内镜下血肿清除术治疗高血压脑出血患者的临床疗效研究
4
作者 吴润华 单大勇 +1 位作者 陈国永 陈培东 《系统医学》 2024年第14期111-114,共4页
目的分析两神经内镜下血肿清除术与传统骨瓣开颅手术治疗高血压脑出血患者的临床应用效果。方法回顾性选取2021年1月—2023年12月东莞市滨海湾中心医院收治的62例高血压脑出血患者的临床资料,根据不同的手术方法分为两组,观察组采用神... 目的分析两神经内镜下血肿清除术与传统骨瓣开颅手术治疗高血压脑出血患者的临床应用效果。方法回顾性选取2021年1月—2023年12月东莞市滨海湾中心医院收治的62例高血压脑出血患者的临床资料,根据不同的手术方法分为两组,观察组采用神经内镜下血肿清除术,对照组采用传统骨瓣开颅手术。对比两组手术相关指标、预后相关评分及术后并发症发生情况。结果观察组患者手术相关指标、预后相关评分均优于对照组,差异有统计学意义(P均<0.05)。观察组并发症发生率为6.45%(2/31),低于对照组的32.26%(10/31),差异有统计学意义(χ^(2)=6.613,P<0.05)。结论神经内镜下血肿清除术可以有效提高血肿清除率,缩短患者的住院时间并有助于改善患者预后,减少术后并发症的发生。 展开更多
关键词 神经内镜下血肿清除术 骨瓣开颅手术 神经功能 高血压脑出血
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GW93镁合金点蚀过程的原位监测及点蚀机制 被引量：1
5
作者 宋影伟 樊志民 +2 位作者 董凯辉 单大勇 韩恩厚 《中国材料进展》 CAS CSCD 北大核心 2020年第2期85-91,112,共8页
镁合金作为最轻的金属结构材料有很多优异性能,但镁自身化学性质活泼,耐蚀性差,尤其易发生点蚀,破坏性和隐患性非常大。若想降低点蚀对镁合金部件安全服役性能的影响,就需要对镁合金点蚀机制有清楚的认识。然而,适用于其他金属材料的经... 镁合金作为最轻的金属结构材料有很多优异性能,但镁自身化学性质活泼,耐蚀性差,尤其易发生点蚀,破坏性和隐患性非常大。若想降低点蚀对镁合金部件安全服役性能的影响,就需要对镁合金点蚀机制有清楚的认识。然而,适用于其他金属材料的经典的点蚀机制是以形成氧浓差电池为基础,阴极发生的是氧还原反应,而镁合金阴极发生的是析氢反应,因此镁合金的点蚀形成过程尚需深入研究。采用扫描振动电极技术(SVET)原位监测了铸态GW93镁合金在3. 5%NaCl(质量分数)溶液中的点蚀过程,采用SEM观察了腐蚀过程镁合金微观形貌变化,采用电流-时间曲线对比了阴阳极电位对点蚀发展的影响。研究结果表明,点蚀坑外是微阴极,发生析氢反应,点蚀坑内是微阳极,发生镁的溶解反应,随着时间增加,点蚀发展过程是动态变化的。镁合金中第二相所导致的微电偶腐蚀加速效应及氯离子在腐蚀坑内的聚集,两者的协同作用驱动了点蚀不断向基体内部生长。 展开更多
关键词 镁合金 点蚀 第二相 扫描振动电极 原位监测
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电解液pH值对镁合金微弧氧化能耗及涂层性能的影响
6
作者 张雅鑫 胡勇 +4 位作者 李信祥 刘圆敬 黄雄 刘丹 单大勇 《现代交通与冶金材料》 CAS 2024年第3期83-90,共8页
本文研究了镁合金微弧氧化电解液pH值对涂层能耗及微弧氧化涂层性能的影响。通过氢氟酸调节硅酸钠‐氟化钠电解液pH值分别为10,11,12和13,以恒电流模式获得了终电压为420 V的微弧氧化涂层,表征涂层的形貌、成分、能耗和耐蚀性。研究结... 本文研究了镁合金微弧氧化电解液pH值对涂层能耗及微弧氧化涂层性能的影响。通过氢氟酸调节硅酸钠‐氟化钠电解液pH值分别为10,11,12和13,以恒电流模式获得了终电压为420 V的微弧氧化涂层,表征涂层的形貌、成分、能耗和耐蚀性。研究结果表明,该微弧氧化体系的涂层单位体积能耗随着pH值升高而升高,为35~45 kJ/(dm^(2)·μm),还远称不上低能耗微弧氧化。pH值更高时,涂层厚度减小,总能耗降低,涂层均匀性和致密度提高,结合力更好,主要成分水溶性更低,耐蚀性更好。在pH值为13的电解液中获得的微弧氧化涂层的自腐蚀电流为2.88×10^(‒7)A/cm^(2),较镁合金基体降低了3个数量级。在进行低能耗微弧氧化涂层开发时,要特别注意兼顾能耗和涂层性能。 展开更多
关键词 镁合金 轻量化 微弧氧化 能耗 耐腐蚀性
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化学镀镍硼镀层的研究进展
7
作者 张雅鑫 袁炜 +3 位作者 刘圆敬 黄雄 刘丹 单大勇 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期32-44,共13页
化学镀镍硼镀层是通过化学镀的表面处理方法在基材表面沉积的一种镍硼合金层。对近20年化学镀以及镍硼镀层的文章发表情况进行了统计,介绍了典型镍硼镀层的沉积过程和不同还原剂下的沉积原理,探讨了还原剂与硼含量对工艺和性能的影响。... 化学镀镍硼镀层是通过化学镀的表面处理方法在基材表面沉积的一种镍硼合金层。对近20年化学镀以及镍硼镀层的文章发表情况进行了统计,介绍了典型镍硼镀层的沉积过程和不同还原剂下的沉积原理,探讨了还原剂与硼含量对工艺和性能的影响。相比传统制备工艺,如今镍硼镀层的工艺研究有了许多新的进展。近些年来,通过对绿色环保的新型稳定剂和无稳定剂镀液体系的探索、加速剂和表面活性剂的合理使用、等离子体氮化等后处理方法的应用、多层镀层与复合镀层以及三元合金镀层的深入探索,化学镀镍硼的工艺研究发展迅速,其应用范围也在原本对耐磨、耐腐蚀性能需求较高的传统领域之外,拓展出了电子工业、特种材料工业等新兴领域。目前,在化学镀镍的所有镀层中,镍硼镀层的硬度最高,除这些传统性能外,镍硼镀层还具有高反射率、低电阻率和优秀的磁性能。综述了化学镀镍硼镀层在基础理论研究、工艺研究、性能及应用研究3个方面的成果与进展,指出了未来镍硼镀层的再处理再循环工艺、工业化、原料成本等在环保、技术、经济方面可能遇到的一些机遇、挑战和有待改善之处,展望了未来镍硼镀层研究的关注重点和发展趋势。 展开更多
关键词 化学镀 镍硼合金 文献综述 工艺研究 性能应用
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