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纳米粉体(CeO_2)_(0.9-x)(GdO_(1.5))_x(Sm_2O_3)_(0.1)的溶胶-凝胶低温燃烧合成 被引量:19
1
作者 大兵 胡建东 +4 位作者 连建设 张秀燕 陈积伟 郭作兴 王红颖 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期340-343,共4页
采用溶胶 -凝胶法与低温燃烧法相结合 ,合成了 (CeO2 ) 0 .9-x(GdO1 .5 ) x(Sm2 O3) 0 .1 系列粉体 .结果表明 :由硝酸盐与柠檬酸混合形成的凝胶 ,可在较低温度 (2 0 0~ 3 0 0℃ )点火并燃烧 ,其火焰温度达 90 0℃以上 .经TEM ,XRD测... 采用溶胶 -凝胶法与低温燃烧法相结合 ,合成了 (CeO2 ) 0 .9-x(GdO1 .5 ) x(Sm2 O3) 0 .1 系列粉体 .结果表明 :由硝酸盐与柠檬酸混合形成的凝胶 ,可在较低温度 (2 0 0~ 3 0 0℃ )点火并燃烧 ,其火焰温度达 90 0℃以上 .经TEM ,XRD测试 ,燃烧后即直接形成了粒径为 2 0~ 3 0nm ,具有萤石结构的单相粉体 ,由该粉体制备的固体电解质在中温下电导率为 5 .8× 10 - 2 S/cm ,组装的单个H2 -O2 燃料电池最大功率密度达 70mW 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 低温燃烧 氧化铈 固体电解质 纳米粉体 合成 (CeO2)0.9-x(GdO1.5)x(Sm2O3)0.1
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电泳和电镀法增强碳纳米管场发射特性的研究 被引量:10
2
作者 陈雷锋 蒋红 +6 位作者 宋航 赵海峰 李志明 大兵 郭万国 曹连振 刘霞 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期64-67,共4页
碳纳米管(CNT)和衬底的电学接触问题是获得高性能CNT电子器件的一个关键性的问题。本文采用电泳电镀方法制备CNT冷阴极,有效改善了CNT与衬底间接触电阻,增强了碳纳米管场发射性能。电泳电镀法制备的碳纳米管冷阴极场发射的开启电场(电... 碳纳米管(CNT)和衬底的电学接触问题是获得高性能CNT电子器件的一个关键性的问题。本文采用电泳电镀方法制备CNT冷阴极,有效改善了CNT与衬底间接触电阻,增强了碳纳米管场发射性能。电泳电镀法制备的碳纳米管冷阴极场发射的开启电场(电流密度为10μA.cm-2时的电场)由2.95 V.μm-1降低到1.0V.μm-1,在电场为8V.μm-1时电流密度由0.224增加到0.8112mA.cm-2。在电流密度为800μA.cm-2时进行1h的场发射稳定性测试,结果表明,电泳电镀法所得CNT场发射电子源电流密度几乎不变,而且电流密度比较稳定;而只有电泳的方法获得的CNT场发射电子源电流密度波动较大,电流不稳定且呈较快的衰减趋势,1h后减少到原来的75%。采用电泳电镀方法制备CNT阴极,CNT的根部被纳米银颗粒覆盖和包裹,使CNT与衬底接触更加牢固而紧密,又由于银具有很好的导电性,从而大大减小了接触电阻,因此电泳电镀法能大大改善CNT与衬底的电学接触性能。 展开更多
关键词 碳纳米管 场发射 电泳 电镀 纳米银颗粒 接触电阻
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缓冲层厚度对MOCVD法生长GaN外延薄膜性能的影响 被引量:6
3
作者 吴洁君 韩修训 +6 位作者 李杰民 大兵 魏宏远 康亭亭 王晓晖 刘祥林 王占国 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期466-470,共5页
本文研究了低温GaN(LTGaN)缓冲层表面形貌,其随厚度的变化规律及对随后生长GaN外延膜各项性能的影响。用场发射扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)研究LTGaN缓冲层表面形貌,发现随着厚度的增加,其表面由疏松、粗糙变得致密、平整,六角Ga... 本文研究了低温GaN(LTGaN)缓冲层表面形貌,其随厚度的变化规律及对随后生长GaN外延膜各项性能的影响。用场发射扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)研究LTGaN缓冲层表面形貌,发现随着厚度的增加,其表面由疏松、粗糙变得致密、平整,六角GaN小晶粒的数量减少,且取向较为一致。用X光双晶衍射(XRD)、AFM和Hall测量研究1μm厚本征GaN外延薄膜的结晶质量、表面粗糙度、背底载流子浓度和迁移率等性能,发现随着LTGaN缓冲层厚度的增加:XRD的半高宽FWHMs增大,表面粗糙度先减小后又略有增大,背底载流子浓度则随之减少,而迁移率的变化则不明显。通过分析进一步确认LTGaN缓冲层的最优生长时间。 展开更多
关键词 缓冲层厚度 GAN 蓝宝石衬底 MOCVD
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表面应力诱导InGaN量子点的生长及其性质 被引量:3
4
作者 李昱峰 韩培德 +2 位作者 陈振 大兵 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期39-43,共5页
为了得到高性能的 Ga N基发光器件 ,有源层采用 MOCVD技术和表面应力的不均匀性诱导方法生长了 In-Ga N量子点 ,并通过原子力显微镜 (AFM)、透射电子显微镜 (TEM)和光致发光 (PL )谱对其微观形貌和光学性质进行了观察和研究 .AFM和 TEM... 为了得到高性能的 Ga N基发光器件 ,有源层采用 MOCVD技术和表面应力的不均匀性诱导方法生长了 In-Ga N量子点 ,并通过原子力显微镜 (AFM)、透射电子显微镜 (TEM)和光致发光 (PL )谱对其微观形貌和光学性质进行了观察和研究 .AFM和 TEM观察结果表明 :In Ga N/ Ga N为平均直径约 30 nm,高度约 2 5 nm的圆锥 ;In Ga N量子点主要集中在圆锥形的顶部 ,其密度达到 5 .6× 10 1 0 cm- 2 .室温下 ,In Ga N量子点材料 PL谱强度大大超出相同生长时间的 In Ga N薄膜材料 ,这说明 In Ga N量子点有望作为高性能有源层材料应用于 Ga N基发光器件 . 展开更多
关键词 表面应力 INGAN 量子点 生长 铟镓氮化合物 MOCVD
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球磨法改善电学接触增强碳纳米管场发射性能 被引量:4
5
作者 陈雷锋 宋航 +3 位作者 蒋红 赵海峰 李志明 大兵 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期44-47,56,共5页
本文采用CNT与纳米银颗粒混合球磨的方法,改善了CNT与衬底电极的电学接触性能。并比较了球磨和电泳两种方法分别获得的CNT的场发射特性,结果表明:采用球磨法所获得的CNT场发射阴极的场发射性能远远优于电泳法。在球磨过程中,由于钢球、... 本文采用CNT与纳米银颗粒混合球磨的方法,改善了CNT与衬底电极的电学接触性能。并比较了球磨和电泳两种方法分别获得的CNT的场发射特性,结果表明:采用球磨法所获得的CNT场发射阴极的场发射性能远远优于电泳法。在球磨过程中,由于钢球、纳米银颗粒、CNT和衬底之间互相挤压,使CNT和银颗粒及衬底之间形成紧密牢固的接触,减少了界面的接触电阻,从而大大改善了界面的电学接触性能。而电泳沉积的CNT和衬底之间基本上是简单的物理附着力,接触电阻很大,而且由于这种作用力相对较弱,往往会导致发射体本身不稳定。球磨提供了一种改善电学接触的简单有效方法,并且适合于大规模生产CNT场发射冷阴极。 展开更多
关键词 碳纳米管 场发射 球磨 电泳 接触电阻
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GaN基MIS紫外探测器的电学及光电特性 被引量:4
6
作者 尤坤 宋航 +6 位作者 大兵 刘洪波 李志明 陈一仁 蒋红 孙晓娟 缪国庆 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期55-61,共7页
制备了GaN基金属-绝缘层-半导体(MIS)结构紫外探测器,并测量了其暗电流和光谱响应。通过分析其暗电流,发现在反偏情况下,其主要电流输运机制为隧穿复合机制;在正偏情况下,随着偏压的增大,电流输运机制从隧穿机制变为空间电荷限制电流机... 制备了GaN基金属-绝缘层-半导体(MIS)结构紫外探测器,并测量了其暗电流和光谱响应。通过分析其暗电流,发现在反偏情况下,其主要电流输运机制为隧穿复合机制;在正偏情况下,随着偏压的增大,电流输运机制从隧穿机制变为空间电荷限制电流机制。光谱响应测试结果显示,该探测器在-5 V的偏压下,在315 nm处获得了最大响应度170 mA/W,探测度为2.3×1012cm.Hz1/2.W-1。此外,还研究了不同厚度I层对器件光电压的影响,结果表明,光电压受隧穿机制与漏电流机制的共同制约。 展开更多
关键词 氮化镓 氮化硅 探测器 电流输运机制
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直流反应磁控溅射在氮化的蓝宝石衬底上制备AlN薄膜(英文) 被引量:2
7
作者 王新建 宋航 +6 位作者 大兵 蒋红 李志明 缪国庆 孙晓娟 陈一仁 贾辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期227-232,共6页
通过直流磁控反应溅射装置,在蓝宝石(0001)衬底和氮化的蓝宝石(0001)衬底上成功制备了氮化铝(AIN)薄膜。利用X射线衍射仪、原子力学显微镜和双光束扫描分光计,研究了蓝宝石氮化对AIN薄膜结构、应力、晶粒尺寸、形貌和光学性质的影响。X... 通过直流磁控反应溅射装置,在蓝宝石(0001)衬底和氮化的蓝宝石(0001)衬底上成功制备了氮化铝(AIN)薄膜。利用X射线衍射仪、原子力学显微镜和双光束扫描分光计,研究了蓝宝石氮化对AIN薄膜结构、应力、晶粒尺寸、形貌和光学性质的影响。X射线衍射研究表明:制备的AIN薄膜具有较强的(0002)择优取向,蓝宝石衬底的氮化不仅能够改善AIN结晶质量,而且还可以减少薄膜的残余应力。但是,原子力学显微镜结果表明:在蓝宝石衬底上制备的AIN薄膜的晶粒大小分布比在氮化的蓝宝石衬底上制备的AIN薄膜的晶粒大小分布更加均匀。我们认为,蓝宝石衬底在氮化的过程中形成的AIN具有过多的位错和缺陷,正是这些位错和缺陷造成了在氮化的蓝宝石衬底上制备的AIN薄膜的晶粒大小分布的不均匀性。吸收光谱显示:蓝宝石衬底的氮化并没有对AIN薄膜的光学性质产生明显的改善。 展开更多
关键词 晶体结构 光吸收 表面形貌
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初始化生长条件对a-GaN中应变的影响 被引量:2
8
作者 贾辉 陈一仁 +5 位作者 孙晓娟 大兵 宋航 蒋红 缪国庆 李志明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期581-585,共5页
利用高分辨X射线衍射(HRXRD)与拉曼散射光谱(Raman scattering spectra)研究了氮化处理与低温AlN缓冲层对低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)在r面蓝宝石衬底上外延的a面GaN薄膜中的残余应变的影响。实验结果表明:与氮化处理后生长的a-... 利用高分辨X射线衍射(HRXRD)与拉曼散射光谱(Raman scattering spectra)研究了氮化处理与低温AlN缓冲层对低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)在r面蓝宝石衬底上外延的a面GaN薄膜中的残余应变的影响。实验结果表明:与氮化处理后生长的a-GaN相比,使用低温AlN缓冲层后生长的a-GaN具有较小的摇摆曲线的半高宽和较低的残余应变,而且其结构各向异性和残余应变各向异性也均有一定程度的降低。因此,与氮化处理相比,低温AlN缓冲层更有利于a-GaN的生长。 展开更多
关键词 a-GaN 各向异性 拉曼散射光谱 残余应变
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InGaAlN四元合金的光学性质和低维结构 被引量:1
9
作者 刘祥林 董逊 大兵 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第1期5-9,共5页
研究了用MOCVD方法生长InGaAlN四元合金材料的生长规律,发现生长温度在800~880℃,其In组分随生长温度升高而降低。用变温光致发光谱和时间分辨谱研究了InGaAlN的光学性质。光致发光谱表明InGaAlN的发光强度随温度衰减规律与InGaN类似,... 研究了用MOCVD方法生长InGaAlN四元合金材料的生长规律,发现生长温度在800~880℃,其In组分随生长温度升高而降低。用变温光致发光谱和时间分辨谱研究了InGaAlN的光学性质。光致发光谱表明InGaAlN的发光强度随温度衰减规律与InGaN类似,但比GaN慢,室温下比GaN的发光强度大1个数量级以上。时间分辨光谱表明,在InGaAlN中存在低维结构的铟聚集区———在没有高温GaN中间层的InGaAlN材料中存在类似量子盘的二维铟聚集区;而在有高温GaN中间层的InGaAlN材料中存在类似量子点的零维铟聚集区。 展开更多
关键词 铟镓铝氮 四元合金 光学性质 低维结构 铟聚集 晶格常数 禁带宽度 量子阱 发光二极管 时间分辨光谱
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GaN的声表面波特性研究 被引量:1
10
作者 严莉 陈晓阳 +12 位作者 何世堂 李红浪 韩培德 陈振 陆大成 刘祥林 王晓晖 李昱峰 袁海荣 陆沅 大兵 朱勤生 王占国 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期161-164,共4页
采用金属有机物化学气相外延方法在(0001)面蓝宝石上生长了高质量、高阻的未掺杂(0001)面GaN薄膜。为精确测量GaN薄膜材料的声表面波特性,在GaN薄膜表面上沉积了金属叉指换能器,叉指换能器采用等叉指结构,叉指的数目为40对,叉指间距为15... 采用金属有机物化学气相外延方法在(0001)面蓝宝石上生长了高质量、高阻的未掺杂(0001)面GaN薄膜。为精确测量GaN薄膜材料的声表面波特性,在GaN薄膜表面上沉积了金属叉指换能器,叉指换能器采用等叉指结构,叉指的数目为40对,叉指间距为15μm。采用脉冲法测量了声表面波在自由表面和金属表面上的速度,并通过计算得到了机电耦合系数(κ2)。所测量的声表面波速度(v)为5667m/s,机电耦合系数(κ2)为1 9%。 展开更多
关键词 GAN 声表面波特性 氮化镓 声表面波速度 机电耦合系数 薄膜生长 声表面波器件
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InGaN量子点的诱导生长和发光特性研究 被引量:2
11
作者 李昱峰 韩培德 +6 位作者 陈振 大兵 王占国 刘祥林 陆大成 王晓晖 汪度 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期380-384,T001,共6页
降低InGaN的维数是提高GaN基发光器件发光效率的一种非常有效的方法,本文的工作主要集中在高密度InGaN量子点的生长和分析上。在MOCVD设备上,经过钝化和低温两个特殊工艺条件,在高温GaN表面生长了一层低温岛状GaN,形成表面形貌的起伏,... 降低InGaN的维数是提高GaN基发光器件发光效率的一种非常有效的方法,本文的工作主要集中在高密度InGaN量子点的生长和分析上。在MOCVD设备上,经过钝化和低温两个特殊工艺条件,在高温GaN表面生长了一层低温岛状GaN,形成表面形貌的起伏,进而导致表面应力的不均匀分布。在这一层低温岛状GaN的诱导性作用下生长并形成InGaN量子点。通过原子力显微镜、透射电子显微镜和光致发光谱对其微观形貌和光学性质进行了观察和研究。从原子力显微镜以及透射电子显微镜观察得到的结果表明:InGaN量子点为平均直径约30nm、高度约25nm、分布较均匀的圆锥,其密度约1011cm-2。室温下,InGaN量子点材料的PL谱强度大大超出相同条件生长的InGaN薄膜材料。这些现象表明,用InGaN量子点代替普通InGaN薄膜,有望获得发光效率更高的GaN基发光器件。 展开更多
关键词 INGAN 量子点 诱导生长 发光特性 微观形貌 氮镓铟化合物 半导体
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Si衬底上InP纳米线的晶体结构和光学性质 被引量:2
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作者 于淑珍 缪国庆 +6 位作者 金亿鑫 张立功 宋航 蒋红 大兵 李志明 孙晓娟 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期767-772,共6页
采用金属有机化学气相沉积技术,利用自催化法,在Si(100)、(111)衬底上成功生长了InP纳米线。利用扫描电镜观察样品表面,在Si(100)、(111)衬底上生长的纳米线形貌相似,纳米线面密度不同。利用X射线衍射和透射电镜研究纳米线的生长取向和... 采用金属有机化学气相沉积技术,利用自催化法,在Si(100)、(111)衬底上成功生长了InP纳米线。利用扫描电镜观察样品表面,在Si(100)、(111)衬底上生长的纳米线形貌相似,纳米线面密度不同。利用X射线衍射和透射电镜研究纳米线的生长取向和晶体结构,结果显示纳米线具有闪锌矿结构,生长方向〈111〉,并且具有层状孪晶结构。与InP体材料相比,纳米线的光致发光峰位蓝移,半峰全宽增大,拉曼散射TO和LO峰向低波数频移,频移随激发光功率减弱而减小。 展开更多
关键词 INP 纳米线 金属有机化学气相沉积
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大失配、强极化第三代半导体材料体系生长动力学和载流子调控规律 被引量:2
13
作者 王新强 大兵 +2 位作者 刘斌 孙钱 张进成 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期1305-1309,共5页
高质量氮化镓(Ga N)材料是发展第三代半导体光电子与微电子器件的根基。大失配、强极化和非平衡态生长是Ga N基材料及其量子结构的固有特点,对其生长动力学和载流子调控规律的研究具有重要的科学意义与实用价值,受到各国科学界与产业界... 高质量氮化镓(Ga N)材料是发展第三代半导体光电子与微电子器件的根基。大失配、强极化和非平衡态生长是Ga N基材料及其量子结构的固有特点,对其生长动力学和载流子调控规律的研究具有重要的科学意义与实用价值,受到各国科学界与产业界广泛高度重视。本文对大失配、强极化氮化物半导体材料体系外延生长动力学和载流子调控规律进行了研究,旨在攻克蓝光发光效率限制瓶颈,突破高Al和高In氮化物材料制备难题,实现高发光效率量子阱和高迁移率异质结构,制备多波段、高效率发光器件和高频率、高耐压电子器件,实现颠覆性的技术创新和应用,带动电子材料产业转型升级。 展开更多
关键词 氮化镓 大失配 强极化 生长动力学 载流子调控
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Review of improved spectral response of ultraviolet photodetectors by surface plasmon 被引量:3
14
作者 You Wu Xiao-Juan Sun +1 位作者 Yu-Ping Jia Da-Bing Li 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第12期35-45,共11页
Ultraviolet(UV) photodetectors based on wide band gap semiconductor have attracted much attention for their small volume, low working voltage, long lifetime, good chemical and thermal stability. Up to now, many resear... Ultraviolet(UV) photodetectors based on wide band gap semiconductor have attracted much attention for their small volume, low working voltage, long lifetime, good chemical and thermal stability. Up to now, many researches have been done on the semiconductors based UV detectors and some kinds of detectors have been made, such as metal–semiconductor–metal(MSM), Schottky, and PIN-type detectors. However, the sensitivity values of those detectors are still far from the expectation. Recent years, surface plasmon(SP) has been considered to be an effective way to enhance the sensitivity of semiconductor based UV photodetector. When the light is matched with the resonance frequency of surface plasmon, the localized field enhancement or scattering effect will happen and thus the spectral response will be enhanced.Here, we present an overview of surface plasmon enhancing the performance of UV detectors, including the GaN, ZnO,and other wide band gap semiconductor UV detectors. Both fundamental and experimental achievements are contained in this review. 展开更多
关键词 detectors surface plasmonic GAN ULTRAVIOLET
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预通三甲基铝对AlN薄膜的结构与应变的影响(英文) 被引量:1
15
作者 贾辉 陈一仁 +5 位作者 孙晓娟 大兵 宋航 蒋红 缪国庆 李志明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期82-87,共6页
采用有机金属化学气相沉积设备用两步生长法在(0001)蓝宝石衬底上制备AlN薄膜。研究了预通三甲基铝(TMAl)使衬底铝化对外延AlN的影响。利用高分辨X射线衍射(XRD)技术和扫描电子显微镜(SEM)分析了样品的结晶质量以及外延膜中的残余应力... 采用有机金属化学气相沉积设备用两步生长法在(0001)蓝宝石衬底上制备AlN薄膜。研究了预通三甲基铝(TMAl)使衬底铝化对外延AlN的影响。利用高分辨X射线衍射(XRD)技术和扫描电子显微镜(SEM)分析了样品的结晶质量以及外延膜中的残余应力。通过SEM观察发现,短时间的预通TMAl处理对AlN薄膜表面的影响不大;但随着预通时间的增加,表面会出现六角形的岛。通过优化TMAl的预通时间可以保护衬底被氮化有利于Al极性面AlN的生长,从而得到的Al极性面AlN表面比较平整;但是预通TMAl时间过长会使衬底表面沉积金属态铝而不容易形成平整的表面。X射线双晶摇摆曲线结果表明:样品的(0002)和(1012)面的X射线双晶摇摆曲线的半峰宽随着预通TMAl时间的不断增加,由此得出薄膜的晶体质量不断下降。这可以解释为:预通TMAl使形成的晶核不再规则,从而在成核层形成了很多亚颗粒降低了晶体质量。进一步对XRD结果分析,我们也发现了这样的应力变化。这种应力的变化起源可以归结于内应力(岛的合并在其晶界引入的应力)与外应力(晶格失配与热失配引起的应力)共同作用的结果。 展开更多
关键词 金属有机物气相沉积 ALN 预通三甲基铝(TMAl) 应力
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钝化低温法生长多层InGaN量子点的结构和光学特性
16
作者 陈振 韩培德 +9 位作者 陆大成 刘祥林 王晓晖 李昱峰 袁海荣 陆沅 大兵 王秀凤 朱勤生 王占国 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期135-138,共4页
采用一种新方法生长多层InGaN/GaN量子点,研究所生长样品的结构和光学特性。该方法采用了低温生长和钝化工艺,所以称之为钝化低温法。第一层InGaN量子点的尺寸平均宽度40nm,高度15nm,量子点密度为6 3×1010/cm2。随着层数的增加,量... 采用一种新方法生长多层InGaN/GaN量子点,研究所生长样品的结构和光学特性。该方法采用了低温生长和钝化工艺,所以称之为钝化低温法。第一层InGaN量子点的尺寸平均宽度40nm,高度15nm,量子点密度为6 3×1010/cm2。随着层数的增加,量子点的尺寸也逐渐增大。在样品的PL谱测试中,观察到在In(Ga)As材料系中普遍观察到的量子点发光的温度特性———超长红移现象。它们的光学特性表明:采用钝化低温法生长的纳米结构中存在零维量子限制效应。 展开更多
关键词 INGAN 外延生长 多层薄膜 铟镓氮三元化合物半导体 量子点 钝化低温法 零维量子限制效应
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多层GaSb(QDs)/GaAs生长中量子点的聚集及发光特性 被引量:1
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作者 竹敏 宋航 +5 位作者 蒋红 缪国庆 大兵 李志明 孙晓娟 陈一仁 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期859-863,共5页
通过对多层GaSb量子点的生长研究,发现随着生长层数的增加,量子点尺寸逐渐变大,密度没有明显变化,并且量子点出现了聚集现象;当层数增加到一定数量、量子点聚集到一定大小时,聚集的量子点处会出现空洞。这些现象表明,各层量子点在生长... 通过对多层GaSb量子点的生长研究,发现随着生长层数的增加,量子点尺寸逐渐变大,密度没有明显变化,并且量子点出现了聚集现象;当层数增加到一定数量、量子点聚集到一定大小时,聚集的量子点处会出现空洞。这些现象表明,各层量子点在生长过程中存在关联效应,并且GaAs层不能很好地覆盖在聚集的量子点之上,在继续生长其它量子点层时,聚集的量子点处在高温下出现GaSb的蒸发,从而出现空洞。PL谱出现了很宽的量子点发光峰,这很可能是由于多层量子点在生长时大小分布较宽而导致的结果。 展开更多
关键词 LP—MOCVD GaSb量子点 PL谱 关联效应
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金属有机物气相外延生长InAlGaN薄膜及其性能表征(英文)
18
作者 大兵 董逊 +2 位作者 刘祥林 王晓晖 王占国 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期539-544,共6页
在不同的生长温度和载气的条件下 ,采用低压金属有机物气相外延方法生长了系列的InAlGaN薄膜 ,通过能量色散谱 (EDS) ,高分辨X射线衍射 (HRXRD)和光致发光谱 (PL)对样品进行表征与分析 ,研究了生长工艺对InAlGaN外延层结构和光学性能的... 在不同的生长温度和载气的条件下 ,采用低压金属有机物气相外延方法生长了系列的InAlGaN薄膜 ,通过能量色散谱 (EDS) ,高分辨X射线衍射 (HRXRD)和光致发光谱 (PL)对样品进行表征与分析 ,研究了生长工艺对InAlGaN外延层结构和光学性能的影响。发现当以氮气做载气时 ,样品的发光很弱并且在 5 5 0nm附近存在一个很宽的深能级发光峰 ;当采用氮气和氢气的混合气做载气时 ,样品中的深能级发光峰消失且发光强度明显提高。以混合气做载气 ,InAlGaN薄膜中铟的组分随生长温度的升高而降低 ,而薄膜的结构和光学性能却提高。结合PL和HRXRD的测试结果得到了较佳的生长参数 :即载气为氢气和氮气的混合气以及生长温度在 85 0℃到 870℃。 展开更多
关键词 低压金属有机物气相外延方法 InAlGaN薄膜 能量色散谱 高分辨X射线衍射 光致发光谱 生长工艺 氮气
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AlN插入层对a-AlGaN的外延生长的影响(英文) 被引量:1
19
作者 贾辉 陈一仁 +5 位作者 孙晓娟 大兵 宋航 蒋红 缪国庆 李志明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期519-524,共6页
采用有机金属化学气相沉积(MOCVD)在r面蓝宝石衬底上生长a-AlGaN外延膜,研究了AlN插入层对a-AlGaN外延膜的应力和光学性质的影响。根据高分辨X射线衍射(HRXRD)技术和扫描电子显微镜(SEM)我们可以得到,AlN插入层有效地提高了a-AlGaN外延... 采用有机金属化学气相沉积(MOCVD)在r面蓝宝石衬底上生长a-AlGaN外延膜,研究了AlN插入层对a-AlGaN外延膜的应力和光学性质的影响。根据高分辨X射线衍射(HRXRD)技术和扫描电子显微镜(SEM)我们可以得到,AlN插入层有效地提高了a-AlGaN外延膜的晶体质量并减小了外延膜材料结构的各向异性。由拉曼光谱得到AlN插入层的引入减小了a-AlGaN外延膜的面内压应力,其原因是AlN插入层可以当作衬底有效的调制与减小a-AlGaN外延膜与r面蓝宝石衬底的晶格失配,从而使a-AlGaN的面内应力得到适当释放。对室温下的光致发光进行测量得到AlN插入层的使用使近带边发射峰(NBE)发生了红移,这可能是由于残余应力的减小引起。 展开更多
关键词 a-AlGaN AlN插入层 应力 拉曼光谱 光致发光
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氮化铝薄膜的硅热扩散掺杂研究(英文) 被引量:1
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作者 王新建 宋航 +5 位作者 大兵 蒋红 李志明 缪国庆 陈一仁 孙晓娟 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期768-773,共6页
采用热扩散方法,对AlN薄膜进行了Si掺杂。利用电子能量散射谱(EDS)以及高温变温电导对薄膜进行了分析。EDS测试结果表明:在1 250℃的温度下,氮化硅(SiNx)作为Si的扩散源,可以实现对AlN薄膜的Si热扩散掺杂。高温电流-电压(I-V)测试表明:... 采用热扩散方法,对AlN薄膜进行了Si掺杂。利用电子能量散射谱(EDS)以及高温变温电导对薄膜进行了分析。EDS测试结果表明:在1 250℃的温度下,氮化硅(SiNx)作为Si的扩散源,可以实现对AlN薄膜的Si热扩散掺杂。高温电流-电压(I-V)测试表明:在460℃测试温度下,AlN薄膜在热扩散掺杂以后,其电导从1.9×10-3S.m-1增加到2.1×10-2S.m-1。高温变温电导测试表明:氮空位(V3N+)和Si在AlN中的激活能为1.03 eV和0.45 eV。 展开更多
关键词 杂质 氮化物 热扩散
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