V含量对TaVN复合膜微结构、力学性能和摩擦性能的影响 被引量：7

1

作者 许俊华 薛雅平 +1 位作者 曹峻 喻利花 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期769-774,共6页

采用磁控溅射仪制备了一系列不同V含量的TaVN复合膜,利用X射线衍射仪研究复合膜以及磨痕的相组成,利用纳米压痕仪表征复合膜的硬度,采用高温摩擦磨损实验机研究了复合膜的室温和高温摩擦性能。结果表明:TaVN复合膜的微结构为面心立方结... 采用磁控溅射仪制备了一系列不同V含量的TaVN复合膜,利用X射线衍射仪研究复合膜以及磨痕的相组成,利用纳米压痕仪表征复合膜的硬度,采用高温摩擦磨损实验机研究了复合膜的室温和高温摩擦性能。结果表明:TaVN复合膜的微结构为面心立方结构,随着V含量的增加,衍射峰择优取向由(200)转变为(111);TaVN薄膜的显微硬度随着V含量增加,先增加后降低,在V含量为18.25at%时,显微硬度达到最大值,为32.3 GPa;在常温下,TaVN复合膜的摩擦系数随着V含量的增加而降低;当温度从室温升高到800℃,薄膜的摩擦系数先升高后降低。采用晶体化学理论讨论了TaVN复合膜和TaN单层膜在高温下的摩擦机理。 展开更多

关键词 TaVN复合膜 磁控溅射 力学性能 摩擦性能

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负偏压对磁控溅射制备Ru薄膜微结构、膜基结合力及耐蚀性能的影响 被引量：5

2

作者 许俊华 薛雅平 +4 位作者 鞠洪博 贺盛 陈敏 郭丽萍 喻利花 《江苏科技大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2016年第5期430-434,共5页

采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了不同负偏压的Ru薄膜,利用XRD、台阶仪、XPS、AFM、纳米划痕仪和电化学工作站对薄膜相结构、表面形貌、膜基结合力以及腐蚀电化学性能进行了研究.结果表明：当负偏压在0~100 V时,薄膜六方结构（hcp）,具有... 采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了不同负偏压的Ru薄膜,利用XRD、台阶仪、XPS、AFM、纳米划痕仪和电化学工作站对薄膜相结构、表面形貌、膜基结合力以及腐蚀电化学性能进行了研究.结果表明：当负偏压在0~100 V时,薄膜六方结构（hcp）,具有（002）择优取向.随负偏压的升高,薄膜中出现面心立方（fcc）Ru O2相,此时薄膜两相共存,即hcp-Ru＋fcc-Ru O2.薄膜表面粗糙度随负偏压的升高先降低后升高,当负偏压为100 V时,薄膜表面粗糙度最低,其最低值为0.639 nm.薄膜的膜基结合力及在3.5%Na Cl溶液中的耐蚀性能先升高后降低,当负偏压为100 V时,膜基结合力及耐蚀性能最佳. 展开更多

关键词 磁控溅射 Ru薄膜 负偏压 耐蚀性能

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TaMoN复合膜的微结构、力学性能与摩擦性能 被引量：2

3

作者 许俊华 薛雅平 +1 位作者 曹峻 喻利花 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期1412-1416,共5页

采用多靶磁控溅射技术,根据不同Mo靶功率制备一系列不同Mo含量的TaMoN复合膜。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪、扫描电子显微镜及其配套的能谱仪研究复合膜的相组成、力学性能、室温和高温下的摩擦性能。结果表明,TaMoN... 采用多靶磁控溅射技术,根据不同Mo靶功率制备一系列不同Mo含量的TaMoN复合膜。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪、扫描电子显微镜及其配套的能谱仪研究复合膜的相组成、力学性能、室温和高温下的摩擦性能。结果表明,TaMoN复合膜的微结构是由面心立方、密排六方与底心斜方组成的多相结构;TaMoN复合膜的硬度比TaN单层膜的硬度高,且随着Mo含量的增加先升高后降低,在Mo含量为52.68 at%时达到最大值,为33.9 GPa;Mo元素的添加可以有效改善TaN薄膜在常温和高温下的摩擦性能,通过对磨痕的分析,详细解释了TaMoN复合膜具有优异的减摩性能的原因。 展开更多

关键词 TaMoN复合膜 磁控溅射 微结构 力学性能 摩擦性能

原文传递

负偏压对磁控溅射TaN薄膜微观结构和性能的影响 被引量：1

4

作者 薛雅平 曹峻 +1 位作者 喻利花 许俊华 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期1923-1930,共8页

采用磁控溅射技术制备一系列不同负偏压的TaN薄膜。分别采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究不同负偏压对单层TaN薄膜的微观结构、表面形貌、力学性能和摩擦性能的影响。结果表明：TaN薄膜... 采用磁控溅射技术制备一系列不同负偏压的TaN薄膜。分别采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究不同负偏压对单层TaN薄膜的微观结构、表面形貌、力学性能和摩擦性能的影响。结果表明：TaN薄膜主要为面心δ-TaN和斜方Ta 4 N晶体结构，择优取向随着负偏压的不同而不同；当负偏压为80 V时，TaN薄膜的硬度和弹性模量均达到最大值，分别为30.103和317.048 GPa，并且此时薄膜的膜？基结合最强；常温下单层TaN薄膜的摩擦因数与负偏压关系不大，基本保持在0.64~0.68之间；高温下，随着温度的升高，摩擦因数逐渐降低。 展开更多

关键词 TaN薄膜 负偏压 微观结构 摩擦性能

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论出版社品牌战略的实现 被引量：2

5

作者 薛雅平 《编辑学刊》 CSSCI 北大核心 2004年第4期12-15,共4页

关键词 出版社 品牌战略 品牌决策 品牌定位 品牌推广 品牌管理

原文传递

屯留县节水灌溉建设与发展对策 被引量：1

6

作者 薛雅平 《科技情报开发与经济》 2004年第9期95-96,共2页

针对屯留县水资源紧缺状况,从提高节水意识、科学规划、建设节水工程、实施田间节水等方面,提出了加强节水灌溉建设与发展的对策。

关键词 节水灌溉 节水工程 屯留县

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加强单位内部会计控制提高经营管理效率

7

作者 薛雅平 《现代企业》 2007年第9期62-63,共2页

内部控制是指单位为了提高经营管理效率，保证信息质量真实可靠，保护资产安全完整，促进法律法规有效遵循和发展战略得以实现等而由单位管理层及其员工共同实施的一个权责明确、制衡有力、动态改进的管理过程。内部会计控制是内部控制... 内部控制是指单位为了提高经营管理效率，保证信息质量真实可靠，保护资产安全完整，促进法律法规有效遵循和发展战略得以实现等而由单位管理层及其员工共同实施的一个权责明确、制衡有力、动态改进的管理过程。内部会计控制是内部控制的重要组成部分，是既立足于会计，又不限于会计而实施的一系列方法、措施和程序及其动态改进过程。 展开更多

关键词 内部会计控制 经营管理效率 单位 内部控制 信息质量 资产安全 权责明确 法律法规

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新旧无形资产准则变化的比较与分析

8

作者 薛雅平 《现代审计与经济》 2007年第B12期15-16,共2页

2006年2月，我国财政部公布了新的《企业会计准则》（以下简称新准则），新准则已于2007年1月首先在上市公司中推行。这是自1993年颁布《企业会计准则》以来所做的最全面的一次修订。是以国际上通行的国际会计准则为基础，立足我国国情... 2006年2月，我国财政部公布了新的《企业会计准则》（以下简称新准则），新准则已于2007年1月首先在上市公司中推行。这是自1993年颁布《企业会计准则》以来所做的最全面的一次修订。是以国际上通行的国际会计准则为基础，立足我国国情编制的，它涵盖了我国的所有企业．以后，我国的企业将不分行业、不分内外资企业。统一执行这一准则。现仅就新旧准则中无形资产准则的变化作一比较。对无形资产新准则的意义及对企业的影响进行简单分析。 展开更多

关键词 无形资产准则 《企业会计准则》 国际会计准则 内外资企业 上市公司 财政部 编制 行业

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对新旧无形资产准则变化的分析与比较

9

作者 薛雅平 《现代企业》 2007年第8期62-63,共2页

我国财政部公布了新的《企业会计准则》是以国际上通行的国际会计准则为基础，立足我国国情编制的，它涵盖了我国的所有企业，以后，我国的企业将不分行业、不分内外资企业，统一执行这一准则。现仅就新旧准则中无形资产准则的变化作一... 我国财政部公布了新的《企业会计准则》是以国际上通行的国际会计准则为基础，立足我国国情编制的，它涵盖了我国的所有企业，以后，我国的企业将不分行业、不分内外资企业，统一执行这一准则。现仅就新旧准则中无形资产准则的变化作一比较，对无形资产新准则的意义以及对企业的影响进行简单分析。 展开更多

关键词 无形资产准则 《企业会计准则》 国际会计准则 内外资企业 财政部 编制 行业

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退火温度对磁控溅射Ru薄膜结构及膜基结合力的影响 被引量：2

10

作者 薛雅平 鞠洪博 +3 位作者 陈敏 郭丽萍 喻利花 许俊华 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期125-127,共3页

采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了Ru薄膜,利用真空退火炉、EDS、XRD,台阶仪及纳米划痕仪等设备研究了不同退火温度对Ru薄膜化学成分、相结构、残余应力及膜基结合力的影响。结果表明,不同退火温度处理下的Ru薄膜呈六方Ru结构,具有(002)... 采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了Ru薄膜,利用真空退火炉、EDS、XRD,台阶仪及纳米划痕仪等设备研究了不同退火温度对Ru薄膜化学成分、相结构、残余应力及膜基结合力的影响。结果表明,不同退火温度处理下的Ru薄膜呈六方Ru结构,具有(002)择优取向,当退火温度为600℃时,薄膜出现氧化相。退火处理能够改善薄膜结晶程度。随退火温度的升高,薄膜残余应力逐渐降低,膜基结合力先升高后降低,当退火温度为300℃时,膜基结合力最高,约为17.6 N。 展开更多

关键词 磁控溅射 Ru薄膜 退火温度 膜基结合力

原文传递

基本建设资金管理“常见病”的防控 被引量：1

11

作者 薛雅平 《会计之友》 北大核心 2007年第10X期21-21,共1页

基本建设是国民经济运行的重要环节,是扩大社会生产规模、推进技术进步、增强综合国力的重要手段,也是财政部门需要进一步加强管理,推进改革的一项重要工作,但目前基本建设资金管理还存在一些问题,有待改进。本文仅就基本建设资金管理... 基本建设是国民经济运行的重要环节,是扩大社会生产规模、推进技术进步、增强综合国力的重要手段,也是财政部门需要进一步加强管理,推进改革的一项重要工作,但目前基本建设资金管理还存在一些问题,有待改进。本文仅就基本建设资金管理的一些"常见病"及其如何防控作一探讨。 展开更多

关键词 建设资金管理 “常见病” 防控 国民经济运行 基本建设 生产规模 技术进步 综合国力

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