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感耦等离子体发射光谱法测定原油中痕量铁镍铜钒 被引量:22
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作者 吴建之 大可 尧汝 《岩矿测试》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期58-61,共4页
系统地试验了用感耦等离子体发射光谱同时测定原油中痕量元素Fe、Ni、Cu和V的多种前处理方法,制定出H2SO4、HNO3分步炭化,500℃灰化,HCl+HNO3(VHCl∶VHNO3=1∶1)溶解灰分的最佳分解方案。... 系统地试验了用感耦等离子体发射光谱同时测定原油中痕量元素Fe、Ni、Cu和V的多种前处理方法,制定出H2SO4、HNO3分步炭化,500℃灰化,HCl+HNO3(VHCl∶VHNO3=1∶1)溶解灰分的最佳分解方案。该方法的检出限为1.0~6.0μg/L,精密度好,RSD(n=4)<4.6%,加标回收率为96.2%~111%。方法已应用于大庆、苏北、惠州等原油样品的分析。 展开更多
关键词 原油 感耦等离子体发射光谱
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硼掺杂对非晶硅薄膜微结构和光电性能的影响 被引量:6
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作者 张溪文 大可 韩高荣 《材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2001年第1期30-33,16,共5页
以硅烷 (SiH4 )和硼烷 (B2 H6)为气相反应先驱体 ,采用等离子体增强化学气相沉积法 (PECVD)制备出轻掺硼非晶氢硅薄膜。X射线衍射、原子力显微镜和光、暗电导测试表明 ,一定程度的硼掺杂提高了非晶氢硅薄膜的电导率 ,降低了非晶氢硅薄... 以硅烷 (SiH4 )和硼烷 (B2 H6)为气相反应先驱体 ,采用等离子体增强化学气相沉积法 (PECVD)制备出轻掺硼非晶氢硅薄膜。X射线衍射、原子力显微镜和光、暗电导测试表明 ,一定程度的硼掺杂提高了非晶氢硅薄膜的电导率 ,降低了非晶氢硅薄膜的光、暗电导比 ,并促进了非晶氢硅薄膜中硅微晶粒的生长。红外吸收谱研究预示了大量的硼原子与硅、氢原子之间能形成某些形式的复合体 ,仅有少量硼元素对P型掺杂有贡献。 展开更多
关键词 非晶硅薄膜 硼掺杂 半导体 等离子增强化学气相沉积 微结构 光电性能
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液晶光阀用ZnSSe薄膜的光电特性研究(英文) 被引量:1
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作者 大可 韩高荣 +2 位作者 杜丕一 ZHANG X.X. SOU I.K. 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2002年第4期335-340,共6页
用分子束外延法(MBE),在铟锡氧化物(ITO)导电玻璃衬底上生长了ZnSSe薄膜,详细研究了薄膜的光电特性。通过控制反应时的生长参数,制备出了符合紫外液晶光阀设计要求的光导层薄膜。室温下,该薄膜光谱响应截止边的响应度为0.01A/W,紫外/可... 用分子束外延法(MBE),在铟锡氧化物(ITO)导电玻璃衬底上生长了ZnSSe薄膜,详细研究了薄膜的光电特性。通过控制反应时的生长参数,制备出了符合紫外液晶光阀设计要求的光导层薄膜。室温下,该薄膜光谱响应截止边的响应度为0.01A/W,紫外/可见光响应对比度大于103。薄膜的暗电阻率随薄膜晶粒增大而减小,在衬底温度为2900C时,所获得的ZnSSe薄膜具有4.3×1011Ω·cm的暗电阻率。频率从40Hz到4000Hz的交流特性测试,也证实该薄膜符合器件紫外成像的工作要求。 展开更多
关键词 分子束外延 ZnSSe薄膜 光电特性 液晶光阀
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紫外透射型液晶光阀用ZnS_xSe_(1-x)薄膜的研究
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作者 大可 赵高凌 +3 位作者 杜丕一 韩高荣 I.K.Sou 《材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2002年第4期499-503,共5页
描述了透射型ZnSxSe1 -x光盲紫外液晶光阀的结构和工作原理 ,并从器件的电学模型出发 ,着重讨论了整体器件对ZnSxSe1 -x光敏层的特殊要求。采用分子束外延技术在ITO石英导电玻璃上制备了不同组分的三元ZnSxSe1 -x多晶薄膜 ,通过控制反... 描述了透射型ZnSxSe1 -x光盲紫外液晶光阀的结构和工作原理 ,并从器件的电学模型出发 ,着重讨论了整体器件对ZnSxSe1 -x光敏层的特殊要求。采用分子束外延技术在ITO石英导电玻璃上制备了不同组分的三元ZnSxSe1 -x多晶薄膜 ,通过控制反应时的生长参数 ,制备出了符合器件设计要求的光敏层薄膜。室温下 ,薄膜的紫外 可见光响应对比度大于 10 3,响应波长截止边可通过控制薄膜中的Se组分 ,在 36 0~ 4 10nm范围内连续可调 ;薄膜的紫外 可见光吸收系数比大于 10 3;在液晶光阀工作的低频段 (<2 0 0Hz) ,其暗阻抗在 10 5~ 10 6 Ωcm2 之间 ;暗 展开更多
关键词 紫外透射型液晶光阀 ZnSxSe1-x薄膜 透射型ZnSxSe1-x光敏层 光电特性 空间光调制器
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分子束外延生长液晶光阀用ZnS_xSe_(1-x)薄膜的研究
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作者 大可 Sou.I.K +2 位作者 韩高荣 杜丕一 阙端林 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 2002年第6期403-407,共5页
描述了ZnSxSe1-x光盲紫外液晶光阀的结构和工作原理 ,并从器件的电学模型出发 ,着重讨论了整体器件对ZnSxSe1-x光敏层的特殊要求。采用分子束外延技术在ITO导电玻璃上制备了具有 (111)面定向生长结构的ZnSxSe1-x多晶薄膜 ,通过控制反应... 描述了ZnSxSe1-x光盲紫外液晶光阀的结构和工作原理 ,并从器件的电学模型出发 ,着重讨论了整体器件对ZnSxSe1-x光敏层的特殊要求。采用分子束外延技术在ITO导电玻璃上制备了具有 (111)面定向生长结构的ZnSxSe1-x多晶薄膜 ,通过控制反应时的生长参数 ,制备出了符合器件设计要求的光敏层薄膜。室温下 ,该薄膜的紫外 /可见光响应对比度大于10 3 ;响应波长截止边可通过控制薄膜中的Se组分 ,在 (36 0~ 4 10 )nm范围内连续可调 ;薄膜的暗电阻率在 (4 32× 10 9~ 2 0 3×10 11)Ω·m之间 ,并随着晶粒的增大而减小 ;在液晶光阀工作的低频段 (<2 0 0Hz) ,其光 /暗阻抗比在 0 2 2~ 0 36之间。 展开更多
关键词 分子束外延生长 紫外液晶光阀 ZnSxSe1-x薄膜 ITO导电玻璃 光电特性 空间光调制器 硒硫化锌 半导体薄膜
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High-Responsivity ZnS Schottky Barrier Photodiode Array for Ultraviolet Imaging
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作者 大可 韩高荣 +2 位作者 S.Y.Au 葛惟昆 I.K.Sou 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第8期892-896,共5页
A different approach,using the molecular beam epitaxy (MBE)-grown ZnS-based Schottky photodiode technology,is applied to fabricate an 8×8 photodiode array.The micro-processing procedures of this photodiode array ... A different approach,using the molecular beam epitaxy (MBE)-grown ZnS-based Schottky photodiode technology,is applied to fabricate an 8×8 photodiode array.The micro-processing procedures of this photodiode array including standard photolithography,a number of metallisation,wet-chemical etching and SiO_2 deposition for insulation are developed.The detector is characterized to have a cutoff wavelength at 340 nm and the photo-responsivity measurements on the pixels result an ultraviolet (UV) response as high as 0.15 A/W,corresponding to an external quantum efficiency of 55% in the visible-blind spectral ranging from 400 down to 250nm.Imaging tests indicate that this array is able to capture the intensity profile of a given UV light source with reasonably good capability. 展开更多
关键词 ZnS-based Schottky barrier photodiode array MBE high-responsivity
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ZnS0.8Se0.2 film for high resolution liquid crystal light valve
7
作者 大可 韩高荣 +2 位作者 杜丕一 阙端麟 SOUI.K 《Journal of Zhejiang University Science》 EI CSCD 2004年第2期212-217,共6页
The structural characteristics and optical and electrical properties of molecular-beam-epitaxy (MBE) grown ZnS0.8Se0.2 thin films on indium-tin-oxide (ITO) glass substrates were investigated in this work. The X-ray di... The structural characteristics and optical and electrical properties of molecular-beam-epitaxy (MBE) grown ZnS0.8Se0.2 thin films on indium-tin-oxide (ITO) glass substrates were investigated in this work. The X-ray diffraction (XRD) results indicated that high quality polycrystalline ZnS0.8Se0.2 thin film grown at the optimized temperature had a preferred orientation along the (111) planes. The transmission electron microscopy (TEM) cross-sectional micrograph of the sample showed a well defined columnar structure with lateral crystal dimension in the order of a few hundred angstroms. Ultraviolet(UV) photoresponsivity as high as 0.01 A/W had been demonstrated and for wavelengths longer than 450 nm, the response was down from the peak response by more than 3 orders of magnitude. The thin ZnS0.8Se0,2 photosensor layer, with a wide energy gap and anisotropic electrical property, makes a transmission UV liquid crystal light valve (LCLV) with high resolution feasible. 展开更多
关键词 UV LCLV Transmission mode Polycrystalline ZnS0.8Se0.2 thin film MBE
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Polycrystalline ZnSx Se1—x thin films deposited on ITO glass by MBE
8
作者 大可 SOUI.K. +2 位作者 韩高荣 杜丕一 阙端麟 《Journal of Zhejiang University Science》 EI CSCD 2003年第2期131-135,共5页
MBE growth of ZnS_xSe_1-x thin films on ITO coated glass substrate s were carried o ut using ZnS and Se sources with the substrate temperature ranging from 270℃ to 330℃. The XRD θ/2θ spectra resulted from these... MBE growth of ZnS_xSe_1-x thin films on ITO coated glass substrate s were carried o ut using ZnS and Se sources with the substrate temperature ranging from 270℃ to 330℃. The XRD θ/2θ spectra resulted from these films indicated that the as-gro wn polycrystalline ZnS_xSe_1-x thin films had a preferred orientat ion along the (1 11) planes. The evaluated crystal sizes as deduced from the FWHM of the XRD laye r peaks showed strong growth temperature dependence, with the optimized temperat ure being about 290℃. Both AFM and TEM measurements of these thin films also in dicated a similar growth temperature dependence. High quality ZnS_xSe_1- x thin fil m grown at the optimized temperature had the smoothest surface with lowest RMS v alue of 1.2 nm and TEM cross-sectional micrograph showing a well defined column ar structure. 展开更多
关键词 MBE(molecular beam epitaxy) Polycrystalline ZnS_xS e_1-x thin film ITO glass Structural characterizations
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