期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到9篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
绿色缓蚀剂聚天冬氨酸对铜的缓蚀性能与吸附行为 被引量：24
1
作者 徐群杰 朱律均 +3 位作者 曹为民 万宗跃 周国定 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1724-1728,共5页
采用电化学阻抗和极化曲线法研究了绿色缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对铜在200mg·L-1的NaCl溶液中的缓蚀性能和吸附行为.结果表明,在20℃时,PASP使用的最佳浓度为15mg·L-1,缓蚀率可达到78.3%,PASP的吸附明显降低了Cl-的侵蚀,属于... 采用电化学阻抗和极化曲线法研究了绿色缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对铜在200mg·L-1的NaCl溶液中的缓蚀性能和吸附行为.结果表明,在20℃时,PASP使用的最佳浓度为15mg·L-1,缓蚀率可达到78.3%,PASP的吸附明显降低了Cl-的侵蚀,属于阳极型缓蚀剂.随着温度的升高,PASP的缓蚀性能下降.在50℃时,PASP的缓蚀率下降至40.4%.PASP的吸附行为服从Langmuir吸附等温式,是自发的、放热的过程,属于化学吸附. 展开更多
关键词 缓蚀剂 聚天冬氨酸 吸附 铜 交流阻抗
下载PDF
模拟水中白铜B30耐蚀性影响因素的光电化学研究 被引量：11
2
作者 徐群杰 万宗跃 +4 位作者 印仁和 朱律均 曹为民 周国定 林昌健 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第18期1981-1986,共6页
用动电位伏安法和光电化学方法对模拟水中白铜B30耐蚀性影响因素进行了研究.白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,在模拟水溶液中表面膜的半导体性质会发生转变,由p-型转为n-型;在不同Cl-,SO24?浓度的模拟水溶液中... 用动电位伏安法和光电化学方法对模拟水中白铜B30耐蚀性影响因素进行了研究.白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,在模拟水溶液中表面膜的半导体性质会发生转变,由p-型转为n-型;在不同Cl-,SO24?浓度的模拟水溶液中,电位正向扫描时呈现阳极光电流,电位负向扫描时随着Cl-,SO24?离子浓度的增加,光响应由p-型向n-型转变,阳极光电流峰面积与阴极光电流峰面积之比增大,耐蚀性能降低;随着温度的升高,白铜B30的耐蚀性能降低;在pH=7～9之间,其耐蚀性能随着pH的升高而提高,当pH>9时,其耐蚀性能随着pH的升高呈降低趋势. 展开更多
关键词 白铜B30 模拟水 光电化学 腐蚀
下载PDF
聚天冬氨酸对铜缓蚀作用的光电化学研究 被引量：7
3
作者 朱律均 徐群杰 +4 位作者 曹为民 万宗跃 印仁和 周国定 林昌健 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期665-669,共5页
用光电化学方法研究了绿色水处理药剂聚天冬氨酸对铜的缓蚀作用,铜在硼酸-硼砂缓冲溶液(pH=9.2)中,表面的Cu2O膜显p-型光响应,添加适量缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)后,PASP吸附在铜电极表面成膜促使Cu2O膜增厚,体现在电位在负向扫描过程中Cu2... 用光电化学方法研究了绿色水处理药剂聚天冬氨酸对铜的缓蚀作用,铜在硼酸-硼砂缓冲溶液(pH=9.2)中,表面的Cu2O膜显p-型光响应,添加适量缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)后,PASP吸附在铜电极表面成膜促使Cu2O膜增厚,体现在电位在负向扫描过程中Cu2O膜的p-型光电流增大。p-型光电流越大,缓蚀性能越好。当PASP浓度为3mg·L-1时,Cu2O膜的p-型光电流最大,缓蚀性能最好。Cl-的存在会阻止PASP在铜电极表面的吸附,使Cu2O膜暴露而受侵蚀,导致了PASP的缓蚀性能变差。 展开更多
关键词 聚天冬氨酸 光电化学 缓蚀剂 铜
下载PDF
模拟冷却水中黄铜管耐蚀性影响因素的光电化学研究 被引量：3
4
作者 徐群杰 万宗跃 +1 位作者 黄诗俊 印仁和 《华东电力》 北大核心 2008年第4期94-96,共3页
针对模拟冷却水中各种离子对黄铜管的耐蚀性影响采用光电化学方法和交流阻抗法进行了研究。在模拟水中黄铜电极表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,改变模拟水溶液中Cl-、SO42-和S2-浓度时,其表面膜的半导体性质仍为p-型... 针对模拟冷却水中各种离子对黄铜管的耐蚀性影响采用光电化学方法和交流阻抗法进行了研究。在模拟水中黄铜电极表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,改变模拟水溶液中Cl-、SO42-和S2-浓度时,其表面膜的半导体性质仍为p-型,但阴极光电流峰值的大小会发生变化,阴极光电流峰值越大,其耐蚀性能越好。随着Cl-、SO42-和S2-浓度的增加,黄铜的阻抗逐渐增大,耐蚀性能提高,当Cl-、SO24-和S2-浓度分别高于49.92 mg/L、80.8 mg/L、10 mg/L时,黄铜耐蚀性能降低,腐蚀越严重。 展开更多
关键词 黄铜 腐蚀 模拟水 光电化学
原文传递
3-氨基-1,2,4-三氮唑自组装膜对黄铜的缓蚀作用 被引量：23
5
作者 徐群杰 万宗跃 +4 位作者 印仁和 朱律均 曹为民 周国定 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第1期115-120,共6页
3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)是一种环境友好型金属处理剂,以其在黄铜表面制备了自组装单分子膜(SAMs),用电化学方法研究ATASAMs对黄铜的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明,ATA分子易在黄铜表面形成稳定的ATASAMs,SAMs抑制了黄铜的阳极氧化过... 3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)是一种环境友好型金属处理剂,以其在黄铜表面制备了自组装单分子膜(SAMs),用电化学方法研究ATASAMs对黄铜的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明,ATA分子易在黄铜表面形成稳定的ATASAMs,SAMs抑制了黄铜的阳极氧化过程,改变了电极表面的双电层结构,固/液界面双电层电容明显降低,有良好的缓蚀效果.研究结果还表明,ATA的吸附行为符合Langmuir吸附等温式,吸附机理是典型的化学吸附. 展开更多
关键词 黄铜 ATA 自组装单分子膜 缓蚀 吸附
下载PDF
聚天冬氨酸与钨酸钠复配对白铜B10的缓蚀作用 被引量：13
6
作者 朱律均 徐群杰 +3 位作者 曹为民 万宗跃 周国定 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第5期805-809,共5页
应用光电化学的方法研究了两种环境友好型缓蚀剂聚冬天氨酸(PASP)和钨酸钠(Na2WO4)的单一配方及其复配对白铜B10在硼砂-硼酸缓冲溶液中的缓蚀作用.研究表明,在光电流循环伏安测试中,单一的PASP与Na2WO4均能够使B10表面Cu2O膜引起的p型... 应用光电化学的方法研究了两种环境友好型缓蚀剂聚冬天氨酸(PASP)和钨酸钠(Na2WO4)的单一配方及其复配对白铜B10在硼砂-硼酸缓冲溶液中的缓蚀作用.研究表明,在光电流循环伏安测试中,单一的PASP与Na2WO4均能够使B10表面Cu2O膜引起的p型光电流响应增大,这说明缓蚀剂增大了Cu2O膜的厚度,使B10的腐蚀速率减小.单一的PASP与Na2WO4的最佳添加浓度分别为3和5mg·L-1,单一的Na2WO4比单一的PASP使p型光电流响应增大趋势更大.若以总浓度为5mg·L-1时对两者进行复配,当PASP与Na2WO4的质量浓度比为1∶1和1∶3时,两者复配比单一使用时的p型电流光响应都更大,B10的腐蚀更小,即缓蚀剂的效果更好.交流阻抗测试结果与光电化学测试相一致. 展开更多
关键词 光电化学 聚天冬氨酸 钨酸钠 白铜B10 缓蚀剂
下载PDF
植酸自组装单分子膜对白铜B30缓蚀作用的研究 被引量：11
7
作者 印仁和 万宗跃 +2 位作者 徐群杰 曹为民 朱律均 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期562-564,572,共4页
用一种环境友好型金属处理剂植酸在白铜B30表面制备了自组装单分子膜(SAMs),研究了该膜在3%NaCl中对白铜B30的缓蚀作用。通过交流阻抗法和极化曲线法的研究表明,在酸性和碱性环境中,植酸SAMs对白铜B30均有良好的缓蚀效果,其对白铜B30的... 用一种环境友好型金属处理剂植酸在白铜B30表面制备了自组装单分子膜(SAMs),研究了该膜在3%NaCl中对白铜B30的缓蚀作用。通过交流阻抗法和极化曲线法的研究表明,在酸性和碱性环境中,植酸SAMs对白铜B30均有良好的缓蚀效果,其对白铜B30的缓蚀效果在酸性环境中要优于碱性环境;且组装时间6h效果最好,缓蚀率为84．87%,同时分析表明其缓蚀机理为化学吸附过程。 展开更多
关键词 植酸 自组装膜 白铜 交流阻抗 极化曲线
下载PDF
3-氨基-1，2，4-三氮唑自组装膜对Cu-Ni合金缓蚀作用及吸附机理研究 被引量：9
8
作者 万宗跃 张利 +4 位作者 印仁和 徐群杰 陈浩 朱律均 周国定 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期203-208,共6页
利用3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)金属处理剂在Cu-Ni合金表面制备了自组装单分了膜(SAMs),用电化学方法研究ATA SAMs对Cu-Ni合金的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明,ATA分子易在Cu-Ni合金表面形成稳定的ATA SAMs,抑制了Cu-Ni合金的阳极氧化过... 利用3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)金属处理剂在Cu-Ni合金表面制备了自组装单分了膜(SAMs),用电化学方法研究ATA SAMs对Cu-Ni合金的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明,ATA分子易在Cu-Ni合金表面形成稳定的ATA SAMs,抑制了Cu-Ni合金的阳极氧化过程,改变了电极表面双电层结构,使零电荷电位正移,固/液界面双电层电容明显降低,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗和极化曲线得到的结论一致.同时研究表明ATA的吸附行为符合Langmuir吸附等温式,吸附机理是典型的化学吸附. 展开更多
关键词 CU-NI合金 3-氨基-1 2 4-三氮唑 自组装单分子膜 缓蚀 吸附
下载PDF
植酸自组装膜对白铜缓蚀作用的光电化学研究 被引量：5
9
作者 徐群杰 万宗跃 +2 位作者 费琳 印仁和 周小金 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期167-169,共3页
用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用.结果表明,植酸分子易在白铜B30表面形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光... 用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用.结果表明,植酸分子易在白铜B30表面形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗得到的结论一致,同时微分电容曲线表明植酸SAMs的形成改变了电极双电层结构,使得电容值减小,其缓蚀机理为化学吸附过程. 展开更多
关键词 植酸 自组装膜 白铜B30 光电化学 腐蚀
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部