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自交联水溶性丙烯酸树脂及柔性版四色套印水性油墨的研究 被引量：16
1
作者 汤建新 陈洪 +1 位作者 聂立波 何农跃 《东南大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期68-71,共4页
以偶氮二异丁腈为引发剂 ,用N ,N 二甲基乙醇胺为中和剂 ,将甲基丙烯酸甲酯 (或苯乙烯 )、丙烯酸丁酯、丙烯酸和N 羟甲基丙烯酰胺四元单体共聚反应、合成了适用于柔性版四色套印水性油墨的分散树脂和成膜树脂 ,用上述制备的树脂为连接... 以偶氮二异丁腈为引发剂 ,用N ,N 二甲基乙醇胺为中和剂 ,将甲基丙烯酸甲酯 (或苯乙烯 )、丙烯酸丁酯、丙烯酸和N 羟甲基丙烯酰胺四元单体共聚反应、合成了适用于柔性版四色套印水性油墨的分散树脂和成膜树脂 ,用上述制备的树脂为连接料 ,开发了一组三原色加黑色的四色套印的水性油墨 ,通过对树脂和油墨的各项指标进行检测 ,结果表明 :树脂和水性油墨的各项性能符合国家标准 ,重金属含量经香港SGS检测符合美国州际立法标准 。 展开更多
关键词 自交联 水溶性 丙烯酸树脂 柔性版 四色套印 水性油墨 四元共聚物 分散树脂 成膜树脂
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电磁屏蔽铜系复合导电涂料实验研究 被引量：10
2
作者 施冬梅 杜仕国 +1 位作者 田春雷 邓辉 《军械工程学院学报》 2001年第4期71-73,共3页
研究了成膜树脂、铜粉含量和偶联剂含量对涂料导电性能的影响.研究结果表明:铜粉含量为60%、偶联剂含量为3%时,体系导电性能较好.
关键词 电磁屏蔽 导电涂料 成膜树脂 铜粉含量 偶联剂含量 导电性能
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纸品上光油研究进展 被引量：7
3
作者 郭效杰 杨辉荣 《广东化工》 CAS 2002年第5期48-49,共2页
本文回顾了近几年来国内外上光油的研究进展,并指出水性和UV上光油是今后的发展方向。
关键词 纸品上光油 水性涂料 UVCC 进展 成膜树脂 溶剂 助剂
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阳图PS版感光胶的成膜树脂技术(上) 被引量：9
4
作者 余尚先 顾江楠 童晓 《印刷杂志》 1998年第9期29-31,共3页
进入九十年代,我国PS版的生产能力和市场需求量迅速增长。1997年全国PS版较大生产厂约32家,生产能力约为5000万M^2。从八十年代末期算起,我国PS版的生产能力与市场投放量几乎都是每二年翻一番。国内外同行预言,到2000年。
关键词 阳图PS版 成膜树脂 感光胶
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光刻胶成膜树脂的研究进展 被引量：9
5
作者 冯波 艾照全 +1 位作者 朱超 宋梦瑶 《粘接》 CAS 2015年第2期78-81,86,共5页
光刻胶是集成电路和分立器件的基础工艺材料,主体成膜树脂是光刻胶的重要组分之一,不同的成膜树脂对光刻胶的性能有不同影响。主要综述了光刻胶的分类,影响光刻胶成膜树脂性能的因素,成膜树脂的发展,及光刻胶的主要技术参数。
关键词 光刻胶 单体 成膜树脂 光敏度 化学放大光刻胶 有效含碳量
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一种248nm光刻胶成膜树脂的合成及相关性能研究 被引量：8
6
作者 刘建国 蒋明 曾晓雁 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期349-360,共12页
通过自由基共聚合,制备了前驱体共聚物聚对特丁氧酰氧基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,该共聚物可以通过热解而部分脱除酚羟基上的保护基,得到目标共聚物聚对羟基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚... 通过自由基共聚合,制备了前驱体共聚物聚对特丁氧酰氧基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,该共聚物可以通过热解而部分脱除酚羟基上的保护基,得到目标共聚物聚对羟基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯-共-对特丁氧酰氧基苯乙烯.通过对具有合适分子量的目标共聚物的有机溶剂溶解性、热性能、成膜性、抗干蚀刻能力和在248nm处光学吸收(为0.212μm-1)性能进行研究,表明该聚合物能满足248nm光刻胶成膜树脂的要求;此外,目标共聚物还具有酸致脱保性能.具有合适分子量和脱保率的目标共聚物,通过对其酸解留膜率的测试,推测其可能满足248nm光刻胶的曝光显影工艺过程. 展开更多
关键词 248 nm光刻胶 成膜树脂 聚对羟基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2 3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯-共-对特丁氧酰氧基苯乙烯
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我国光刻胶的市场现状及发展趋势 被引量：7
7
作者 郑金红 《精细与专用化学品》 CAS 2009年第9期28-31,共4页
现代微电子技术按照摩尔定律在不断发展．光刻技术也经历了从G线（436nm），I线（365nm），到深紫外248nm．及目前的193nm光刻的发展历程．相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生．光刻胶中的关键组分，如成膜树脂、感光剂、添加剂也随... 现代微电子技术按照摩尔定律在不断发展．光刻技术也经历了从G线（436nm），I线（365nm），到深紫外248nm．及目前的193nm光刻的发展历程．相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生．光刻胶中的关键组分，如成膜树脂、感光剂、添加剂也随之发生变化．使光刻胶的综合性能能更好地满足集成工艺制程要求。目前集成电路制作中使用的主要光刻胶见表1。 展开更多
关键词 光刻胶 发展趋势 市场现状 193nm光刻 微电子技术 光刻技术 摩尔定律 成膜树脂
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吸水性对防污涂料性能影响的研究 被引量：6
8
作者 张霁 王健 +1 位作者 Erik Risberg Harald Boen 《中国涂料》 CAS 2013年第4期30-34,共5页
由于中国的许多船厂位于淡水流域,淡水浸泡对防污涂料的影响正引起人们越来越多的关注。本研究中,选取了4种基于丙烯酸硅烷技术和6种基于离子交换技术的防污涂料,比较了在海水和淡水里的吸水性能。为了便于确定成膜树脂与相应涂料吸水... 由于中国的许多船厂位于淡水流域,淡水浸泡对防污涂料的影响正引起人们越来越多的关注。本研究中,选取了4种基于丙烯酸硅烷技术和6种基于离子交换技术的防污涂料,比较了在海水和淡水里的吸水性能。为了便于确定成膜树脂与相应涂料吸水性能之间的相关性,将成膜树脂从涂料中分离出来进行研究。 展开更多
关键词 防污涂料 成膜树脂 吸水性
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甲基丙烯酸酯类光刻胶成膜树脂的合成与性能研究 被引量：6
9
作者 何姣 郭文迅 +1 位作者 彭荡 贺倩 《应用化工》 CAS CSCD 2011年第2期210-214,共5页
以甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸甲酯（MMA）、丙烯酸丁酯（BA）为单体,偶氮二异丁腈为引发剂,采用溶液自由基聚合方法,合成了甲基丙烯酸酯类光刻胶成膜树脂,研究了合成工艺对产物分子量及分子量分布的影响,并对其在光刻胶中的应用性能... 以甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸甲酯（MMA）、丙烯酸丁酯（BA）为单体,偶氮二异丁腈为引发剂,采用溶液自由基聚合方法,合成了甲基丙烯酸酯类光刻胶成膜树脂,研究了合成工艺对产物分子量及分子量分布的影响,并对其在光刻胶中的应用性能,如碱溶性、涂膜表面干燥性、感度和分辨率等进行了初步考察。结果表明,在引发剂用量为单体用量的0.6%~1%、反应温度80~85℃、3次进料条件下,制得的聚合物的重均分子量为44 341~53 696,分子量分布为3.66~5.69,由单体质量比MAA∶MMA∶BA为25∶50∶25的成膜树脂配制的光刻胶,分辨率达35μm。 展开更多
关键词 光刻胶 成膜树脂 甲基丙烯酸酯 碱溶性 分辨率
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水包水多彩涂料的研究进展 被引量：6
10
作者 李国梁 叶仙华 +1 位作者 乔永洛 申亮 《江西科技师范大学学报》 2014年第6期13-17,共5页
水包水多彩涂料具有环保无毒、仿真性高、抗裂性好、耐候性高、施工快、性价比高、轻质材料等优点,被广泛应用于建筑内外墙、饰面板等领域,并具有广阔的应用前景,已经成为近几年研究的热点。本文主要介绍水包水多彩涂料所用保护胶体系... 水包水多彩涂料具有环保无毒、仿真性高、抗裂性好、耐候性高、施工快、性价比高、轻质材料等优点,被广泛应用于建筑内外墙、饰面板等领域,并具有广阔的应用前景,已经成为近几年研究的热点。本文主要介绍水包水多彩涂料所用保护胶体系、成膜物质、各种助剂;最后对水包水多彩涂料的发展进行了展望。 展开更多
关键词 水包水多彩涂料 凝胶体系 成膜树脂 彩粒
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船舶防污涂料的研究现状及展望 被引量：5
11
作者 陆刚 余红伟 +1 位作者 晏欣 魏徵 《弹性体》 CAS 2016年第4期74-77,共4页
阐述了船舶在海洋中所受到海洋污损物污染的情况,介绍了常用防污涂料的研究近况,并针对其防污的缺陷提出了长效型防污涂料的研究和发展方向。
关键词 海洋污损物 防污涂料 环氧树脂 成膜树脂
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阴图感光PS版进展(下) 被引量：4
12
作者 邝良菊 邹应全 《信息记录材料》 2007年第6期44-49,共6页
本文主要介绍了阴图PS版的2种重要组成部分:感光树脂和成膜树脂,同时简要说明了紫激光CTP的最新发展情况。关于感光树脂,主要介绍了其发展历史和感光机理,并重点阐述了重氮树脂的特点和合成方法;成膜树脂,主要介绍了聚乙烯醇缩醛,聚氨... 本文主要介绍了阴图PS版的2种重要组成部分:感光树脂和成膜树脂,同时简要说明了紫激光CTP的最新发展情况。关于感光树脂,主要介绍了其发展历史和感光机理,并重点阐述了重氮树脂的特点和合成方法;成膜树脂,主要介绍了聚乙烯醇缩醛,聚氨基甲酸酯,聚(甲基)丙烯酸(酯)及其衍生物。 展开更多
关键词 阴图PS版 UV—CTP 感光树脂 重氮树脂 成膜树脂
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光刻胶及其成膜树脂的研究现状 被引量：5
13
作者 王全勇 宋斌 麦裕良 《广东化工》 CAS 2020年第14期76-77,共2页
光刻胶是微电子技术领域的关键基础材料,成膜树脂是其重要组成部分,本文概述了光刻胶及其成膜树脂的国内外研究状况。
关键词 光刻技术 光刻胶 成膜树脂
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化学增幅型光刻胶材料研究进展 被引量：5
14
作者 郑祥飞 孙小侠 +3 位作者 刘敬成 穆启道 刘仁 刘晓亚 《影像科学与光化学》 CAS 2020年第3期392-408,共17页
芯片集成度的提高促使光刻胶向高分辨率方向发展,光刻技术由紫外全谱曝光发展到单一短波长曝光,为满足光刻胶高感度、高分辨率的要求,化学增幅型光刻胶应运而生。“化学增幅”可以提高光刻胶的量子产率,增强光刻胶感度,在深紫外、极紫... 芯片集成度的提高促使光刻胶向高分辨率方向发展,光刻技术由紫外全谱曝光发展到单一短波长曝光,为满足光刻胶高感度、高分辨率的要求,化学增幅型光刻胶应运而生。“化学增幅”可以提高光刻胶的量子产率,增强光刻胶感度,在深紫外、极紫外光刻中得到广泛应用。而高性能树脂作为光刻胶的成膜剂,对光刻胶的性能有重要影响,不同的树脂结构对应不同的反应机理。本文重点对化学增幅型光刻胶中的脱保护、重排、分子内脱水、酯化缩聚、交联、解聚等反应进行了总结,并介绍了对应的树脂结构。 展开更多
关键词 化学增幅 光刻胶 感度 成膜树脂 反应机理
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光致抗蚀剂的制备及其性能研究 被引量：5
15
作者 周虎 李宁 +3 位作者 蒋敏 罗小阳 唐甲林 秦先志 《印制电路信息》 2015年第9期10-13,共4页
以甲基丙烯酸甲酯（MMA）、丙烯酸丁酯（BA）、甲基丙烯酸（MAA）等为基本原料，以过氧化苯甲酰（BPO）为引发剂，分别选用无水乙醇、丁酮、乙酸乙酯为溶剂，采用溶液聚合法制备了成膜树脂；并以三羟甲基丙烷三丙烯酸酯（TMPTA）为交联... 以甲基丙烯酸甲酯（MMA）、丙烯酸丁酯（BA）、甲基丙烯酸（MAA）等为基本原料，以过氧化苯甲酰（BPO）为引发剂，分别选用无水乙醇、丁酮、乙酸乙酯为溶剂，采用溶液聚合法制备了成膜树脂；并以三羟甲基丙烷三丙烯酸酯（TMPTA）为交联剂，二苯甲酮（BP）为光引发剂，开发了光致抗蚀剂。研究结果表明，单体质量比MMA：BA：MAA为45：40：15时，反应生成了三元共聚物，在引发剂用量为单体用量的1％～2％、反应温度控制在（8O～85）℃的条件下，以无水乙醇作溶剂制备的成膜树脂最稳定，耐水性优于丁酮和乙酸乙酯作溶剂时制备的树脂。经紫外固化测试发现，固化时间控制在2min左右比较合适，光引发剂用量在6％左右最适宜。该研究为光致抗蚀剂进一步的研究提供了思路，具有一定的借鉴意义。 展开更多
关键词 光刻胶 电路板 成膜树脂 紫外固化 甲基丙烯酸甲酯
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成膜树脂对重氮萘醌体系正性光致抗蚀材料性能的影响 被引量：4
16
作者 薛永薰 邬兰 王鹏 《感光科学与光化学》 CSCD 2000年第1期85-94,共10页
关键词 感光材料 成膜树脂 重搂萘醌体系 抗蚀材料
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阳图PS版感光胶的成膜树脂技术(下) 被引量：4
17
作者 余尚先 顾江楠 童晓 《印刷杂志》 1998年第10期37-39,共3页
三、几类成膜树脂的具体讨论 1.酚类与醛类线性缩合型 这一大类型又包括二种: (1)间甲酚—甲醛树脂,如式(1)所示,因催化剂不同分为一般草酸催化型n/m≥4,和高邻位缩聚型,如Zn(AC)_2催化型n/m≤1。如通式(1)所示:
关键词 阳图PS版 感光胶 成膜树脂
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阴图感光PS版进展(上) 被引量：3
18
作者 邝良菊 邹应全 《信息记录材料》 2007年第5期39-42,共4页
本文主要介绍了阴图PS版的2种重要组成部分:感光树脂和成膜树脂,同时简要说明了紫激光CTP的最新发展情况。关于感光树脂,主要介绍了其发展历史和感光机理,并重点阐述了重氮树脂的特点和合成方法;成膜树脂,主要介绍了聚乙烯醇缩醛,聚氨... 本文主要介绍了阴图PS版的2种重要组成部分:感光树脂和成膜树脂,同时简要说明了紫激光CTP的最新发展情况。关于感光树脂,主要介绍了其发展历史和感光机理,并重点阐述了重氮树脂的特点和合成方法;成膜树脂,主要介绍了聚乙烯醇缩醛,聚氨基甲酸酯,聚(甲基)丙烯酸(酯)及其衍生物。 展开更多
关键词 阴图PS版 UV—CTP 感光树脂 重氮树脂 成膜树脂
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248nm光致抗蚀剂成膜树脂研究进展 被引量：4
19
作者 晏凯 邹应全 《信息记录材料》 2008年第2期37-43,共7页
光致抗蚀剂(photoresist)是制造超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路集成度的不断增加,光致抗蚀剂由g线(436nm)胶、i线(365nm)胶,逐渐发展到深紫外(DUV)(248nmKrF与193 nm ArF)胶。成膜树脂作为光致抗蚀剂的主要成分之一,决... 光致抗蚀剂(photoresist)是制造超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路集成度的不断增加,光致抗蚀剂由g线(436nm)胶、i线(365nm)胶,逐渐发展到深紫外(DUV)(248nmKrF与193 nm ArF)胶。成膜树脂作为光致抗蚀剂的主要成分之一,决定了抗蚀剂的主要性能,因此研究成膜树脂具有重要的意义。本文综述了248 nm KrF光致抗蚀剂成膜树脂的研究进展,重点介绍了聚对羟基苯乙烯及其衍生物,并简要介绍了其合成方法及成像机理。 展开更多
关键词 248nm光致抗蚀剂 化学增幅 成膜树脂 聚对羟基苯乙烯 非化学增幅
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改性氨基丙烯酸乳胶漆的研制 被引量：4
20
作者 李江年 王德智 +1 位作者 张梅 唐林生 《涂料工业》 CAS CSCD 2003年第6期3-6,共4页
以羟基丙烯酸水溶胶改性羟基丙烯酸乳液为成膜树脂 ,完全和部分甲醚化的三聚氰胺甲醛树脂为固化剂 ,配制高温 ( 15 0～ 15 5℃ )烘烤和中温 ( 12 5～ 13 0℃ )烘烤 2种氨基丙烯酸乳胶漆。当固化剂为成膜树脂的 8%～10 % ,颜基比 (质量... 以羟基丙烯酸水溶胶改性羟基丙烯酸乳液为成膜树脂 ,完全和部分甲醚化的三聚氰胺甲醛树脂为固化剂 ,配制高温 ( 15 0～ 15 5℃ )烘烤和中温 ( 12 5～ 13 0℃ )烘烤 2种氨基丙烯酸乳胶漆。当固化剂为成膜树脂的 8%～10 % ,颜基比 (质量比 )为 0 2 9∶1 0 0时 ,漆膜附着力均达到 1级 ;耐冲击性为 5 0cm ;硬度 >2H ,45°光泽约为 70 % ;耐温水 ( 5 0～ 5 3℃ ) 10h以上 ,遮盖力和施工性能良好。该类烘烤漆可用于对光泽要求不高的场合 ,如金属卷材。 展开更多
关键词 改性氨基丙烯酸乳胶漆 羟基丙烯酸水溶胶 改性 羟基丙烯酸乳液 成膜树脂
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