脉冲激光感应溅射沉积

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摘要脉冲激光感应溅射沉积是一种新型溅射镀膜技术。已不再用传统溅射镀膜工艺中的辉光放电现象。采用脉冲激光器和导电电极板产生离子。介绍了特点和潜在的优势。能在高真空条件下进行溅射沉积。给出了实验结果,说明了新技术实用的可行性。

作者黎晓琴

出处《真空与低温》 1992年第2期107-109,共3页 Vacuum and Cryogenics

关键词激光器溅射脉冲激光半导体镀膜

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真空与低温

1992年第2期

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