摘要
基于部分相干成像和分数傅里叶变换 ,提出在投影光刻系统中 ,利用分数域滤波改善光刻图形质量的新方法 理论和模拟分析表明 :在曝光成像系统中的适当位置加入分数域滤波器 ,能增强滤波操作的灵活性和效果 ,可更有效地改善光刻图形质量 。
Wavefront engineering technology is an effective method for enhancing photolithography resolution. In this paper, based on the theory of partial coherent imaging and fractional Fourier transform, a new idea using a fractional Fourier transform filter on projection system for improving photolithography pattern quality is proposed. Analysis on theory and simulation has shown that the new method is effective and flexible for improving photolithography pattern quality.
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第7期892-895,共4页
Acta Photonica Sinica
基金
国家自然科学基金 (6 990 70 0 3)
微细加工光学技术国家重点实验室的资助
关键词
分数傅里叶域滤波
光学光刻
部分相干成像
瞳孔滤波
Fractional Fourier filtering
Optical lithography
Partial coherent imaging
Pupil filtering
