摘要
本文讨论了keV和低于keV的电子在固体中散射的一般理论及MonteCarlo模拟计算方法,介绍了在电子显微学、电子束曝光等重要研究领域的一些应用实例。
The theories and the calculation methods methods of electron scattering with keV and below keV energy by Monte Carlo simulation are discussed in this paper and the applications in the important fields i.e. electron microscopy and electron beam lithography are introduced.
出处
《计算物理》
CSCD
北大核心
1989年第1期19-26,共8页
Chinese Journal of Computational Physics
基金
国家自然科学基金
