摘要
往复摆动式喷釉柜在岩板的生产过程中已得到广泛的应用,但在生产过程中发现喷釉釉面易产生釉痕缺陷,直接影响着瓷砖的品质。笔者主要从釉柜工艺参数和釉浆性能两个方面进行分析并解决釉痕缺陷。其研究发现,釉浆触变是产生釉痕缺陷的根本原因,在喷釉时因釉浆雾化程度不好所致,釉柜参数方面通过升高釉柜喷枪的高度和更换枪咀角度的大小;釉浆性能方面通过调整釉用添加剂,采用低粘甲基0.15%、FH9甲基0.1%、三聚0.4%、水分48%、解凝剂PC670.2%的配比,改善了釉浆的悬浮性、保水性和流动性,解决了釉面釉痕缺陷,且得到均匀、平整的釉面效果。
作者
付鹏程
张东升
Fu Pengcheng;Zhang Dongsheng
出处
《陶瓷》
CAS
2022年第8期16-19,27,共5页
Ceramics
