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聚乙炔离子注入掺杂及电性能的研究 被引量:2

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摘要 本文用Ar^+,Fe^+,Cl^+,I^+,Na^+和K^+等离子束,在15—30keV能量范围内注入聚乙炔薄膜,剂量为1×10^(13)-3×10^(17)cm^(-2).借助红外光谱、卢瑟福背散射分析及四探针等测试方法,考察了离子注入诱导聚乙炔膜的化学结构及导电性能的变化,检测了化学掺杂与离子注入杂质的深度分布和p-n结的形成,并在此基础上探讨了离子束与聚合物相互作用过程的机理.
出处 《中国科学(B辑)》 CSCD 北大核心 1991年第5期458-463,共6页 Science in China(Series B)
基金 国家自然科学基金
  • 相关文献

参考文献1

  • 1林森浩,盛康龙,鲍锦荣,荣廷文,邹志宜,沈之荃,杨慕杰.聚乙炔的离子注入法掺杂[J]高分子学报,1987(04). 被引量:1

同被引文献36

引证文献2

二级引证文献3

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