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可自动调节曝光时间的曝光机控制系统设计

Design of Control System for Automatic Time Exposure
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摘要 为了解决紫外光灯随使用时间的增加而曝光量不足的问题,研究设计了一套随曝光量而改变曝光时间的PLC控制系统。该系统由西门子PLC(S7-200)、模拟量扩展模块(EM231)、紫外接收模块、MT4000系列人机界面等硬件组成。介绍了自控式曝光机的电气系统构成及软件控制的设计方法。 In order to solve the problem that the exposure of ultraviolet lamp increases with the increase of time,a PLC control system is designed. The system is combined with SIEMENS PLC(S7-200),analog expansion module(EM231),UV sensor module,man-machine interface MT4000. This paper briefly introduces the design of the hardware and the software design method.
作者 陈羽
出处 《装备制造技术》 2017年第6期147-149,共3页 Equipment Manufacturing Technology
关键词 曝光 PLC 人机界面 模拟量扩展模块 exposure PLC man-machine interface analog expansion module
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