摘要
专利名称：一种高紫外屏蔽高阻隔性纳米材料薄膜及其制备方法专利申请号：CN106317578A专利申请日：2017.01.11本发明属于高分子材料制备领域,公开了一种高紫外屏蔽高阻隔性纳米材料薄膜及其制备方法。首先将乙醇胺功能化石墨烯纳米带分散于低密度聚乙烯基体中制得母料;母料与低密度聚乙烯粒料按1：1质量比混合后,经挤出造粒、压片切割制得纳米材料薄膜;所述的纳米材料薄膜中,乙醇胺功能化石墨烯纳米带占低密度聚乙烯基体的质量分数为0.2%～1.5%。
出处
《塑料科技》
CAS
北大核心
2017年第3期113-113,共1页
Plastics Science and Technology
