气相沉积

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摘要物理气相沉积（Physical Vapor DepositionPVD）：在真空条件下，利用各种物理方法，将涂料气化成原子、分子或电离成离子，直接沉积到基片（工件）表面形成固态薄膜的方法。主要包括蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。（1）蒸发镀膜工件不带电，在真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面，沉积粒子的能量与加热时的温度相对应。

作者薄鑫涛

出处《热处理》 CAS 2017年第1期29-29,共1页 Heat Treatment

关键词物理气相沉积工件表面真空条件蒸发镀膜离子镀膜物理方法固态薄膜溅射镀膜

分类号 TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]

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