摘要
Intel在芯片技术开发上已经有超过30年的历史。现在,Intel又用实际行动捍卫了自己在研发上的领先地位。近日,Intel宣布自己在芯片研发技术上取得突破性进展,已经完成了对High—K(高电介质)金属门电路晶体管技术的研发。与目前使用广泛的CMOS晶体管相比,由于采用了新的材料High—K(高电介质),High—K(高电介质)金属门电路晶体管的容量提升60%,因此High—K(高电介质)金属门电路晶体管转换速度更快。另外,
出处
《半导体信息》
2003年第6期28-28,共1页
Semiconductor Information
