期刊文献+

一种钕含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功

原文传递
导出
摘要 由日本国立材料研究所Kazuhire Hono博士领衔的课题组合成了一种新型磁性化合物,其钕含量比目前流行的钕铁硼低。这种新型磁性化合物化学式为NdF e12N,钕含量17%,而钕铁硼的钕含量为27%,但前者的内禀硬磁性能高于后者。尤其值得注意的是,这种新型磁性化合物的居里温度比钕铁硼高200度。
作者 刘跃
出处 《稀土》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期88-88,共1页 Chinese Rare Earths
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部