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CVD法制备高纯钛的工艺优化

Process Optimization for Titanium Purification by Chemical Vapor Deposition
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摘要 采用正交试验研究了钛卤盐热裂解法生产高纯钛的工艺条件.结果表明,各因素对产率的影响程度依次为低温区(卤化源区)温度>基底截面直径>卤化剂用量>高温区(热裂解区)温度.优化后的工艺参数为:卤化剂用量600 g左右、基底截面直径6 mm、低温区和高温区温度分别控制在200~700℃和1 100~1 300℃.在最优条件下获得的产品经电子束熔炼后,纯度可以达到99.998%. The optimal process conditions of titanium purification by thermal decomposition of titanium iodides were studied by orthogonal experiment.The results show that the effecting sequence on productivity of high purity titanium presents as temperature of halogenation area,diameter of base section,dosage of halogenating agent,and temperature of thermal decomposition area.The optimum conditions include dosage of halogenating agent of 600 g,diameter of base section of 6 mm,temperature of halogenation area of 200~ 700 ℃ and thermal decomposition area of 1 100~ 1 300 ℃.Obtained under optimum conditions remelted with electron beam (EB),purity of products can reach 99.998%.
出处 《有色金属(冶炼部分)》 CAS 北大核心 2014年第9期23-25,共3页 Nonferrous Metals(Extractive Metallurgy)
基金 "十一五"国家科技支撑计划项目(2008BAE62B02)
关键词 CVD 卤化法 高纯钛 正交试验 CVD halogenation process high purity titanium orthogonal test
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参考文献15

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