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SiF_4气体中(SiF_3)_2O的净化方法 被引量:1

Method of(SiF_3)_2O Purification from SiF_4 Gas
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摘要 高纯度四氟化硅(SiF4)是电子工业中的一种重要原料,能用于光导纤维、太阳能电池和水泥硬化剂等的原料。详细介绍了SiF4气体中(SiF3)2O的生成原理和(SiF3)2O的净化方法,六氟二甲硅醚的纯化方法有活性炭吸附法,与含氟化氢的浓硫酸,氟气,氟化剂等物质发生反应,其中详细介绍了活性炭对四氟化硅气体中的杂质的净化效果。 Silicon tetrafluoride is an important raw material in electronic industry .It can also be used as raw material of optical fiber.solar cell and cement hardener.The generation principle of ( SiF3 ) 2 O from SiF4 gas are detailed described.The purification method of ( SiF3 ) 2 O mainly have activated carbon adsorption method.And with concentrated sulfuric acid containing hydrogen fluoride , fluorine gas and fluorinating agent reaction , The details of the purification effect of activated carbon on the four silicon fluoride impurities in gas.
出处 《广州化工》 CAS 2014年第15期11-12,共2页 GuangZhou Chemical Industry
基金 贵州理工学院科学基金项目(NO:xjzk20130814)
关键词 四氟化硅 六氟二甲硅醚 纯化 silicon tetrafluoride hexafluorodlslloxane purification
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献24

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共引文献12

同被引文献5

引证文献1

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