摘要
通过混炼法实现了NBR在本体状态下对有机改性蒙脱土的插层复合。XRD分析表明该复合材料中蒙脱土层间距从1.2nm扩大到4.8nm,TEM研究表明HMMT以1~10nm薄片分散在橡胶基体中。该体系表现出优良物理机械性能。
出处
《合成橡胶工业》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第4期257-257,共1页
China Synthetic Rubber Industry
基金
SupportedbyNationalNatureScienceFoun-dationofChina(59933060).