摘要
本文综述了笔者实验室采用光电化学方法在铜缓蚀剂作用机理研究中的应用情况 ,采用此方法不仅可对铜缓蚀剂的缓蚀性能进行评定 ,而且还可对缓蚀剂的作用机理及缓蚀协同效应与作用机理进行研究 ,可以得到其它一些常规电化学方法及表面分析方法所不能得到的一些信息 。
The recent studies on the application of photoelectrochemical method in the inhibition mechanism of copper inhibitors at the author's laboratory are described.The method has been applied to the evaluation of inhibitors and the study of inhibition and synergistic effect.As some important information, which can not be got by usual electrochemical and surface analysis techniques,but can be obtained by photoelectrochemical method. The photoelectrochemical method is an effective one for studying inhibition for copper corrosion.
出处
《化学通报》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期422-427,共6页
Chemistry
基金
国家自然科学基金项目 (2 9876 0 0 8)
上海市教委科技发展基金 (0 1I0 1)
厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室资助项目(970 5 )
关键词
电化学方法
作用机理
铜
缓蚀剂
缓蚀作用
Photoelectrochemical method, Copper, inhibitor, Inhibition mechanism
