用于辐照加固器件的ELO SOI技术

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摘要本文讨论了制作绝缘体上硅(SOI)结构的外延横向过生长技术(ELO),并通过在SOI结构上制作的nMOS晶体管验证ELO SOI材料质量和器件总剂量加固性能。在SOI结构上制作的nMOS晶体管显示出了好的辐射特性,例如,发现剂量为10~5戈瑞(硅)的辐射诱发变化为,阈值电压漂移=-0.25V,跨导衰减=18％。

作者 LiuS.T. 秦邻

机构地区霍尼韦尔公司

出处《微电子学》 CAS CSCD 1991年第2期77-80,56,共5页 Microelectronics

关键词半导体器件辐射加固器件 ELO SOI

分类号 TN305 [电子电信—物理电子学]

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