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硅体费米势在(300~600K)宽温区温度特性的研究

Temperature Characteristics of Fermi Potential in Silicon at the Wide-Temperature-Range(300~600 K)
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摘要 本文首先简要分析了 MOSFET阈值电压随温度的变化率 ,讨论了影响阈值电压温度特性的主要因素——体费米势的温度特性 ,最后给出了一种比较精确的线性拟合模型 。 The temperature dependent variation rates of the threshold voltages for MOSFET are analyzed first. The temperature characteristics of the Fermi potential--one of the main factors that influence the temperature characteristics of the threshold voltage-- are discussed. At last, a more accurate linear fitting model is presented and the model is verified through simulation
出处 《电子器件》 CAS 2001年第4期314-317,共4页 Chinese Journal of Electron Devices
基金 国家自然科学基金重点项目 (批准号 :6 9736 0 2 0 )
关键词 体费米势 温度特性 宽温区 fermi potential \ temperature characteristics \ model
  • 相关文献

参考文献4

  • 1刘恩科等编..半导体物理学 第4版[M].北京:国防工业出版社,1994:372.
  • 2考林基JP.SOI技术-21世纪的硅集成电路技术[M].北京:科学出版社,1993.. 被引量:3
  • 3刘恩科,半导体物理学(第4版),1994年,60页 被引量:1
  • 4考林基 J P,SOI技术 21世纪的硅集成电路技术,1993年 被引量:1

共引文献2

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