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铝离子掺量对TiN薄膜光学性能的影响 被引量:1

Effect of Aluminium Composition on the Optical Properties of Al_xTi_(1-x) N(0<x<0.42) Films
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摘要 用直流反应磁控溅射法在普通玻璃上制备了 Alx Ti1 - x N(x<0 .42 )薄膜 ,用 X射线光电子能谱 (XPS)、紫外可见光谱和椭圆偏振仪研究了铝离子含量对 Ti N薄膜光学性能的影响。结果表明 ,铝离子含量主要影响 Ti The Al xTi 1-x (x<0.42) films were formed on transparent glass substrate by reactive dcmagnetron sputtering.The effect of aluminium composition on the optical properties of the films were studied by X-ray photoelectron spectroscopy, UV/vis spectrophotometer and ellipsometry.The results show that the aluminium composition mainly effects the extinction coefficient of the films.
机构地区 武汉理工大学
出处 《武汉工业大学学报》 CSCD 2000年第6期18-20,共3页
基金 教育部骨干教师资助项目 (生态建筑材料 ) 教育部科学技术重点项目 !(990 87)
关键词 镀膜玻璃 氮化钛薄膜 磁控溅射 光学性能 消光系数 铝离子 掺量 TiN film \ magnetron sputtering \ optical properties \ extinction coefficient
  • 相关文献

参考文献6

  • 1刘世宏等编著..X射线光电子能谱分析[M].北京:科学出版社,1988:360.
  • 2林永昌,卢维强编著..光学薄膜原理[M].北京:国防工业出版社,1990:366.
  • 3Wang Y K,Sur Coat Tech,1998年,36卷,219页 被引量:1
  • 4Meng Lijian,Thin Solid Films,1993年,26卷,22页 被引量:1
  • 5林永昌,光学薄膜原理,1990年 被引量:1
  • 6刘世宏,X射线光电子能谱分析,1988年 被引量:1

同被引文献5

引证文献1

二级引证文献5

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