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碳氮膜的沉积工艺及结构研究

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摘要 以氨气为反应气体,用真空阴极电弧沉积法制备了CN_x膜,对工艺参数对膜层的沉积速率、化学成份的影响及膜层结合状态进行了研究。结果表明:沉积速率随着氨气分压的提高而下降,当氨气分压达到6.7Pa时将没有膜的沉积;CN_x膜主要由碳和氮组成,降低真空系统的抽速、将反应气体导至靶面附近、提高氨气分压可以提高膜层中氮含量;氮是以化合态存在于膜层中。
作者 韩敏健
机构地区 西安航专机械系
出处 《西安航空技术高等专科学校学报》 2000年第1期18-20,共3页 Journal of Xi'an Aerotechnical College
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参考文献4

二级参考文献10

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