摘要
本文采用导模数值计算法对MMI(多模干涉 )型光功分器SIE干涉区内的导模进行计算并对输出波导位置进行优化 ,证明在一定条件的弱限制下器件的插入损耗和输出均匀度均超过强限制的情况 ,说明MMI型光功分器的制作可以采用方便的湿法刻蚀 。
In this paper we calculate the guided modes in SIE region of the MMI optical splitter by numerical calculation.We prove that the insertion loss and output uniformity of weak guided structure are better than that of the strong confinement,which means that we can fabricate MMI optical splitter using wet etching.That decreases the cost of device and at the same time, improves the device function.
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第11期93-95,共3页
Acta Electronica Sinica
基金
国家自然科学基金! (No .696770 1 2 )
国家重点基础研究发展规划项目! (No .G1 9990 331 0 4 )
浙江大学硅材料国家重点实验室开
关键词
多模干涉
导模
传播常数
光功分器
multimode interference (MMI)
guided mode
propagate constant
