摘要
用微波等离子化学气相沉积方法 (CVD片 )用丙酮—氢气混合气体作为原料 ,在单晶硅的(111)面和人造单晶金刚石的 (10 0 )面上 ,生长出了优质金刚石薄膜 ,并对薄膜的生长规律进行了研究 .
Diamond films were gro wn on (111) faces of single crystal silicon substrates and (100) faces of single c rystral diamond from a mixed material of CH 3COCH 3 and hydrogen by microwave plasma CVD method. The growth regularity of the film was analyzed, too.
出处
《兰州大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期80-83,共4页
Journal of Lanzhou University(Natural Sciences)
基金
国家 8 6 3计划!(715- 0 3- 0 1- 0 9)资助项目
