美新微纳传感厂区办公研发大楼,无锡,浙江,中国
R&D BUILDING OF MEMSIC SEMICONDUCTOR CO. LTD.,WUXI,ZHEJIANG,CHINA,2011
摘要
设计以非常简洁的手法作为立面的表现，对不同面向的处理．是以水平挑檐加上垂直遮阳板，既体现出独特的识别性，又能在平面上娴熟地处理不同的生产与办公机能．是一个建筑师专业度成熟的表现。
出处
《世界建筑》
2012年第12期62-66,共5页
World Architecture
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