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热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响 被引量:2

Annealing Effect of Sputtered InSb Thin Films
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摘要 文中从理论和实验分析了热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响。热处理温度、时间和升降温速率都对薄膜特性有影响 ,通过实验得出了最佳的热处理温度、恒温时间和升降温速率。最后讨论了热处理过程中所采用的 Annealing effect of sputtered InSb thin films is described in the paper .InSb thin films properties are affected by thermostatic temperature,time and the rate of heating-up and cooling.By experiments the best temperature,time and the rate of heating-up and cooling are given.At last 3 protecting films on the InSb used in annealing are discussed.
出处 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2000年第9期15-16,共2页 Instrument Technique and Sensor
关键词 INSB薄膜 热处理 溅射制膜 霍尔输出特性 InSb Thin film,Annealing,Technique
  • 相关文献

参考文献2

  • 1孙承松.薄膜技术及应用[M].沈阳:东北大学出版社,1999.. 被引量:1
  • 2孙承松,薄膜技术及应用,1999年 被引量:1

同被引文献2

引证文献2

二级引证文献2

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