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微波等离子CVD法金刚石薄膜生长的研究

Research on the growth diamond films in microwave plasma CVD
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摘要 金刚石薄膜的各种性质与天然金刚石几乎相同,具有非常广阔的工业前景。本文采用乙醇和氢气作为工作气源,利用微波等离子体化学气相沉积法,在较低的温度下制备了金刚石薄膜,并研究了金刚石薄膜生长的影响因素。 Research shows that the diamond film is the same as the natural diamond and possesses many industrial applications. Diamond films have been prepared from ethanol and hydrogen using micro- wave plasma CVD at a lower substrate temperature.
作者 芦宝娟
出处 《贵州工业职业技术学院学报》 2012年第2期21-23,共3页 GUIZHOU SCIENCE AND TECHNOLOGY PROFESSIONAL COLLEGE
关键词 化学气相沉积 金刚石薄膜 乙醇 Chemical vapor deposition diamond films ethanol
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