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平面研磨轨迹的研究 被引量:3

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摘要 以10mm以下量块工艺为例,介绍了实现平面研磨工艺要求的几种方法及研磨轨迹的特性及优缺点。
作者 王琦
出处 《机械工程师》 2012年第5期149-150,共2页 Mechanical Engineer
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