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硅基非致冷热释电红外焦平面阵列技术的新进展 被引量:1

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摘要 文章主要介绍硅基非致热释电红外焦平面阵列典型结构,制备工艺以及最新进展。
作者 程开富
出处 《四川真空》 1999年第2期31-35,共5页
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献1

  • 1杨臣华,激光与红外技术手册,1990年 被引量:1

共引文献7

同被引文献6

引证文献1

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