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硅基非致冷热释电红外焦平面阵列技术的新进展
被引量:
1
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摘要
文章主要介绍硅基非致热释电红外焦平面阵列典型结构,制备工艺以及最新进展。
作者
程开富
机构地区
重庆光电技术研究所
出处
《四川真空》
1999年第2期31-35,共5页
关键词
红外探测器
红外焦平面阵列
热释电器件
PIRD
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
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四川真空
1999年 第2期
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