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与等离子体相关的真空沉积技术及其应用

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摘要介绍了产生等离子体的几种放电方式（如直流二极放电、射频放电、真空辉光放电、真空弧光放电等）、与等离子体相关的溅射沉积、离子镀沉积等常用的真空沉积技术及其在薄膜制备中的应用。

作者王茂祥吴建宁

机构地区东南大学电子工程系南京建筑职业技术教育中心

出处《电子工程师》 1999年第7期1-3,共3页 Electronic Engineer

关键词等离子体真空沉积溅射沉积离子镀

分类号 TN136.05 [电子电信—物理电子学]

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电子工程师

1999年第7期

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