摘要
对磁控溅射生长在单晶Si( 0 0 1 )衬底上的CNx 薄膜样品的化学结合状态和结构进行了研究 .Fourier变换红外光谱 (FTIR)显示CNx 薄膜中的N原子与处于sp1,sp2 ,sp3 杂化状态的C原子相结合 .近边缘X光吸收精细结构 (NEXAFS)显示 ,π 共振与薄膜生长温度 (Ts)有关 ,在T =35 0℃时π 共振的强度值为最低 .利用高分辨电子显微镜 (HREM)观察到CNx 薄膜具有两种显微结构、在生长温度小于 2 0 0℃时为非晶结构 ,薄膜的硬度较低 .而在生长温度大于2 0 0℃时为类turbostratic结构 ,此时薄膜的硬度较高 .最后对CNx 薄膜结构和硬度的关系进行了讨论 .
出处
《科学通报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第8期822-824,共3页
Chinese Science Bulletin
基金
吉林省科学与技术发展计划项目基金!(批准号 :980 544 )的部分资助
