同步辐射的基本知识 第六讲同步辐射中的光刻、微加工和其他技术及其应用
Basic Knowledge of Synchrotron Radiation——Lecture No.6 Lithography,Micro-machining and Other Technologies and Their Applications in Synchrotron Radiation
摘要
传统的集成电路（IC）和超大规模硅集成电路（VLSIC）的制作是基于微电子电路版图设计和芯片的微加工工艺。微加工工艺包括掩模制作、薄膜工艺、涂胶、曝光、刻蚀、外延以及杂质扩散等。典型的双极型集成电路工艺中共经过六次（阴埋、隔离、基极、发射极、表面SiO_2绝缘层和铝线）光刻，每次的掩模板都不同。
出处
《理化检验（物理分册）》
CAS
2010年第1期67-73,共7页
Physical Testing and Chemical Analysis(Part A:Physical Testing)
参考文献12
-
1SPEARS D, SMITH H. High-resolution pattern replication using soft X-rays[J]. Electron Lett, 1972,8: 1172. 被引量：1
-
2BECKER E W, EHRFELD W. Fabrication of microstructures with high aspect ratios and great structureal heights by synchrotron radiation lightoraphy, galvanoforming and plastic molding (LIGA process) [J]. Microelectronic Eng, 1986,4: 35-56. 被引量：1
-
3田学红,刘刚,田扬超,张新夷.合肥光源深X-射线光刻模拟[J].中国科学技术大学学报,2002,32(6):702-706. 被引量：4
-
4伊福廷,吴坚武,晋明,洗鼎昌,刘金声,王乃强.LIGA技术的掩模制造[J].微细加工技术,1995(2):33-37. 被引量：4
-
5刘刚,田扬超,张新夷.LIGA技术制作微反应器的研究[J].微细加工技术,2002(2):68-71. 被引量：10
-
6OGAWA T, YAMAYUCH A, SOGA T, et al. New dry surface-imaging process for X-ray lithography[J]. Jpn J Appl Phys, 1994,33: 1577. 被引量：1
-
7TERAKADO S, OGARA M, SUZUKI S. Synchrotron radiation excited etching of SiC film using reactive species generated by a microwave discharge[J]. J Vac Sci Technol A, 1994,12(Mar/Spr) : 379. 被引量：1
-
8TERAKADO S, NISHINO J, MORIGAMI M, et al. Photochemical etching of GaAs using synchroyron radiation[J]. Jpn J Appl Phys, 1990, 29: L709. 被引量：1
-
9AKAZAWA H, UTSUMI Y, URISU. Si crystal growth mediated by synchrotron radiation-stimulated hydrogen desorption [J]. Phys Rev, 1993, PAT: 1546. 被引量：1
-
10UTSUMIY AKAZAWAH.Si photoepitaxy induced by synchrotron radiation.应用物理[日],1994,63:78-89. 被引量：1
二级参考文献12
-
1徐克尊 陈宏芳 等.近代物理学[M].高等教育出版社,1993.212. 被引量：6
-
2[1]Klavs F Jensen. Microreaction engineering is small better[J]. Chemical Eng Sci,2001,59:293 - 303. 被引量：1
-
3[2]Lowe H,Ehrfeld W. State-of-the-art in microreaction technology[J]. Electrochemica Acta, 1999,44:3679 -3689. 被引量：1
-
4[3]Menz W. Microsystems[J]. Interdisc Sci Rev, 1993,18:253-258. 被引量：1
-
5[4]White F M. Viscous Fluid Flow[ M]. New York: McGraw-Hill, 1991. 108. 被引量：1
-
6[5]Crank J. The Mathematics of Diffusion[M]. Clarendon:Oxford, 1975. 被引量：1
-
7[6]Bley P. The LIGA process for fabrication of 3D microstructures[J ]. Interdisc Sci Rev, 1993,18:267- 271. 被引量：1
-
8Bley P. The LIGA process for fabrication of three-dimensional microscale structure[J]. Intedisc. Sci. Rev, 1993,18:267-271. 被引量：1
-
9Feiertag G, Ehrfeld W, et al. calculation and experimental determination of the structure transfer accuracy in deep X-ray lithography[J]. J Micromech. Microeng, 1997,7:323-331. 被引量：1
-
10Herman Winick. Synchrotron Radiation Research[M]. New York: Plenum press,1980.11-25. 被引量：1
共引文献15
-
1姚华堂,于新海,王正东,涂善东.微反应器中的微制作技术[J].微细加工技术,2006(2):54-60. 被引量：10
-
2杨秉光,季雪岗.企业数字档案馆的建立(之六)——数字档案馆建设在企业现代化管理中的作用[J].中国档案,2005(8):64-65. 被引量：4
-
3韦广梅,曾尚红.微反应器的发展现状[J].世界科技研究与发展,2005,27(5):45-50. 被引量：11
-
4李斌.微反应器技术在精细化工中的应用[J].精细化工,2006,23(1):1-7. 被引量：35
-
5陈迪,赵旭.LIGA技术及其应用[J].高技术通讯,1996,6(9):60-62. 被引量：9
-
6李木军,沈连婠,赵玮,李晓光,范明聪,王晓东,刘雳颋,郑津津.紫外光刻中部分相干光的传播及衍射效应[J].中国科学技术大学学报,2007,37(1):24-29. 被引量：9
-
7陈有梅,郑津津,周洪军,沈连婠,张自军.接近式光刻衍射光场的快速计算机模拟[J].中国科学技术大学学报,2007,37(1):30-34. 被引量：1
-
8田扬超,刘刚,洪义麟,郭育华,熊瑛,阚娅.LIGA实验站的设计及应用[J].中国科学技术大学学报,2007,37(4):387-391.
-
9叶明星,Mansur E H A,王运东,戴猷元.微混合技术研究进展[J].化工进展,2007,26(6):755-761. 被引量：21
-
10赵风云,刘洪杰,赵华,廖勇,田俊,胡永琪.微反应器制备纳米碱式碳酸锌研究[J].无机盐工业,2009,41(3):35-36. 被引量：1
-
1赵雨,陈东生.磁场在硅集成电路制造工艺中的应用[J].上海电力学院学报,2009,25(4):388-390.
-
2贾宇明,杨邦朝,李言荣.钽铝合金薄膜工艺的正交试验[J].功能材料,1996,27(4):364-366. 被引量：3
-
3陈文浩.低温等离子体在薄膜工艺中的应用[J].等离子体应用技术快报,1996(3):12-13.
-
4董承远,陈世朴.单层膜的巨磁阻抗(GMI)效应[J].磁性材料及器件,2002,33(3):20-23. 被引量：4
-
5CAI XinLun,CHEN YuJie,YU SiYuan.Integrated photonic orbital angular momentum devices and systems:Potentials and challenges[J].Chinese Science Bulletin,2013,58(7):579-585. 被引量：1
-
6李祥,陈敏华,陈云飞.多级低压电渗流微泵的设计、加工及测试[J].中国制造业信息化（学术版）,2008,37(1):61-64.
-
7刘燿波,苑伟政,乔大勇,吴蒙,杨璇,练彬.A two-dimensional high-frequency electrostatic microscanner[J].Chinese Optics Letters,2013,11(11):79-82.
-
8欧剑.双值噪声与方波作用下半导体层杂质扩散诱导的随机共振[J].四川大学学报（自然科学版）,2016,53(2):331-336. 被引量：1
-
9刘文龙.氮化硅薄膜的制备技术综述[J].科技信息,2009(20).
-
10叶小亮.基于ZnO/Graphene纳米复合材料紫外光探测器的制备与实现[J].上海电机学院学报,2014,17(6):334-337.
