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HgCdTe注入过程温度特性研究
被引量:
1
A Study for the HgCdTe Temperature Characteristic in the Ion Implantation Process
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摘要
参照Si的电导率与杂质能级热激发的关系,提出了一种新的微型温度计。它可以测量HgCdTe注入过程中温度变化,精度为±0.1℃。实验表明注入靶流I=5μA,注入能量E=150keV为宜。
作者
刘心田
沈新华
刘志衡
刘兴海
诸君浩
方侠海
机构地区
中科院海技物所红外物理国家实验室
常州半导体厂
出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第5期301-304,共4页
Laser & Infrared
关键词
离子注入
碲镉汞
温度测量
分类号
TN213.06 [电子电信—物理电子学]
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激光与红外
1998年 第5期
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