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新工艺超越摩尔定律限制

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摘要美国莱斯大学（Rice University）和北卡罗莱纳州立大学的一个研究小组日前公布了一种新工艺：把分子贴到半导体硅表面。研究小组声称，这种方法有助于电子制造商超越当前摩尔定律的极限，从而可以制造出体积更小、性能更强的微处理器。

作者 Christina Nickolas

出处《今日电子》 2009年第10期23-23,共1页 Electronic Products

关键词摩尔定律工艺电子制造商州立大学微处理器硅表面半导体

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学] TP332 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]

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今日电子

2009年第10期

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